。金屬污染對芯片有害，所以應(yīng)避免裸晶圓片上有金屬污染。本文的研究目的是交流解決裸硅圓片上金屬污染問題的經(jīng)驗(yàn)，介紹如何使用互補(bǔ)性測量方法檢測裸硅圓片上的少量金屬污染物并找出問題根源，解釋從多個(gè)不同的檢測方法中選擇適合方法的難度，以及用壽命測量技術(shù)檢測污染物對熱處理的依賴性。 I.前言 本文旨
2021-02-23 17:08:39
4648 
半導(dǎo)體硅片是制造芯片的載體，因原材料為硅，又稱為硅晶片。規(guī)劃和無經(jīng)理硅提煉、提純、單晶硅生產(chǎn)、晶圓成型等工藝后，才能進(jìn)入芯片單路蝕刻等后續(xù)環(huán)節(jié)，是制造芯片的最重要的前置工藝。該概念主要包含：研發(fā)
2022-12-12 14:08:217824 
` 本帖最后由 firstchip 于 2015-1-20 10:54 編輯
北京飛特馳科技有限公司對外提供6英寸半導(dǎo)體工藝代工服務(wù)和工藝加工服務(wù)，包括：產(chǎn)品代工、短流程加工、單項(xiàng)工藝加工等
2015-01-07 16:15:47
本帖最后由 eehome 于 2013-1-5 09:51 編輯
半導(dǎo)體工藝
2012-08-20 09:02:05
有沒有半導(dǎo)體工藝方面的資料啊
2014-04-09 22:42:37
半導(dǎo)體發(fā)展至今，無論是從結(jié)構(gòu)和加工技術(shù)多方面都發(fā)生了很多的改進(jìn)，如同Gordon E. Moore老大哥預(yù)測的一樣，半導(dǎo)體器件的規(guī)格在不斷的縮小，芯片的集成度也在不斷提升，工藝制程從90nm
2020-12-10 06:55:40
業(yè)界對哪種半導(dǎo)體工藝最適合某一給定應(yīng)用存在著廣泛的爭論。雖然某種特殊工藝技術(shù)能更好地服務(wù)一些應(yīng)用，但其它工藝技術(shù)也有很大的應(yīng)用空間。像CMOS、BiCMOS、砷化鎵（GaAs）、磷化銦（InP
2019-07-05 08:13:58
業(yè)界對哪種半導(dǎo)體工藝最適合某一給定應(yīng)用存在著廣泛的爭論。雖然某種特殊工藝技術(shù)能更好地服務(wù)一些應(yīng)用，但其它工藝技術(shù)也有很大的應(yīng)用空間。像CMOS、BiCMOS、砷化鎵（GaAs）、磷化銦（InP
2019-08-20 08:01:20
半導(dǎo)體工藝講座ObjectiveAfter taking this course, you will able to? Use common semiconductor terminology
2009-11-18 11:31:10
半導(dǎo)體光刻蝕工藝
2021-02-05 09:41:23
以及降低成本。由于半導(dǎo)體制造的工藝性涉及多個(gè)行業(yè)，專門從事供應(yīng)的行業(yè)發(fā)展起來以提供硅片制造需要的化學(xué)材料和設(shè)備。眾多高技術(shù)公司于20世紀(jì)60年代成立：1968年，成立英特爾公司。1969年，成立AMD。20
2020-09-02 18:02:47
北京華林嘉業(yè)科技有限公司(簡稱CGB)，公司致力于為以下行業(yè)提供蝕刻、清洗、顯影、去膜、制絨、減薄等高品質(zhì)設(shè)備：半導(dǎo)體LED：硅片清洗機(jī)；硅片腐蝕機(jī)；硅片清洗腐蝕設(shè)備；基片濕處理設(shè)備；硅片清洗刻蝕
2011-04-13 13:23:10
半導(dǎo)體器件與工藝
2012-08-20 08:39:08
半導(dǎo)體材料市場構(gòu)成：在半導(dǎo)體材料市場構(gòu)成方面，大硅片占比最大，占比為32.9%。其次為氣體，占比為14.1%，光掩膜排名第三，占比 為12.6%，其后：分別為拋光液和拋光墊、光刻膠配套試劑、光刻膠、濕化學(xué)品、建設(shè)靶材，比分別為7.2%、6.9%、 6.1%、4%和3%。
2021-01-22 10:48:36
蘇州晶淼半導(dǎo)體設(shè)備有限公司致力于向客戶提供濕法制程刻蝕設(shè)備、清洗設(shè)備、高端PP/PVC通風(fēng)柜/廚、CDS化學(xué)品集中供液系統(tǒng)等一站式解決方案。我們的產(chǎn)品廣泛應(yīng)用與微電子、半導(dǎo)體、光伏、光通信、LED等
