電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/李寧遠)提及芯片制造,首先想到的自然是光刻機和光刻技術(shù)。而眾所周知,EUV光刻機產(chǎn)能有限而且成本高昂,業(yè)界一直都在探索不完全依賴于EUV光刻機來生產(chǎn)高端芯片的技術(shù)和工藝。納米
2024-03-09 00:15:002912 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/李彎彎)近期,各大視頻平臺瘋傳一條消息,稱清華大學(xué)EUV項目,把ASML的光刻機巨大化,實現(xiàn)了光刻機國產(chǎn)化,并表示這個項目已經(jīng)在雄安新區(qū)落地,還在視頻中配了下面這張圖,表示圖片
2023-09-20 08:56:502579 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/李寧遠)提及芯片制造技術(shù),首先想到的自然是光刻機和光刻技術(shù)。眾所周知在芯片行業(yè),光刻是芯片制造過程中最重要、最繁瑣、最具挑戰(zhàn)也最昂貴的一項工藝步驟。在光刻機的支持下,摩爾定律
2023-07-16 01:50:153008 光刻機經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展,每次改進和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機所能實現(xiàn)的最小工藝節(jié)點。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式光刻機發(fā)展到浸沒步進式投影光刻機和極紫外式光刻機。
2024-03-21 11:31:4143 EUV 光刻機持續(xù)更新升級,未來目標(biāo)在 2025 年推出 NXE:4000F 機型。 上兩代 NXE 系列機型 3400C 和 3600D 分別適合 7~5、5~3 納米節(jié)點生產(chǎn),德媒 ComputerBase 因此預(yù)測 3800E 有望支持 3~2
2024-03-14 08:42:346 實驗名稱:ATA-4051高壓功率放大器在非共振式壓電直線電機性能測試中的應(yīng)用
研究方向:壓電驅(qū)動
實驗內(nèi)容:基于壓電疊堆驅(qū)動的非共振式壓電直線電機的性能測試,壓電直線電機結(jié)構(gòu)使用二級
2024-03-08 17:38:14
據(jù)荷蘭《電訊報》3月6日報道,因荷蘭政府的反移民政策傾向,光刻機巨頭阿斯麥(ASML)正計劃搬離荷蘭。
2024-03-08 14:02:15179 在曝光過程中,掩模版與涂覆有光刻膠的硅片直接接觸。接觸式光刻機的縮放比為1:1,分辨率可達到4-5微米。由于掩模和光刻膠膜層反復(fù)接觸和分離,隨著曝光次數(shù)的增加,會引起掩模版和光刻膠膜層損壞、芯片良率下降等不良后果。
2024-03-08 10:42:3788 近日,光刻機巨頭ASML傳出可能因荷蘭政府的反移民政策傾向而考慮遷離本國的消息,這令業(yè)界嘩然。據(jù)悉,荷蘭政府為阻止這一可能發(fā)生的變故,已專門成立了由首相馬克·呂特親自掛帥的“貝多芬計劃”特別工作組。
2024-03-07 15:36:51209 英特爾最近因決定從荷蘭 ASML 購買世界上第一臺高數(shù)值孔徑(High-NA)光刻機而成為新聞焦點。到目前為止,英特爾是全球唯一一家訂購此類光刻機的晶圓廠,據(jù)報道它們的售價約為3.8億美元
2024-03-06 14:49:01162 利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化,從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用。
2024-03-06 14:28:5062 納米定位臺是一種高精度的微納米級定位設(shè)備,主要用于微納米加工、顯微鏡下的樣品定位、納米精度的測量和調(diào)試等領(lǐng)域。內(nèi)置高性能壓電陶瓷,運動范圍可達500μm,具有體積小、無摩擦、響應(yīng)速度快、高精度位移
2024-03-05 17:35:20284 ASML在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中扮演著舉足輕重的角色,其光刻機技術(shù)和市場地位對于全球半導(dǎo)體制造廠商來說都具有重要意義。
2024-03-05 11:26:00123 光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
2024-03-04 17:19:18400 的位移---時間圖(下圖)。
