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GaN-on-Si技術(shù)助力降低LED及功率元件成本

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報(bào)名 | 寬禁帶半導(dǎo)體(SiC、GaN)電力電子技術(shù)應(yīng)用交流會(huì)

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2010-03-27 09:31:46682

Si襯底設(shè)計(jì)的功率GaNLED制造技術(shù)

目前日本日亞公司壟斷了藍(lán)寶石襯底上GaNLED專利技術(shù),美國CREE公司壟斷了SiC襯底上GaNLED專利技術(shù)。因此,研發(fā)其他襯底上的GaNLED生產(chǎn)技術(shù)成為國際上的一個(gè)熱點(diǎn)。南昌大學(xué)
2010-06-07 11:27:281388

硅基GaN藍(lán)光LED外延材料轉(zhuǎn)移前后性能

利用外延片焊接技術(shù),把Si(111)襯底上生長的GaN藍(lán)光LED外延材料壓焊到新的Si襯底上.在去除原Si襯底和外延材料中緩沖層后,制備了垂直結(jié)構(gòu)GaN藍(lán)光LED.與外延材料未轉(zhuǎn)移的同側(cè)結(jié)構(gòu)相比,轉(zhuǎn)移
2011-04-14 13:29:3429

Transphorm發(fā)布耐壓為600V的GaN功率元件

美國Transphorm公司發(fā)布了耐壓為600V的GaN功率元件。該公司是以美國加州大學(xué)圣塔巴巴拉分校(UCSB)的GaN元器件研究人員為核心創(chuàng)建的風(fēng)險(xiǎn)企業(yè),因美國谷歌向其出資而備受功率半導(dǎo)體
2012-05-18 11:43:441931

SOITEC與四聯(lián)合作開發(fā)GaN晶片 大大降低LED成本

SOITEC與重慶四聯(lián)光電就共同使用HVPE制造氮化鎵(GaN)達(dá)成了協(xié)議。GaN晶體模板在LED的生產(chǎn)中能大大降低成本。
2012-07-10 15:36:06918

安森美開發(fā)下一代GaN-on-Si功率器件

安森美半導(dǎo)體(ON Semiconductor)加入了領(lǐng)先納米電子研究中心imec的多合作伙伴業(yè)界研究及開發(fā)項(xiàng)目,共同開發(fā)下一代硅基氮化鎵(GaN-on-Si功率器件。
2012-10-10 13:41:31970

AZZURRO副總裁Erwin Ysewijn:推廣大尺寸GaN-on-Si晶圓 訴求生產(chǎn)時(shí)間與成本雙贏

來自德國的AZZURRO成立于2003年,主要是提供新型態(tài)晶圓給功率半導(dǎo)體與LED廠商使用。AZZURRO擁有獨(dú)家專利氮化鎵上矽(GaN-on-Si)的技術(shù)。
2012-10-22 10:54:411198

使用GaN基板將GaN功率元件FOM減至1/3

松下在GaN基板產(chǎn)品和Si基板產(chǎn)品方面試制了2.1mm×2.0mm測試芯片做了比較。Si基板產(chǎn)品的導(dǎo)通電阻為150mΩ,GaN基板產(chǎn)品的導(dǎo)通電阻為100mΩ。Qoss方面,Si基板產(chǎn)品為18.3nC
2016-12-12 10:15:212348

控制多LED功率成本eng

控制多LED功率成本eng
2017-04-13 09:22:180

恩智浦推出GaNSi-LDMOS技術(shù),助力下一代5G蜂窩網(wǎng)絡(luò)發(fā)展

21IC訊 恩智浦半導(dǎo)體擴(kuò)展其豐富的GaN和硅橫向擴(kuò)散金屬氧化物半導(dǎo)體(Si-LDMOS)蜂窩基礎(chǔ)設(shè)施產(chǎn)品組合,推動(dòng)創(chuàng)新,以緊湊的封裝提供行業(yè)領(lǐng)先的性能,助力下一代5G蜂窩網(wǎng)絡(luò)發(fā)展。
2018-06-29 10:30:001973

射頻半導(dǎo)體技術(shù)的制造和成本效益的突破

射頻半導(dǎo)體技術(shù)的市場格局近年發(fā)生了顯著變化。 數(shù)十年來,橫向擴(kuò)散金屬氧化物半導(dǎo)體(LDMOS)技術(shù)在商業(yè)應(yīng)用中的射頻半導(dǎo)體市場領(lǐng)域起主導(dǎo)作用。如今,這種平衡發(fā)生了轉(zhuǎn)變,硅基氮化鎵(GaN-on-Si
2018-03-26 10:27:001243