2016-09-06 13:53:08
功率半導(dǎo)體的熱管理對于元件運(yùn)行的可靠性和使用壽命至關(guān)重要。本設(shè)計(jì)實(shí)例介紹的愛普科斯(EPCOS)負(fù)溫度系數(shù)(NTC)和正溫度系數(shù)(PTC)熱敏電阻系列，可以幫助客戶可靠地監(jiān)測半導(dǎo)體元件的溫度。
2020-08-19 06:50:50
蘇州華林科納半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)有限公司成立于2008年3月，投資4500萬元。主要從事半導(dǎo)體、太陽能、FPD領(lǐng)域濕制程設(shè)備的設(shè)計(jì)、研發(fā)、生產(chǎn)及銷售；同時(shí)代理半導(dǎo)體、太陽能、FPD領(lǐng)域其它國外設(shè)備，負(fù)責(zé)
2015-04-02 17:21:04
，自由電子為多數(shù)載流子，空穴為少數(shù)載流子;在P型半導(dǎo)體中，空穴為多數(shù)載流子，自由電子為少數(shù)載流子。PN結(jié)的形成采用某種工藝，可以將P型半導(dǎo)體和N型半導(dǎo)體制作在同一塊硅片上。由于濃度差，會(huì)產(chǎn)生擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)
2020-06-27 08:54:06
蘇州華林科納半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)有限公司成立于2008年3月，投資4500萬元。主要從事半導(dǎo)體、太陽能、FPD領(lǐng)域濕制程設(shè)備的設(shè)計(jì)、研發(fā)、生產(chǎn)及銷售；同時(shí)代理半導(dǎo)體、太陽能、FPD領(lǐng)域其它國外設(shè)備，負(fù)責(zé)
2015-04-02 17:23:36
的復(fù)雜性,而大多數(shù)半導(dǎo)體制造過程包含許多非線性且復(fù)雜的化學(xué)與物理反應(yīng)，難以建立其制造模型,加上檢測技術(shù)的缺乏,造成無法及時(shí)得知工藝過程狀態(tài)而難以對其進(jìn)行有效監(jiān)控。因此,當(dāng)半導(dǎo)體制造進(jìn)入8英寸、12英寸
2018-08-29 10:28:14
一個(gè)比較經(jīng)典的半導(dǎo)體工藝制作的課件，英文的，供交流……
2012-02-26 13:12:24
`《半導(dǎo)體制造工藝》學(xué)習(xí)筆記`
2012-08-20 19:40:32
將全面介紹濕化學(xué)工藝的應(yīng)用以及從這些分析技術(shù)中獲得的數(shù)據(jù)的有用性。這篇論文不僅將涵蓋人們期望通過濕法進(jìn)行的那些測試，例如化學(xué)品中的金屬分析，還將涵蓋濕化學(xué)分析的許多不尋常應(yīng)用，例如它們在評估來自各種
2021-07-09 11:30:18
摘要：半導(dǎo)體是電阻率 (p) 和電導(dǎo)率介于導(dǎo)體和絕緣體之間的元素或元素組合。導(dǎo)體的電阻率在 10-8 和10-12 Q cm之間：絕緣體 109 和1019 Q cm，而半導(dǎo)體的電阻率在 10-5
2021-07-01 09:38:40
書籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章：CMOS 單元工藝編號：JFSJ-21-027作者：炬豐科技網(wǎng)址：http://www.wetsemi.com/index.html晶圓生產(chǎn)需要三個(gè)一般過程：硅
2021-07-06 09:32:40
的試劑，無論是單獨(dú)工作還是與其他化學(xué)品混合，對于半導(dǎo)體制造中的濕法清洗工藝。通過適當(dāng)?shù)膽?yīng)用，它可以避免使用一些需要在高溫下操作的高腐蝕性化學(xué)品，從而減少 CoO，包括化學(xué)品費(fèi)用、沖洗水量、安全問題
2021-07-06 09:36:27
書籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章：GaN、ZnO和SiC的濕法化學(xué)蝕刻編號：JFKJ-21-830作者：炬豐科技摘要寬帶隙半導(dǎo)體具有許多特性，使其對高功率、高溫器件應(yīng)用具有吸引力。本文綜述了三種