圖:單極性梯形波驅(qū)動下壓電驅(qū)動器的位移變化實驗曲線 實驗結(jié)果:根據(jù)上圖,結(jié)合多普勒測振儀的位移方向標(biāo)定方式,可以判斷振動板的振動方向:在電壓上升時間內(nèi),振動板向腔室外
2024-02-28 16:06:17
到受控結(jié)構(gòu)中,通過數(shù)字信號處理器作為試驗系統(tǒng)的控制器,整合搭建了壓電疊層作動器驅(qū)動的直升機機身多諧波多輸入多輸出振動主動控制試驗系統(tǒng),并且離線測量了搭建好的試驗系統(tǒng)的控制通道傳遞函數(shù)。
試驗系統(tǒng)中
2024-02-27 17:12:00
新年伊始,萬象更新。芯明天持續(xù)深挖行業(yè)需求,攻克技術(shù)壁壘,推陳出新,為客戶解決一個又一個精密定位技術(shù)的難題。 本次為大家介紹一款一維大負載電容傳感壓電納米定位臺-XD605.X90。產(chǎn)品外觀如下
2024-02-22 11:54:12103 來源:DIGITIMES ASIA 佳能預(yù)計其納米壓印光刻機將于今年出貨,與ASML的EVU設(shè)備競爭市場,因為世界各地的經(jīng)濟體都熱衷于擴大其本土芯片產(chǎn)能。 佳能董事長兼首席執(zhí)行官Hiroaki
2024-02-01 15:42:05270 光刻機是微電子制造的關(guān)鍵設(shè)備,廣泛應(yīng)用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領(lǐng)域。在集成電路制造中,光刻機被用于制造芯片上的電路圖案。
2024-01-29 09:37:24359 來源:AIot工業(yè)檢測,謝謝 編輯:感知芯視界 Link 隨著芯片需求的不斷增長,芯片制造商正加大采購晶圓廠設(shè)備的力度,以提高產(chǎn)能。作為EUV光刻機制造商,ASML受益于這一趨勢,其2023
2024-01-26 09:20:12409 關(guān)于光刻機,大家還記得美國荷蘭日本的三方協(xié)議嗎?來回憶一下。 隨著芯片在各個領(lǐng)域的重要性不斷提升,人們對芯片制造的關(guān)注也日益增加。 但半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈非常復(fù)雜,不僅僅涉及到底層的架構(gòu)設(shè)計,還需要通過
2024-01-17 17:56:59292 在自供電氣體傳感器中,最普遍使用的能量采集器包括摩擦電納米發(fā)電機(TENG)、壓電納米發(fā)電機(PENG)、熱電發(fā)電機(TEG)和太陽能電池。
2024-01-08 09:26:20184 在10-11月份中國進口ASML的光刻機激增10多倍后,美國官員聯(lián)系了荷蘭政府。荷蘭外交發(fā)言人表示,出口許可證是根據(jù)荷蘭國家安全逐案評估的。
2024-01-03 15:22:24553 1. ASML 聲明:2050 及2100 光刻機出口許可證已被部分撤銷 ? ASML日前發(fā)表聲明,稱荷蘭政府最近部分撤銷了此前頒發(fā)的NXT:2050i and NXT:2100i光刻機在2023
2024-01-02 11:20:33934 如果我們假設(shè)光刻機成本為 3.5 億至 4 億美元,并且 2024 年 10 個光刻機的HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
2023-12-28 11:31:39406 光刻與光刻機
?對準(zhǔn)和曝光在光刻機(Lithography Tool)內(nèi)進行。
?其它工藝在涂膠顯影機(Track)上進行。
光刻機結(jié)構(gòu)及工作原理
?光刻機簡介
?光刻機結(jié)構(gòu)及工作原理
2023-12-19 09:28:00245 利用電子學(xué)方法所獲得的最短脈沖要短幾千倍。飛秒激光技術(shù)是近年來發(fā)展迅速的一種先進加工技術(shù),具有極高的加工精度和速度,可以在各種材料表面進行微米至納米級別的刻蝕和加工。
2023-12-14 11:01:12227 光學(xué)模型是基于霍普金斯(Hopkins)光學(xué)成像理論,預(yù)先計算出透射相交系數(shù)(TCCs),從而描述光刻機的光學(xué)成像。光學(xué)模型中,經(jīng)過優(yōu)化的光源,通過光刻機的照明系統(tǒng),照射在掩模上。如果在實際光刻
2023-12-11 11:35:32288 納米級精度的Z向升降運動,行程可達到200μm,承載可達500g。其內(nèi)置傳感器通過全橋方式連接,無漂移,可以實現(xiàn)在納米范圍內(nèi)精確定位,閉環(huán)分辨率6nm,重復(fù)定位精度達0.02%F.S.。產(chǎn)品在顯微成像、光學(xué)檢測、生物科技、圖像處理等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用
