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電子發(fā)燒友網>今日頭條>半導體微器件刻蝕過程研究報告

半導體微器件刻蝕過程研究報告

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2023-07-19 10:31:11603

研究報告丨容、感、阻被動元器件市場報告

自己的模板 研究 報告《 容、感、阻被動元器件市場報告》,如需領取報告,請關注公眾號,后臺回復 ? 元器件? 即可領??! 聲明 : 本文由電子發(fā)燒友原創(chuàng) ,轉載請注明以上來源。如需入群交流 ,請?zhí)砑?/div>
2023-07-17 17:15:04246

ALD是什么?半導體制造的基本流程

半導體制造過程中,每個半導體元件的產品都需要經過數百道工序。這些工序包括前道工藝和后道工藝,前道工藝是整個制造過程中最為重要的部分,它關系到半導體芯片的基本結構和特性的形成,涉及晶圓制造、沉積、光刻、刻蝕等步驟,技術難點多,操作復雜。
2023-07-11 11:25:552897

有機半導體材料研究現狀及發(fā)展趨勢

自1990年代末至2000年代初以來,有機半導體材料的研究引起了相關領域的高度關注,大大提高了實驗室環(huán)境中有機半導體器件的制造水平。目前,有機半導體器件領域正在進入商業(yè)化階段。
2023-06-30 14:51:032226

半導體前端工藝之沉積工藝

在前幾篇文章(點擊查看),我們一直在借用餅干烘焙過程來形象地說明半導體制程 。在上一篇我們說到,為制作巧克力夾心,需通過“刻蝕工藝”挖出餅干的中間部分,然后倒入巧克力糖漿,再蓋上一層餅干層?!暗谷肭煽肆μ菨{”和“蓋上餅干層”的過程半導體制程中就相當于“沉積工藝”。
2023-06-29 16:56:17830

半導體行業(yè)關鍵技術ALD:這家公司是龍頭!

半導體制造過程中,每個半導體元件的產品都需要經過數百道工序。這些工序包括前道工藝和后道工藝,前道工藝是整個制造過程中最為重要的部分,它關系到半導體芯片的基本結構和特性的形成,涉及晶圓制造、沉積、光刻、刻蝕等步驟,技術難點多,操作復雜。
2023-06-28 16:54:061259

半導體圖案化工藝流程之刻蝕(一)

Dimension, CD)小型化(2D視角),刻蝕工藝從濕法刻蝕轉為干法刻蝕,因此所需的設備和工藝更加復雜。由于積極采用3D單元堆疊方法,刻蝕工藝的核心性能指數出現波動,從而刻蝕工藝與光刻工藝成為半導體制造的重要工藝流程之一。
2023-06-26 09:20:10816

半導體前端工藝:刻蝕——有選擇性地刻蝕材料,以創(chuàng)建所需圖形

半導體制程工藝中,有很多不同名稱的用于移除多余材料的工藝,如“清洗”、“刻蝕”等。如果說“清洗”工藝是把整張晶圓上多余的不純物去除掉,“刻蝕”工藝則是在光刻膠的幫助下有選擇性地移除不需要的材料,從而創(chuàng)建所需的微細圖案。半導體刻蝕”工藝所采用的氣體和設備,在其他類似工藝中也很常見。
2023-06-15 17:51:571177

2023年中國半導體分立器件銷售將達到4,428億元?

技術的不斷提升,國內的終端應用客戶也更加趨向于實施國產化采購,給國內半導體分立器件企業(yè)帶來更多的發(fā)展機遇。 根據中國半導體行業(yè)協(xié)會發(fā)布的《中國半導體行業(yè)發(fā)展狀況報告》顯示,2019 年中國半導體分立
2023-05-26 14:24:29

功率半導體分立器件你了解多少呢?

功率半導體分立器件的應用十分廣泛,幾乎覆蓋了所有的電子制造業(yè),傳統(tǒng)應用領域包括消費電子、網絡通信、工業(yè)電機等。近年來,新能源汽車及充電系統(tǒng)、軌道交通、智能電網、新能源發(fā)電、航空航天及武器裝備等也逐漸成為了功率半導體分立器件的新興應用領域。
2023-05-26 09:51:40573

半導體封測行業(yè)研究報告:封測回暖,先進封裝成長空間廣闊

半導體行業(yè)庫存壓力不斷上升。2022 年至 2023Q1 半導體行業(yè)整體出現庫存積壓 情況,存貨周轉天數持續(xù)上升。以英特爾、臺積電、高通為例:英特爾、高通 2022 年存貨周轉天數呈上升趨勢,2023Q1 均達到了十年以來的最高水平。
2023-05-22 15:42:40995

半導體封裝技術研究

本文以半導體封裝技術為研究對象,在論述半導體封裝技術及其重要作用的基礎上,探究了現階段半導體封裝技術的芯片保護、電氣功能實現、通用性、封裝界面標準化、散熱冷卻功能等諸多發(fā)展趨勢,深入研究半導體前端
2023-05-16 10:06:00497

雷卯二極管半導體器件的應用和參數對比

二極管半導體器件的應用和參數對比NO.1二極管種類區(qū)別按操作特性進行比較:器件結構說明對比:肖特基二極管由金屬與半導體結結形成。在電氣方面,它由多數載波進行,具有較低的電流泄漏和正向偏置電壓(VF
2023-05-11 10:11:45221

儲能逆變器帶動哪些半導體器件

據統(tǒng)計,IGBT、MOS管、電源管理IC等在儲能逆變器里占比高、數量多,是必不可少的半導體器件。
2023-05-08 15:46:30862

1.2 半導體材料的研究和應用(下)