2021-10-14 11:48:31
各向異性（晶體）化學(xué)蝕刻是半導(dǎo)體器件的基礎(chǔ)工藝技術(shù)，其中小平面和小平面定義的幾何形狀決定了器件的特性。例子是：（1）具有原子級光滑面的光學(xué)設(shè)備（波導(dǎo)、激光器）減少損失（2）MEMS，其中幾何形狀可以通過
2021-07-08 13:09:52
齊全、自動(dòng)化程度高的清洗設(shè)備是實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量清洗效果的保證。 南通華林科納半導(dǎo)體設(shè)備有限公司設(shè)備有限公司已成功應(yīng)用于眾多用戶的生產(chǎn)線，并滿足了用戶的要求。 如有侵權(quán)，請聯(lián)系作者刪除`
2021-07-07 10:24:07
`書籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章：IC制造工藝編號：JFSJ-21-046作者：炬豐科技網(wǎng)址：http://www.wetsemi.com/index.html摘要：集成電路的制造主要包括以下工藝
2021-07-08 13:13:06
書籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章：III-V/SOI 波導(dǎo)電路的化學(xué)機(jī)械拋光工藝開發(fā)編號：JFSJ-21-064作者：炬豐科技網(wǎng)址：http://www.wetsemi.com
2021-07-08 13:14:11
書籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章：III-V族半導(dǎo)體納米線結(jié)構(gòu)的光子學(xué)特性編號：JFSJ-21-075作者：炬豐科技 摘要：III-V 族半導(dǎo)體納米線 (NW) 由于其沿納米線軸對電子和光子
2021-07-09 10:20:13
黃金。以上只是基于實(shí)驗(yàn)的基礎(chǔ)，實(shí)驗(yàn)設(shè)備也比較簡陋，如果再結(jié)合濕法清洗設(shè)備進(jìn)行蝕刻工藝，效果會(huì)有明顯的提高，南通華林科納半導(dǎo)體設(shè)備有限公司生產(chǎn)的濕法清洗設(shè)備能在各方面滿足要求，使清洗達(dá)到事半功倍的效果。 如有侵權(quán)，請聯(lián)系作者刪除
2021-07-09 10:23:37
書籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章：n-GaN的電化學(xué)和光刻編號：JFKJ-21-820作者：炬豐科技網(wǎng)址：http://www.wetsemi.com/index.html 摘要 本文利用
2021-10-13 14:43:35
測試，并且在錯(cuò)誤的情況下可能導(dǎo)致工藝失敗，因此，基于研究的重要性，不管從藥液還是設(shè)備都需選擇穩(wěn)定可靠的，而華林科納半導(dǎo)體設(shè)備有限公司在濕法刻蝕領(lǐng)域已有十幾年的經(jīng)驗(yàn)，其生產(chǎn)的設(shè)備功能完善，并能針對客戶的需求給出一系列的解決辦法跟方案。 如有侵權(quán)，請聯(lián)系作者刪除
2021-07-06 09:39:22
書籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章：用于半導(dǎo)體封裝基板的化學(xué)鍍 Ni-P/Pd/Au編號：JFSJ-21-077作者：炬豐科技 隨著便攜式電子設(shè)備的普及，BGA（球柵陣列）越來越多地用于安裝在高密度
2021-07-09 10:29:30
清潔 - 表面問題：金屬污染的起源：來源：設(shè)備、工藝、材料和人力，Si表面的過渡金屬沉淀是關(guān)鍵。去污：可以對一些暴露于堿或其他金屬污染物的基材進(jìn)行去污。晶片不得含有任何污染薄膜。這通常在硅的 KOH
2021-07-01 09:42:27
書籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章：硅納米柱與金屬輔助化學(xué)蝕刻的比較編號：JFSJ-21-015作者：炬豐科技網(wǎng)址：http://www.wetsemi.com/index.html摘要
