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講述EUV是什么？

為什么三星、臺積電、英特爾，這三家直接競爭對手企業(yè)爭相投資ASML？

EUV堪稱半導(dǎo)體設(shè)備發(fā)展以來最昂貴的設(shè)備，一臺售價(jià)高達(dá)9,000 萬歐元。

中芯國際也向阿斯麥下單了一臺價(jià)值高達(dá)1.2億美元的EUV（極紫外線）光刻機(jī)。

什么EUV是什么？

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半導(dǎo)體

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EUV

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原文標(biāo)題：什么是EUV？

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EUV熱潮不斷中國如何推進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)發(fā)展？

ofweek電子工程網(wǎng)訊國際半導(dǎo)體制造龍頭三星、臺積電先后宣布將于2018年量產(chǎn)7納米晶圓制造工藝。這一消息使得業(yè)界對半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵設(shè)備之一極紫外光刻機(jī)（EUV）的關(guān)注度大幅提升。此后又有媒體

發(fā)表于 11-14 16:24

講述LDO相關(guān)知識

這篇博客講述LDO相關(guān)知識，包括基本原理，參數(shù)解釋，特性及參考設(shè)計(jì)等。

發(fā)表于 11-11 07:09

EUV光刻工藝終于商業(yè)化新一代EUV光刻工藝正在籌備

隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產(chǎn)，2018年EUV光刻工藝終于商業(yè)化了，這是EUV工藝研發(fā)三十年來的一個(gè)里程碑。不過EUV工藝要想大規(guī)模量產(chǎn)還有很多技術(shù)挑戰(zhàn)，目前的光源功率以及晶圓

發(fā)表于 10-30 16:28 ?3555次閱讀

EUV光刻機(jī)還能賣給中國嗎？

ASML的EUV光刻機(jī)是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻機(jī)必不可缺。一臺EUV光刻機(jī)的售價(jià)為1.48億歐元，折合人民幣高達(dá)11.74億元

發(fā)表于 10-19 12:02 ?9957次閱讀

<b class='flag-5'>EUV</b>光刻機(jī)還能賣給中國嗎？

美光科技開始提速EUV DRAM開發(fā)速度

美國美光科技開始提速EUV DRAM。加入到三星電子、SK海力士等全球第一、第二EUV廠商選擇的EUV陣營后，后續(xù)EUV競爭或?qū)⒏鼮榧ち摇?/div>

發(fā)表于 12-25 14:43 ?1806次閱讀

日本的EUV實(shí)力如何?

近期三星為爭搶EUV設(shè)備，高層頻頻傳出密訪ASML，EUV的重要性早已不言而喻。提到EUV，大家首先想到的就是ASML，ASML并不是一個(gè)家喻戶曉的名字，但他卻是現(xiàn)代技術(shù)的關(guān)鍵。因?yàn)樗峁┝酥圃?/div>

發(fā)表于 01-16 09:43 ?2719次閱讀

廠商們“慌慌張張”，不過EUV幾臺

因此除了臺積電、三星及英特爾等晶圓廠爭搶EUV，后續(xù)包含美光、SK海力士也需要大量EUV設(shè)備。乘著5G普及的“順風(fēng)”，半導(dǎo)體微縮化需求逐步高漲，半導(dǎo)體廠家加速導(dǎo)入EUV，EUV設(shè)備成為

發(fā)表于 05-18 09:49 ?2337次閱讀

HVM中用于光刻的EUV源:歷史和前景

HVM中的EUV光刻 ?背景和歷史 ?使用NXE的EUV光刻：3400B ?EUV生成原理 ?EUV來源：架構(gòu) ?現(xiàn)場

發(fā)表于 06-13 14:45 ?0次下載

duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別是什么

目前，光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù)，EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進(jìn)工藝芯片光刻的發(fā)展方向

發(fā)表于 07-10 14:53 ?8.2w次閱讀

euv光刻機(jī)原理是什么

euv光刻機(jī)原理是什么芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機(jī)，是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備，對芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。那么euv光刻機(jī)原理是什么呢？ EU

發(fā)表于 07-10 15:28 ?1.6w次閱讀

EUV的壟斷終將結(jié)束 EUV***逐步走向“落末”

從出貨量的不斷增多，再到產(chǎn)品的更新?lián)Q代。ASML嘗到了EUV帶給他的紅利，但是ASML的首席技術(shù)官透露EUV即將走到盡頭，之后的技術(shù)可能根本實(shí)現(xiàn)不了。

發(fā)表于 01-30 16:31 ?2625次閱讀

什么是EUV***？

需要明確什么是EUV光刻機(jī)。它是一種采用極紫外線光源進(jìn)行曝光的設(shè)備。與傳統(tǒng)的ArF光刻機(jī)相比，EUV光刻機(jī)可以將曝光分辨率提高到7納米以下的超高級別，從而實(shí)現(xiàn)更高清晰度和更高性能的芯片制造。

發(fā)表于 05-22 12:48 ?4298次閱讀

ASML的EUV***研發(fā)歷程

asml是euv技術(shù)開發(fā)的領(lǐng)先者。asml公司是半導(dǎo)體領(lǐng)域光刻機(jī)生產(chǎn)企業(yè)的領(lǐng)頭羊，也是全球市場占有率最大的光刻機(jī)生產(chǎn)企業(yè)。2012年，asml推出了世界上第一個(gè)euv試制品，并于2016年推出了euv第一個(gè)商用顯卡制造機(jī)asml

發(fā)表于 06-08 09:37 ?3793次閱讀

EUV薄膜容錯(cuò)成本高成芯片良率的關(guān)鍵

近20年來，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻膠一直是EUV光刻的三大技術(shù)挑戰(zhàn)。

發(fā)表于 09-14 09:45 ?1026次閱讀

高數(shù)值孔徑 EUV技術(shù)路線圖

高數(shù)值孔徑EUV 今年的大部分討論都集中在EUV的下一步發(fā)展以及高數(shù)值孔徑EUV的時(shí)間表和技術(shù)要求上。ASML戰(zhàn)略營銷高級總監(jiān)Michael Lercel表示，其目標(biāo)是提高EUV的能源

發(fā)表于 11-23 16:10 ?645次閱讀

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