2023-12-07 14:42:51348 本研究提出了一種基于液-固摩擦電納米發(fā)電機的微液滴監(jiān)測方法算法,它可以實現(xiàn)對微液滴參數(shù)的無創(chuàng)和自動力監(jiān)測??梢酝ㄟ^電信號的脈沖頻率和t得到微液滴的頻率、長度和速度。
2023-12-05 15:23:38312 光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來。利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化,從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-12-04 09:17:241335 雖然目前在光刻機市場,還有尼康和佳能這兩大供應(yīng)商,但是這兩家廠商的產(chǎn)品主要都是被用于成熟制程芯片的制造,全球市場份額僅有10%左右,ASML一家占據(jù)了90%的市場份額,并壟斷了尖端的EUV光刻機的供應(yīng)。
2023-11-23 16:14:45485 就國別來看,來自荷蘭的進口額暴漲了超過6倍。預(yù)估其中大部分為荷蘭光刻機龍頭艾ASML的光刻機產(chǎn)品。來自日本的半導(dǎo)體設(shè)備進口額成長約40%、來自美國的進口額則僅增長20%。
2023-11-22 17:09:02419 光刻是芯片制造的重要環(huán)節(jié)。以光源波長劃分,光刻機分為UV(紫外線)、DUV(深紫外線)、EUV(極紫外線),理論上7納米及以下的先進芯片制程工藝只能通過EUV實現(xiàn)。
2023-11-12 11:33:14627 中圖儀器SJ5730系列納米探針式輪廓儀采用超高精度納米衍射光學(xué)測量系統(tǒng)、超高直線度研磨級摩擦導(dǎo)軌、高性能直流伺服驅(qū)動系統(tǒng)、高性能計算機控制系統(tǒng)技術(shù),分辨率高達0.1nm,系統(tǒng)殘差小于3nm
2023-11-09 09:14:22
顛覆性技術(shù)!半導(dǎo)體行業(yè)再放大招! 近日,日本佳能官方發(fā)布 納米壓印(NIL)半導(dǎo)體制造設(shè)備 未來,或?qū)⑻娲鶤SML光刻機 成為更低成本的芯片制造設(shè)備! 要知道,半導(dǎo)體是目前全球經(jīng)濟的核心,在中國
2023-11-08 15:57:14200 目前,俄羅斯雖然擁有利用外國制造設(shè)備的65納米技術(shù),但不能生產(chǎn)光刻機。在現(xiàn)代光刻設(shè)備的情況下,外國企業(yè)被禁止出口之后,俄羅斯正在忙于自身的生產(chǎn)設(shè)備開發(fā)。
2023-11-06 11:38:55473 在國際制裁的陰影下,俄羅斯正邁向自主研發(fā)生產(chǎn)芯片的新時代,接下來,俄羅斯計劃采用土法煉鋼研發(fā)生產(chǎn)芯片的光刻機。俄羅斯工業(yè)和貿(mào)易部副部長Vasily Shpak宣布,支持350納米制程的光刻機將于
2023-11-06 11:26:29212 2020年時,ASML總裁還聲稱中國即使拿到設(shè)計圖紙也無法自制光刻機。但2021年開始,其態(tài)度出現(xiàn)變化,承認中國有可能獨立制造光刻機系統(tǒng)。2022年甚至主動表示要繼續(xù)向中國出售光刻機。2023年上半年,ASML開始大量向中國傾銷光刻機。
2023-10-30 16:18:101124 當(dāng)制程節(jié)點演進到5nm時,DUV和多重曝光技術(shù)的組合也難以滿足量產(chǎn)需求了,EUV光刻機就成為前道工序的必需品了,沒有它,很難制造出符合應(yīng)用需求的5nm芯片,即使不用EUV能制造出一些5nm芯片,其整個生產(chǎn)線的良率也非常低,無法形成大規(guī)模的商業(yè)化生產(chǎn)。
2023-10-13 14:45:03834 但是最近在回復(fù)證監(jiān)會問候時蘇大維格回答他是公司從2001年左右,研發(fā)各種光刻設(shè)備,包括激光一直使用光刻機,納米磁設(shè)備等上述設(shè)備主要是麥克風(fēng),光學(xué)儀器和衍射光學(xué)配件制造公司所生產(chǎn)的照片設(shè)備現(xiàn)在集成電路領(lǐng)域相關(guān)產(chǎn)品的生產(chǎn)提到過。
2023-10-12 10:41:10520 納米科技的迅猛發(fā)展將我們的視野拓展到了微觀世界,而測量納米級尺寸的物體和現(xiàn)象則成為了時下熱門的研究領(lǐng)域。納米級測量儀器作為一種重要的工具,扮演著重要的角色。那么,如何才能準(zhǔn)確測量納米級物體呢?在
2023-10-11 14:37:46
單片機的穩(wěn)壓電源怎么設(shè)計?求助各位大佬
2023-10-08 08:29:03
使用Arduino在矩陣中模擬了LED的物理運動,效果自然又有趣!