2021-07-06 09:33:58
表面吸收濕氣。在潮濕環(huán)境中，CO2、H2S、SO2 和 HCl 等氣體會(huì)產(chǎn)生導(dǎo)致腐蝕的酸性介質(zhì)。它們被NH中和3或氫氧化鈉或石灰。12.一些化學(xué)品可以降低腐蝕速度。這些化學(xué)品稱為腐蝕抑制劑。它們有兩種
2021-07-01 09:40:10
半導(dǎo)體原材料/工序不良的原因- 預(yù)防半導(dǎo)體設(shè)備配件的品質(zhì)活動(dòng)- 查明原材料基因 FAB 工序不良的真正原因及改善活動(dòng)任職資格:- 本科及以上學(xué)歷，化學(xué)、化工、材料、新原材料、機(jī)械等相關(guān)專業(yè)- 有無
2013-05-08 15:02:12
我是南通華林科納半導(dǎo)體的，主要做半導(dǎo)體，太陽能，液晶LED，電子器件濕法工藝，各種清洗，濕制程設(shè)備。我們3月14日—16日去上海新國際博覽中心參加2017慕尼黑上海半導(dǎo)體展，有其他去的公司嗎，應(yīng)該
2017-03-04 11:50:42
哪種半導(dǎo)體工藝最適合某一指定應(yīng)用？對此，業(yè)界存在著廣泛的爭論。雖然某種特殊工藝技術(shù)能更好地服務(wù)一些應(yīng)用，但其它工藝技術(shù)也有很大的應(yīng)用空間。像CMOS、BiCMOS、砷化鎵（GaAs）、磷化銦（InP
2019-08-02 08:23:59
1、GaAs半導(dǎo)體材料可以分為元素半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體兩大類，元素半導(dǎo)體指硅、鍺單一元素形成的半導(dǎo)體，化合物指砷化鎵、磷化銦等化合物形成的半導(dǎo)體。砷化鎵的電子遷移速率比硅高5.7 倍，非常適合
2019-07-29 07:16:49
功率半導(dǎo)體器件以功率金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管(功率MOSFET，常簡寫為功率MOS)、絕緣柵雙極晶體管(IGBT)以及功率集成電路(power IC，常簡寫為PIC)為主。
2020-04-07 09:00:54
單芯片互補(bǔ)式金屬氧化物半導(dǎo)體（CMOS）傳感器有哪幾種？它們分別有什么應(yīng)用以及特點(diǎn)？
2021-06-17 08:54:54
寧波億諾化學(xué)品( ISO9001:2008認(rèn)證企業(yè)，提供高品質(zhì)的產(chǎn)品和服務(wù), 2,5-二溴-3-甲基吡啶 [2,5
2010-06-13 17:22:08
MESFET金屬半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管，后演變?yōu)镠EMT(高速電子遷移率晶體管)，pHEMT(介面應(yīng)變式高電子遷移電晶體)目前則為HBT(異質(zhì)接面雙載子晶體管)。異質(zhì)雙極晶體管(HBT)是無需負(fù)電源的砷化鎵組件
2016-09-15 11:28:41
這些可持續(xù)性項(xiàng)目是安森美半導(dǎo)體企業(yè)社會(huì)責(zé)任活動(dòng)的重要一環(huán)。每年，我們都會(huì)跟蹤150多個(gè)以減少碳排放、降低能耗、節(jié)水、減少使用化學(xué)品和減少廢物產(chǎn)生為目標(biāo)的項(xiàng)目。安森美半導(dǎo)體的企業(yè)社會(huì)責(zé)任大部分建基于我
2018-10-26 08:53:09
招聘蘇州華林科納半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)有限公司職位月薪：面議工作地點(diǎn)：蘇州工作性質(zhì)：全職工作經(jīng)驗(yàn)：1年以上最低學(xué)歷：大專招聘人數(shù)：5人 職位類別：銷售經(jīng)理職位描述要求：工作經(jīng)驗(yàn)：1年以上崗位職責(zé)：1、負(fù)責(zé)
2015-07-28 11:38:16