老品牌企業(yè)復(fù)興 硅基GaN技術(shù)的應(yīng)用

在蜂窩網(wǎng)絡(luò)應(yīng)用當(dāng)中,市場需要提高數(shù)據(jù)容量,但不能忍受成本的大幅提升。與LDMOS相比,Macom的硅基GaN技術(shù)能夠以更小的封裝提供更高的功率和能效,實(shí)現(xiàn)提高容量并降低成本的效果。以目前中國的4G基站為例,如果全部替換成GaN技術(shù),300萬個(gè)基站每年總共可以節(jié)省數(shù)十億元的費(fèi)用。
2018-05-30 03:05:001196

氮化鎵GaN功率元件產(chǎn)業(yè)逐步發(fā)展

2016年氮化鎵(GaN)功率元件產(chǎn)業(yè)規(guī)模約為1,200萬美元,研究機(jī)構(gòu)Yole Développemen研究顯示預(yù)計(jì)到2022年該市場將成長到4.6億美元,年復(fù)合成長率高達(dá)79%。
2018-05-22 17:02:218235

浙大首次報(bào)道垂直GaN功率整流器

浙江大學(xué)近期首次報(bào)道了沒有電流折疊(即沒有動(dòng)態(tài)導(dǎo)通電阻降低)的垂直GaN功率整流器(GaN-on-GaN)。這款功率整流器即使在從高反向應(yīng)力偏置切換到500V后也僅需200ns,性能也超過了目前最先進(jìn)的硅(GaN-on-Si)器件上的橫向氮化鎵。
2018-10-26 17:28:514990

5G催生第三代半導(dǎo)體材料利好,GaN將脫穎而出

面積大幅減少,并簡化周邊電路設(shè)計(jì),達(dá)成減少模塊、系統(tǒng)周邊零組件及冷卻系統(tǒng)體積目標(biāo),GaN應(yīng)用范圍包括射頻、半導(dǎo)體照明、激光器等領(lǐng)域。 現(xiàn)行GaN功率元件GaN-on-SiC及GaN-on-Si兩種晶圓進(jìn)行制造,其中GaN-on-SiC強(qiáng)調(diào)適合應(yīng)用在高溫、高頻的操作環(huán)境,因此在散熱性能
2018-11-09 11:44:01220

意法半導(dǎo)體展示其在功率GaN方面的研發(fā)進(jìn)展

今年9月,意法半導(dǎo)體展示了其在功率GaN方面的研發(fā)進(jìn)展,并宣布將建設(shè)一條完全合格的生產(chǎn)線,包括GaN-on-Si異質(zhì)外延。
2018-12-18 16:52:144894

探析各大GaN功率半導(dǎo)體廠商

GaN材料原先被用為如藍(lán)色LEDLED類產(chǎn)品的主要原料,但是由于GaN具有高硬度與高能隙的特性,并且GaN功率元件可以在硅基質(zhì)上成長,在面積與整體成本考量上,也具有比碳化硅元件更劃算的可能性。
2019-01-08 15:30:307150

硅上的氮化鎵LED在敏感型住宅市場的發(fā)展

本文將概述GaN在硅的開發(fā)方面的最新技術(shù),以及通過利用大批量,大尺寸,晶圓尺寸的半導(dǎo)體加工技術(shù),它可以降低生產(chǎn)成本。在英國,Plessey Semiconductors是首批在Si晶圓上使用GaN
2019-03-13 08:54:003755

電信和國防市場推動(dòng)射頻氮化鎵(RF GaN)應(yīng)用

自從20年前第一批商用產(chǎn)品問世,GaN在射頻功率應(yīng)用領(lǐng)域已成為LDMOS和GaAs的重要競爭對手,并且,正在以更低的成本不斷提高性能和可靠性。首批GaN-on-SiC和GaN-on-Si器件幾乎同時(shí)
2019-05-09 10:25:184319

GaN功率電子器件的技術(shù)路線

目前世界范圍內(nèi)圍繞著GaN功率電子器件的研發(fā)工作主要分為兩大技術(shù)路線,一是在自支撐Ga N襯底上制作垂直導(dǎo)通型器件的技術(shù)路線,另一是在Si襯底上制作平面導(dǎo)通型器件的技術(shù)路線。
2019-08-01 15:00:037275

針對輸出 功率效率優(yōu)化的新系列高功率白光LED

增加了四款新產(chǎn)品硅氮化鎵(GaN-on-Si)高功率白光LED。 TL1L4-DW0,TL1L4-NT0,TL1L4-NW0和TL1L4-WH0有助于提高發(fā)光效率并降低LED照明的功耗。新型TL1L4系列
2019-08-09 15:21:401945