半導體
jf_90840116發(fā)布于 2023-05-08 01:49:45

1.1 半導體材料的研究和應用(中)_clip002

半導體
jf_90840116發(fā)布于 2023-05-08 01:47:53

1.1 半導體材料的研究和應用(中)_clip001

半導體
jf_90840116發(fā)布于 2023-05-08 01:47:12

1.1 半導體材料的研究和應用(上)

半導體
jf_90840116發(fā)布于 2023-05-08 01:46:30

金屬布線的工藝為半導體注入生命的連接

經過氧化、光刻、刻蝕、沉積等工藝,晶圓表面會形成各種半導體元件。半導體制造商會讓晶圓表面布滿晶體管和電容(Capacitor);
2023-04-28 10:04:52532

郝躍院士:功率密度與輻照問題是氮化物半導體的兩大挑戰(zhàn)

郝躍院士長期從事新型寬禁帶半導體材料和器件、微納米半導體器件與高可靠集成電路等方面的科學研究與人才培養(yǎng)。在氮化鎵∕碳化硅第三代(寬禁帶)半導體功能材料和微波器件、半導體短波長光電材料與器件研究和推廣、微納米CMOS器件可靠性與失效機理研究等方面取得了系統(tǒng)的創(chuàng)新成果。
2023-04-26 10:21:32718

意法半導體供應超千萬顆碳化硅器件

意法半導體(ST)宣布與采埃孚科技集團公司(ZF)簽署碳化硅器件長期供應協(xié)議。從 2025 年起,采埃孚將從意法半導體采購碳化硅器件。
2023-04-26 10:18:51930

半導體工藝之金屬布線工藝介紹

本篇要講的金屬布線工藝,與前面提到的光刻、刻蝕、沉積等獨立的工藝不同。在半導體制程中,光刻、刻蝕等工藝,其實是為了金屬布線才進行的。在金屬布線過程中,會采用很多與之前的電子元器件層性質不同的配線材料(金屬)。
2023-04-25 10:38:49986

半導體行業(yè)之刻蝕工藝介紹

壓力主要控制刻蝕均勻性和刻蝕輪廓,同時也能影響刻蝕速率和選擇性。改變壓力會改變電子和離子的平均自由程(MFP),進而影響等離子體和刻蝕速率的均勻性。
2023-04-17 10:36:431922

國內功率半導體需求將持續(xù)快速增長,歡迎廣大客戶通過華秋商城購買晶導系列產品

及前瞻產業(yè)研究院數據,預計2021年我國半導體分立器件市場規(guī)模將達到3,229億元。就國內市場而言,二極管、三極管、晶閘管等分立器件產品大部分已實現國產化,而MOSFET、IGBT等分立器件產品由于其
2023-04-14 16:00:28

國內功率半導體需求將持續(xù)快速增長

及前瞻產業(yè)研究院數據,預計2021年我國半導體分立器件市場規(guī)模將達到3,229億元。就國內市場而言,二極管、三極管、晶閘管等分立器件產品大部分已實現國產化,而MOSFET、IGBT等分立器件產品由于其
2023-04-14 13:46:39

【新聞】全國普通高校大學生計算機類競賽研究報告正式發(fā)布

全國普通高校大學生計算機類競賽研究報告鏈接:https://mp.weixin.qq.com/s/bdcp-wGqvXY_8DPzn8dhKw各高校在計算機類競賽中的表現情況是評估相關高校計算機
2023-04-10 10:16:15

半導體行業(yè)之刻蝕工藝介紹

金屬刻蝕具有良好的輪廓控制、殘余物控制,防止金屬腐蝕很重要。金屬刻蝕時鋁中如果 有少量銅就會引起殘余物問題,因為Cu Cl2的揮發(fā)性極低且會停留在晶圓表面。
2023-04-10 09:40:542330

半導體行業(yè)之刻蝕工藝技術

DRAM柵工藝中,在多晶硅上使用鈣金屬硅化物以減少局部連線的電阻。這種金屬硅化物和多晶硅的堆疊薄膜刻蝕需要增加一道工藝刻蝕W或WSi2,一般先使用氟元素刻蝕鈞金屬硅化合物層,然后再使用氯元素刻蝕多晶硅。
2023-04-07 09:48:162198

喜訊!華秋電子榮獲深圳市半導體行業(yè)協(xié)會優(yōu)秀合作獎

行業(yè)知名專家學者、企業(yè)家做主題演講和行業(yè)分析報告,并由協(xié)會秘書處做協(xié)會年度工作總結報告,共同探討新形勢下深圳集成電路產業(yè)的發(fā)展與機遇。在這場深圳市半導體行業(yè)的年度交流盛會中,協(xié)會秘書處在會上進行了協(xié)會
2023-04-03 15:28:32

半導體晶圓清洗設備市場:行業(yè)分析

半導體晶圓清洗設備市場預計將達到129\.1億美元。到 2029 年。晶圓清洗是在不影響半導體表面質量的情況下去除顆?;蛭廴疚锏?b class="flag-6" style="color: red">過程。器件表面晶圓上的污染物和顆粒雜質對器件的性能和可靠性有重大影響。本報告側重于半導體晶圓清洗設備市場的不同部分(產品、晶圓尺寸、技術、操作模式、應用和區(qū)域)。
2023-04-03 09:47:511643

濱松紅外相機在半導體加工及檢測過程中的應用

半導體器件制造是一個復雜的多步驟過程, 包括晶圓制備、前道工序(FEOL)和后道工序(BEOL)。 半導體制造商為了提高良率,在晶圓制備、FEOL和BEOL中引入一系列檢測過程,利用紅外相機檢測
2023-03-31 07:44:34396

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