circuit technique ）（百度百科）電子集成技術(shù)按工藝方法分為以硅平面工藝為基礎(chǔ)的單片集成電路、以薄膜技術(shù)為基礎(chǔ)的薄膜集成電路和以絲網(wǎng)印刷技術(shù)為基礎(chǔ)的厚膜集成電路。 半導(dǎo)體工藝是集成電路工藝
2009-09-16 11:51:34
蘇州晶淼有限公司專業(yè)制作半導(dǎo)體設(shè)備、LED清洗腐蝕設(shè)備、硅片清洗、酸洗設(shè)備等王經(jīng)理***/13771786452
2016-07-20 11:58:26
基于Labview的7200T化學(xué)品船機(jī)艙監(jiān)測報(bào)警系統(tǒng) 有沒有大神能幫助一下，給點(diǎn)啟發(fā)，不知從何下手啊，謝謝大神
2013-01-14 15:40:07
本帖最后由 青島晶誠電子設(shè)備 于 2017-12-15 13:48 編輯
青島晶誠電子設(shè)備公司主營產(chǎn)品有：半導(dǎo)體設(shè)備（SemiconductorEquipment）：硅片清洗機(jī)/晶圓清洗機(jī)
2017-12-15 13:41:58
用785便攜拉曼光譜儀成功為知名化學(xué)醫(yī)藥企業(yè)測試化學(xué)品高利通科技GL-PRS-785便攜拉曼光譜儀能夠測量各式各樣的化學(xué)品的拉曼光譜。下面，我們對甲氧基苯甲酸粗品和羥基苯甲酸進(jìn)行了拉曼光譜檢測，可以
2017-10-19 11:22:26
絕大部分工藝都是相似的。各個(gè)工藝環(huán)節(jié)對純水的要求也是大同小異。我們在半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中常用到的電鍍銅，錫，鎳金;化學(xué)鍍鎳金;PTH/黑孔;表面處理蝕刻等生產(chǎn)過程都需要用到不同要求的純水?！ ?b class="flag-6" style="color: red">半導(dǎo)體用純水典型
2013-08-12 16:52:42
芯片制造-半導(dǎo)體工藝制程實(shí)用教程學(xué)習(xí)筆記[/hide]
2009-11-18 11:44:51
蘇州華林科納半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)有限公司成立于2008年3月，投資4500萬元。主要從事半導(dǎo)體、太陽能、FPD領(lǐng)域濕制程設(shè)備的設(shè)計(jì)、研發(fā)、生產(chǎn)及銷售；同時(shí)代理半導(dǎo)體、太陽能、FPD領(lǐng)域其它國外設(shè)備，負(fù)責(zé)
2015-04-02 17:26:21
公司名稱：蘇州華林科納半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)有限公司公司地址：蘇州工業(yè)園區(qū)啟月街288號公司電話：0512-62872541蘇州華林科納半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)有限公司主要從事半導(dǎo)體、太陽能、FPD領(lǐng)域濕制程設(shè)備
2016-10-26 17:05:04
深圳市薩科微半導(dǎo)體有限公司，技術(shù)骨干來自清華大學(xué)和韓國延世大學(xué)，掌握第三代半導(dǎo)體碳化硅功率器件國際領(lǐng)先的工藝，和第五代超快恢復(fù)功率二極管技術(shù)。薩科微slkor（www.slkormicro.com
2022-05-31 14:00:20
蘇州華林科納半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)有限公司成立于2008年3月，投資4500萬元。主要從事半導(dǎo)體、太陽能、FPD領(lǐng)域濕制程設(shè)備的設(shè)計(jì)、研發(fā)、生產(chǎn)及銷售；同時(shí)代理半導(dǎo)體、太陽能、FPD領(lǐng)域其它國外設(shè)備，負(fù)責(zé)
2015-04-02 17:22:46
試述為什么金屬的電阻溫度系數(shù)是正的而半導(dǎo)體的是負(fù)的？
2023-04-23 11:27:04
，元素半導(dǎo)體指硅、鍺單一元素形成的半導(dǎo)體，化合物指砷化鎵、磷化銦等化合物形成的半導(dǎo)體。隨著無線通信的發(fā)展，高頻電路應(yīng)用越來越廣，今天我們來介紹適合用于射頻、微波等高頻電路的半導(dǎo)體材料及工藝情況。