Gan-ON-SI中負(fù)偏壓引起的閾值電壓不穩(wěn)定性的論文免費(fèi)下載

本文報(bào)道了一個(gè)深入研究的負(fù)閾值電壓不穩(wěn)定性的gan-on-si金屬絕緣體半導(dǎo)體高電子遷移率晶體管部分凹陷algan。基于一組在不同溫度下進(jìn)行的應(yīng)力/恢復(fù)實(shí)驗(yàn),我們證明:1)在高溫和負(fù)柵偏壓(-10v
2019-10-09 08:00:002

英特爾和Macom是射頻GaN-on-Si專利大戶

根據(jù)分析機(jī)構(gòu) Yole 的數(shù)據(jù)顯示,英特爾和 Macom 在射頻的GaN-on-Si 專利領(lǐng)域處于領(lǐng)先地位。
2020-03-01 19:45:152726

上海芯元基新型GaN復(fù)合襯底的制備技術(shù)

科技半導(dǎo)體公司提出的GaN基復(fù)合襯底技術(shù),結(jié)合企業(yè)自身的LED芯片技術(shù),在大大提高LED出光效率的同時(shí),還能大幅降低高端LED芯片的生產(chǎn)成本,改進(jìn)現(xiàn)有LED的產(chǎn)業(yè)鏈結(jié)構(gòu),同時(shí)該技術(shù)還可擴(kuò)展應(yīng)用到GaN功率器件和MicroLED領(lǐng)域。
2020-04-17 16:37:573363

MACOM的高功率陸續(xù)波和線性產(chǎn)品有著廣泛的應(yīng)用

MACOM是世界上唯一的RF上GaN-on-Si技術(shù)供給商。 MACOM供給普遍的陸續(xù)波(CW)硅上GaN射頻功率放大器產(chǎn)品,這些產(chǎn)品是設(shè)計(jì)用于DC至6 GHz的別離器件和模塊。 MACOM的高功率
2020-07-17 09:26:49446

基于標(biāo)準(zhǔn)200mm Si平臺(tái)的顛覆性3D LED技術(shù)

Aledia于2011年從Cea-Leti剝離出來,開發(fā)了一種基于標(biāo)準(zhǔn)200mm Si平臺(tái)的顛覆性3D?LED技術(shù),與傳統(tǒng)的2D?LED技術(shù)相比,這將降低每片芯片的成本。今年初,這家初創(chuàng)公司宣布
2021-03-30 16:37:202990

GaN-on-Si芯片有望在今年為蘋果生產(chǎn)相應(yīng)的產(chǎn)品

1月5日消息,知名供應(yīng)鏈媒體 Digitimes 昨日報(bào)道稱,Unikorn 開始生產(chǎn) 100W 的 GaN-on-Si 芯片,且有望在今年為蘋果生產(chǎn)相應(yīng)的產(chǎn)品。當(dāng)然,蘋果的 GaN 充電器大概率是用于 Mac 系列電腦而非手機(jī),
2021-01-05 10:40:331564

探究Si襯底的功率GaNLED制造技術(shù)

介紹了Si襯底功率GaNLED芯片和封裝制造技術(shù),分析了Si襯底功率GaNLED芯片制造和封裝工藝及關(guān)鍵技術(shù),提供了
2021-04-21 09:55:203870

用于1kW以上電機(jī)驅(qū)動(dòng)應(yīng)用的集成電路GaN逆變器

與硅 MOSFET 相比,電氣端子可以更接近 10 倍。這導(dǎo)致 GaN 和硅之間有一個(gè)明顯的區(qū)別因素:中壓 GaN 器件可以建立在平面技術(shù)上,而這對于硅器件來說成本過高。為了具有競爭力,硅器件采用垂直技術(shù)制造,因此在同一芯片中不可能有兩個(gè)功率器件。EPC 的 GaN-on-Si 平面技術(shù)沒有這個(gè)必須垂直構(gòu)建的限制,
2022-07-29 11:12:341625

GaN扼殺的硅、分立功率器件

四十年來,隨著功率 MOSFET 結(jié)構(gòu)、技術(shù)和電路拓?fù)涞膭?chuàng)新與不斷增長的電力需求保持同步,電源管理效率和成本穩(wěn)步提高。然而,在新千年中,隨著硅功率 MOSFET 接近其理論界限,改進(jìn)速度已顯著放緩
2022-08-04 11:17:55587

