中科院聯(lián)合多個科技公司研發(fā)出了一款22nm分辨率的光刻機

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中芯國際接連取得突破，打破西方光刻機封鎖，勝利女神在招手！在我國半導體行業(yè)內(nèi)，一直存在著一個重大問題，那就是我國國產(chǎn)光刻機的精度僅為90nm，那么90nm精度的光刻機到底能夠干什么呢？用來制作手機芯片肯定是不行了，相比當下最熱們的7nmEUV工藝，90nm光刻機做出來的芯片可能在功耗和性能上都差得很遠。所以，我國90nm精密光刻機最多也只能用來制造一些電視芯片或者一些比較低端的智能設備芯片。

當然了，相比荷蘭ASML公司領先世界的7nmEUV工藝，我國差得很遠，并且83nm的差距也不是一兩年就能追平的，但在我國眾多科技公司的努力下，西方國家的封鎖將持續(xù)不了多久了。

為什么這么說呢？原來，近段時間中科院放出了一條消息，那就是我國多個科技公司和中科院聯(lián)合研發(fā)出了一款22nm分辨率的光刻機，該光刻機一旦實現(xiàn)量產(chǎn)，我國就能夠追回10年的差距。據(jù)透露，目前這款光刻機還處于實驗測試階段，我國正加大對光刻機的研發(fā)投入。

在中科院傳來好消息的同時，另一邊，中國的芯片“巨頭”中芯國際也傳來好消息。據(jù)中芯國際CEO梁孟松介紹，中芯國際目前已經(jīng)成功研發(fā)出了N+1工藝，說起這種工藝，就大有看頭了，因為與之前的14nm工藝相比，N+1工藝下的芯片無論是在性能還是在功耗比上都有很大的提升，而且這個提升已經(jīng)逐漸逼近臺積電的7nm工藝了。

要知道，在沒有EUV光刻機的情況，中芯國際能取得如此傲人的成績，可以說是非常不容易了。但中芯國際似乎還沒有放棄前進的步伐，梁孟松透露，中芯國際還在繼續(xù)研發(fā)更強悍的N+2工藝，并且預計N+1工藝能在明年年底投產(chǎn)。

據(jù)統(tǒng)計，中國每年進口的芯片量占據(jù)了全球芯片總產(chǎn)量的60%，我們可以做出一個假設，在中科院和中芯國際的技術成熟后，這60%的需求當中將會有一半會被“中國制造”所取代，這也就意味著我國正逐步打破西方國家對光刻機以及芯片生產(chǎn)技術的封鎖，我國半導體行業(yè)即將迎來曙光，勝利女神在向我們招手！
（責任編輯：fqj）