2019-06-27 06:18:41
一、劇毒化學(xué)品的判定界限1.劇毒化學(xué)品的定義劇毒化學(xué)品是指具有非常劇烈毒性危害的化學(xué)品，包括人工合成的化學(xué)品及其混合物（含農(nóng)藥）和天然毒素。2.劇毒化學(xué)品毒
2009-04-09 21:59:51
0 、無機(jī)化學(xué)品、有機(jī)化學(xué)品、有機(jī)溶劑、清洗劑、半導(dǎo)體、超純水、電子產(chǎn)品、平板玻璃、硅晶片、等產(chǎn)品進(jìn)行在線顆粒監(jiān)測和分析。產(chǎn)品優(yōu)勢：在線優(yōu)勢：在線化學(xué)品液體微粒子計(jì)數(shù)器為生產(chǎn)
2022-12-14 11:37:02
、無機(jī)化學(xué)品、有機(jī)化學(xué)品、有機(jī)溶劑、清洗劑、半導(dǎo)體、超純水、電子產(chǎn)品、平板玻璃、硅晶片、等產(chǎn)品進(jìn)行在線顆粒監(jiān)測和分析。產(chǎn)品優(yōu)勢：在線優(yōu)勢：MPS-100A化學(xué)品、光刻
2023-01-03 15:30:32
半導(dǎo)體各工藝簡介:1、單晶硅片的制備CZ法主要工藝工程: 籽晶熔接: 加大加熱功率，使多晶硅完全熔化，并揮發(fā)一定時(shí)間后，將籽晶下降與液面接近，使籽晶預(yù)熱幾分鐘
2009-11-24 17:57:1249 寧夏銀和半導(dǎo)體科技有限公司8英寸半導(dǎo)體硅片項(xiàng)目進(jìn)入設(shè)備裝配期，8英寸半導(dǎo)體級單晶硅片將于6月份試生產(chǎn)。
2018-04-21 16:44:002095 硅是目前最主要的 半導(dǎo)體 基礎(chǔ)材料，90%以上的半導(dǎo)體芯片產(chǎn)品是用 硅片 制作出來的。隨著半導(dǎo)體行業(yè)重回景氣周期，2017年全球銷售額已超4000億美元，半導(dǎo)體硅片量價(jià)齊升。其中，12吋硅片占主流，8吋硅片需求穩(wěn)中有升。并且硅片供不應(yīng)求的局面將長期持續(xù)。
2018-05-03 09:11:011509 本文檔的主要內(nèi)容詳細(xì)介紹的是半導(dǎo)體制造工藝教程的詳細(xì)資料免費(fèi)下載主要內(nèi)容包括了：1.1 引言 1.2基本半導(dǎo)體元器件結(jié)構(gòu) 1.3半導(dǎo)體器件工藝的發(fā)展歷史 1.4集成電路制造階段 1.5半導(dǎo)體制造企業(yè) 1.6基本的半導(dǎo)體材料 1.7 半導(dǎo)體制造中使用的化學(xué)品 1.8芯片制造的生產(chǎn)環(huán)境
2018-11-19 08:00:00200 半導(dǎo)體廠主要生產(chǎn)半導(dǎo)體原材料，比較高純度的硅，在提煉硅的時(shí)候，可能存在空氣和水污染?？諝?b class="flag-6" style="color: red">污染主要來源于在處理過程中揮發(fā)出來的酸性氣體，水污染除了有加工使用的化學(xué)物質(zhì)外，還可能帶來重金屬的污染。
2019-03-27 17:14:4625491 近日，芯恩（青島）集成電路有限公司董事長張汝京博士在談到中國半導(dǎo)體材料現(xiàn)狀時(shí)表示，國內(nèi)光刻膠、特種化學(xué)品以及光掩膜版是缺少的。但國產(chǎn)硅片和特種氣體發(fā)展得很好。
2019-09-18 14:28:344870 化學(xué)品在儲(chǔ)存或者運(yùn)輸?shù)倪^程中一般是需要使用到專用的容器，為了防止化學(xué)品發(fā)生泄露， 那么按照正常的標(biāo)準(zhǔn)來說就需要嚴(yán)格做到良好的容器密封性，就可以保證化學(xué)品在儲(chǔ)存或者運(yùn)輸?shù)倪^程中會(huì)安全穩(wěn)定，其實(shí)不然
2020-08-11 10:25:05631 還是集中在200mm(8英寸）或以下尺寸，300mm半導(dǎo)體硅片幾乎全部依賴進(jìn)口。 半導(dǎo)體的材料主要包括硅片、電子氣體、光掩膜、光刻膠配套化學(xué)品、拋光材料、光刻膠、濕法化學(xué)品與濺射靶材等。其中硅片約占半導(dǎo)體制造材料的三分之一，90%以上的半導(dǎo)體產(chǎn)