功率 GaN 技術(shù)和銅夾封裝

的限制,并且高溫性能和低電流特性較差。高壓 Si FET 在頻率和高溫性能方面也受到限制。因此,設(shè)計(jì)人員越來越多地尋求采用高效銅夾封裝的寬帶隙 (WBG) 半導(dǎo)體。 功率氮化鎵技術(shù) GaN 技術(shù),特別是 GaN-on-Silicon (GaN-on-Si) 高電子遷移率晶體
2022-08-04 09:52:161078

GaN-on-Si功率 LED 芯片技術(shù)如何改變燈具設(shè)計(jì)

微反射器和預(yù)聚焦 LED 制造工藝顯著節(jié)省空間
2022-08-24 18:04:59969

氮化鎵(GaN)功率半導(dǎo)體之預(yù)測

可以在各種襯底上生長,包括藍(lán)寶石、碳化硅(SiC)和硅(Si)。在硅上生長氮化鎵(GaN)外延層可以使用現(xiàn)有的硅制造基礎(chǔ)設(shè)施,從而 無需使用高成本的特定生產(chǎn)設(shè)施,而且以低成本采用大直徑的硅晶片。 GaN power semiconductor 2023 predictions一文有
2023-02-15 16:19:060

功率 GaN 技術(shù):高效功率轉(zhuǎn)換的需求-AN90021

功率 GaN 技術(shù):高效功率轉(zhuǎn)換的需求-AN90021
2023-02-17 19:43:381

探索GaN-on-Si技術(shù)難點(diǎn)

GaN-on-Si LED技術(shù)是行業(yè)夢寐以求的技術(shù)。首先,硅是地殼含量第二的元素,物理和化學(xué)性能良好,在大尺寸硅襯底上制作氮化鎵LED的綜合成本可以降低25%;
2023-03-10 09:04:16886

絕緣柵SiGaN平面器件關(guān)鍵工藝

傳統(tǒng)GaN-on-Si功率器件歐姆接觸主要采用Ti/Al/X/Au多層金屬體系,其中X金屬可為Ni,Mo,PT,Ti等。這種傳統(tǒng)有Au歐姆接觸通常采用高溫退火工藝(>800℃),第1層Ti在常溫下
2023-04-29 16:46:00735

學(xué)技術(shù) | 氮化鎵(GaN)與硅(Si)的MOS開關(guān)比較

付出更大的成本?本文會(huì)以適配器(Adaptor)的應(yīng)用來做說明。圖1目標(biāo)產(chǎn)品應(yīng)用種類氮化鎵(GaN)是橫向結(jié)構(gòu)的功率元件,其具有小于硅(Si)的十分之一以下的閘極電荷(
2022-12-09 14:41:082746

SiGaN功率器件制備技術(shù)與集成

寬禁帶半導(dǎo)體GaN能夠在更高電壓、更高頻率以及更高的溫度下工作,在高效功率轉(zhuǎn)換,射頻功放,以及極端環(huán)境電子應(yīng)用方面具有優(yōu)異的材料優(yōu)勢。
2023-08-09 16:10:10555

AlGaN/GaN結(jié)構(gòu)的氧基數(shù)字蝕刻

寬帶隙GaN基高電子遷移率晶體管(HEMTs)和場效應(yīng)晶體管(fet)能夠提供比傳統(tǒng)Si基高功率器件更高的擊穿電壓和電子遷移率。常關(guān)GaN非常需要HEMT來降低功率并簡化電路和系統(tǒng)架構(gòu),這是GaN HEMT技術(shù)的主要挑戰(zhàn)之一。凹進(jìn)的AlGaN/GaN結(jié)構(gòu)是實(shí)現(xiàn)常關(guān)操作的有用選擇之一。
2023-10-10 16:21:11292

成本降低70%!國產(chǎn)高壓GaN又有新成果

保證了HEMT器件產(chǎn)品在0-850V的電壓區(qū)間上的安全穩(wěn)定工作,在國內(nèi)市場中位居前列。利用芯生代的GaN-on-Si外延片,可開發(fā)出650V、900V、以及1200V HEMT產(chǎn)品,推動(dòng)氮化鎵向更高壓、更高功率應(yīng)用領(lǐng)域邁進(jìn)。
2023-11-16 11:56:22596

成本垂直GaN功率器件研究

隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,垂直GaN功率器件逐漸憑借其優(yōu)勢逐漸應(yīng)用在更多的領(lǐng)域中。高質(zhì)量的GaN單晶材料是制備高性能器件的基礎(chǔ)。
2023-12-27 09:32:54374

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