2021-01-29 12:17:402251 半導(dǎo)體工藝化學(xué)原理。
2021-03-19 17:07:23111 近年來，在半導(dǎo)體工業(yè)中，逐漸確立了將臭氧運(yùn)用于晶圓清洗工藝中，這主要是利用了臭氧在水相中氧化有機(jī)污染物和金屬污染物的性能。
2021-09-27 17:39:032292 書籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》 文章：金屬氧化物半導(dǎo)體的制造 編號：JFKJ-21-207 作者：炬豐科技 概述 CMOS制造工藝概述 ? CMOS制造工藝流程 ? 設(shè)計(jì)規(guī)則 ? 互補(bǔ)金屬氧化物
2023-04-20 11:16:00248 
[技術(shù)領(lǐng)域] 本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，具體地說是一種酸性化學(xué)品供應(yīng)控制系 統(tǒng)。 由于半導(dǎo)體行業(yè)中芯片生產(chǎn)線的工作對象是硅晶片，而能在硅晶片上蝕刻圖形 以及清洗硅晶片上的雜質(zhì)、微粒子的化學(xué)品
2023-04-20 13:57:0074 本方法一般涉及半導(dǎo)體的制造，更具體地說，涉及在生產(chǎn)最終半導(dǎo)體產(chǎn)品如集成電路的過程中清洗半導(dǎo)體或 硅晶片，由此中間清洗步驟去除在先前處理步驟中沉積在相關(guān)硅晶片表面上的污染物。
2021-12-20 17:21:051171 
氫氧化鉀(KOH)是一種用于各向異性濕法蝕刻技術(shù)的堿金屬氫氧化物，是用于微加工硅片的最常用的硅蝕刻化學(xué)物質(zhì)之一。各向異性蝕刻優(yōu)先侵蝕基底。也就是說，它們在某些方向上的蝕刻速率比在其他方向上的蝕刻速率
2022-01-11 11:50:332152 
半導(dǎo)體制造工業(yè)中的濕法清洗/蝕刻工藝用于通過使用高純化學(xué)品清洗或蝕刻來去除晶片上的顆?；蛉毕?。擴(kuò)散、光和化學(xué)氣相沉積(CVD)、剝離、蝕刻、聚合物處理、清潔和旋轉(zhuǎn)擦洗之前有預(yù)清潔作為濕法清潔/蝕刻工藝
2022-02-22 13:47:511696 
摘要 提供了清潔覆蓋半導(dǎo)體襯底的金屬區(qū)域的方法。文章全部詳情：壹叁叁伍捌零陸肆叁叁叁從金屬區(qū)域去除材料的方法包括加熱金屬區(qū)域，由包含氫氣和二氧化碳的氣體形成等離子體，以及將金屬區(qū)域暴露于等離子體
2022-02-24 13:45:53946 
摘要 處理納米級顆粒污染仍然是半導(dǎo)體器件制造過程中的主要挑戰(zhàn)之一。對于越來越多的關(guān)鍵處理步驟而言尤其如此，在這些步驟中，需要去除顆粒物質(zhì)的殘留物而不會(huì)對敏感器件圖案造成機(jī)械損壞，同時(shí)實(shí)現(xiàn)盡可能
2022-03-01 14:35:08364 
本文通過繪制少數(shù)載流子擴(kuò)散長度、體中鐵濃度和表面污染（表面電荷和表面重組），介紹了表面光電電壓(SPV)在監(jiān)測化學(xué)清洗和化學(xué)品純度方面的應(yīng)用。新的SPV方法和精密儀器的非接觸性、晶片級的特性使該技術(shù)
2022-03-09 14:38:22715 
半導(dǎo)體制造工業(yè)中的濕法清洗/蝕刻工藝用于通過使用高純化學(xué)品清洗或蝕刻來去除晶片上的顆?；蛉毕?。擴(kuò)散、光和化學(xué)氣相沉積(CVD)、剝離、蝕刻、聚合物處理、清潔和旋轉(zhuǎn)擦洗之前有預(yù)清潔作為濕法清潔/蝕刻工藝
2022-04-21 12:27:43589 
濕電子化學(xué)品是微電子制造技術(shù)的關(guān)鍵性材料，在顯影、蝕刻、清洗等工藝中必不可少，直接關(guān)系到下游產(chǎn)品質(zhì)量。由于處于精細(xì)化工和電子信息行業(yè)交叉的領(lǐng)域，其專業(yè)跨度大，技術(shù)門檻高，被德國、美國和日本的知名企業(yè)占據(jù)著高端市場大部分份額。
2022-06-06 10:46:334767 硅片是芯片的起點(diǎn)，2021年全球半導(dǎo)體硅片市場規(guī)模達(dá)140億美元，行業(yè)高度集中，CR5市場份額接近90%。硅片是用量最大的半導(dǎo)體材料， 90%以上半導(dǎo)體產(chǎn)品使用硅片制造。隨著5G、新能源、AIoT
2022-10-09 16:10:212128 單晶硅錠經(jīng)過切片、研磨、蝕刻、拋光、外延（如有）、鍵合（如有）、清洗等工藝步驟，制造成為半導(dǎo)體硅片。在生產(chǎn)環(huán)節(jié)中，半導(dǎo)體硅片需要盡可能地減少晶體缺陷，保持極高的平整度與表面潔凈度，以保證集成電路或半導(dǎo)體器件的可靠性。
2022-11-02 09:26:274255 本篇要講的金屬布線工藝，與前面提到的光刻、刻蝕、沉積等獨(dú)立的工藝不同。在半導(dǎo)體制程中，光刻、刻蝕等工藝，其實(shí)是為了金屬布線才進(jìn)行的。在金屬布線過程中，會(huì)采用很多與之前的電子元器件層性質(zhì)不同的配線材料（金屬）。
2023-04-25 10:38:49986 
晶圓表面的潔凈度對于后續(xù)半導(dǎo)體工藝以及產(chǎn)品合格率會(huì)造成一定程度的影響，最常見的主要污染包括金屬、有機(jī)物及顆粒狀粒子的殘留，而污染分析的結(jié)果可用以反應(yīng)某一工藝步驟、特定機(jī)臺(tái)或是整體工藝中所遭遇的污染
2023-06-06 10:29:151093 
半導(dǎo)體同時(shí)具有“導(dǎo)體”的特性，因此允許電流通過，而絕緣體則不允許電流通過。離子注入工藝將雜質(zhì)添加到純硅中，使其具有導(dǎo)電性能。我們可以根據(jù)實(shí)際需要使半導(dǎo)體導(dǎo)電或絕緣。 重復(fù)光刻、刻蝕和離子注入步驟會(huì)在
2023-07-03 10:21:572170 
的影響。高純PFA擴(kuò)口接頭采用高度純凈的PFA材料制造，確保管道系統(tǒng)中的流體不受雜質(zhì)污染。這種高純度的材料選擇有助于維持制程的穩(wěn)定性，降低產(chǎn)物缺陷率，從而提高光伏器件的性能和效率。 其次，半導(dǎo)體光伏工藝涉及許多化學(xué)反應(yīng)和腐蝕性
2023-08-14 16:51:29276 濕法腐蝕在半導(dǎo)體工藝里面占有很重要的一塊。不懂化學(xué)的芯片工程師是做不好芯片工藝的。
2023-08-30 10:09:041705 
很多半導(dǎo)體、光伏行業(yè)的制造企業(yè)在選擇化學(xué)品酸堿輸送供應(yīng)管道時(shí)，都喜歡選擇華林科納的高純PFA管，選擇華林科納生產(chǎn)的高純PFA管作為化學(xué)品酸堿輸送供應(yīng)管道有以下幾個(gè)重要原因： 1、優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性
2023-09-13 17:29:48266 管在半導(dǎo)體和太陽能光伏領(lǐng)域的應(yīng)用與優(yōu)勢備受關(guān)注。 華林科納是一家專注于生產(chǎn)高性能氟化共聚物材料的公司。其生產(chǎn)的PFA管具有優(yōu)異的耐化學(xué)腐蝕、耐高溫、低摩擦系數(shù)和高絕緣性能等特性。在半導(dǎo)體和太陽能光伏領(lǐng)域，華林科納的PFA管具
2023-10-17 10:19:25199 隨著科技的不斷發(fā)展，半導(dǎo)體技術(shù)在全球范圍內(nèi)得到了廣泛應(yīng)用。半導(dǎo)體設(shè)備在制造過程中需要經(jīng)過多個(gè)工藝步驟，而每個(gè)步驟都需要使用到各種不同的材料和設(shè)備。其中，華林科納的PFA管在半導(dǎo)體清洗工藝中扮演著
2023-10-16 15:34:34258 半導(dǎo)體硅片行業(yè)深度報(bào)告
2023-01-13 09:06:496 半導(dǎo)體前端工藝：第六篇（完結(jié)篇）：金屬布線 —— 為半導(dǎo)體注入生命的連接
2023-11-27 16:11:35254 
晶圓表面的潔凈度對于后續(xù)半導(dǎo)體工藝以及產(chǎn)品合格率會(huì)造成一定程度的影響，最常見的主要污染包括金屬、有機(jī)物及顆粒狀粒子的殘留，而污染分析的結(jié)果可用以反應(yīng)某一工藝步驟、特定機(jī)臺(tái)或是整體工藝中所遭遇的污染程度與種類。
2024-02-23 17:34:23323 
電子發(fā)燒友App
工商網(wǎng)監(jiān)
評論