2023-09-27 07:18:45
SMT鐳雕機_自動在線激光刻印_全自動翻板鐳雕機PCB在線激光鐳雕機,選用國際領(lǐng)先工業(yè)級激光器,加工速度快,使用壽命長, 可刻印漢字,英文、數(shù)字、圖表、流水號、LOGO、條形碼、二維碼等內(nèi)容
2023-09-23 10:16:45
UV光刻機一般可以分為5種,即:接觸式光刻機,接近式光刻機,掃描投影式光刻機
2023-09-19 11:32:521305 早在2015年,中國的長春光機所就成功研發(fā)出了EUV(極紫外光刻)光刻機的高精度弧形反射鏡系統(tǒng)。這個系統(tǒng)的多層層鍍膜面形誤差小于0.1納米,達到了EUV級光刻機的標(biāo)準(zhǔn)。這個成就在國際上已經(jīng)堪稱頂尖水平。
2023-09-11 17:16:489826 ASML是歐洲最大半導(dǎo)體設(shè)備商,主導(dǎo)全球光刻機設(shè)備市場,光刻機是半導(dǎo)體制造關(guān)鍵步驟,但高數(shù)值孔徑(High NA)EUV,Peter Wennink指有些供應(yīng)商提高產(chǎn)能及提供適當(dāng)技術(shù)遇到困難,導(dǎo)致延誤。但即便如此,第一批產(chǎn)品仍會在年底推出。
2023-09-08 16:54:10713 平臺如雙XY橋臺、雙驅(qū)動龍門臺、空流平臺等。這些線性運動平臺也將用于光刻機、面板處理、測試機、印刷電路板鉆并機、高精度激光處理設(shè)備、基因序列儀、腦細胞成像儀和其他醫(yī)療設(shè)備。
高動態(tài)響應(yīng)
低安裝高度
UL與CE認證
持續(xù)推力范圍103N至
瞬間推力范圍289N至
安裝高度34mm,36mm
2023-09-04 16:14:38
香蕉派BPI-FSM8191D伺服電機控制器是香蕉派開源社區(qū)與峰岹科技合作打造的一款工業(yè)級伺服電機控制產(chǎn)品。是一款應(yīng)用于驅(qū)動旋轉(zhuǎn)伺服電機,直線伺服電機以及力矩電機的伺服模塊,在實際應(yīng)用中,由主控板
2023-09-04 09:16:12
2000年代初,芯片行業(yè)一直致力于從193納米氟化氬(ArF)光源光刻技術(shù)過渡到157納米氟(F 2 )光源光刻技術(shù)。
2023-08-23 10:33:46798 光刻機有半導(dǎo)體工業(yè)“皇冠上的明珠“之稱,是高速生產(chǎn)芯片所需要的最關(guān)鍵和最復(fù)雜的設(shè)備之一(一臺光刻機有10萬個組件)。目前全世界的高端光刻機被荷蘭公司ASML壟斷(中低端產(chǎn)品美國、日本和中國均能生產(chǎn)),而絕大部分的組件供應(yīng)商又被美國控制。
2023-08-21 16:09:33472 壓電納米位移臺的結(jié)構(gòu) 壓電納米定位臺具有移動面,是通過帶有柔性鉸鏈的機械結(jié)構(gòu)將壓電陶瓷產(chǎn)生的位移及出力等進行輸出,分直驅(qū)與放大兩種結(jié)構(gòu)。以壓電陶瓷作為驅(qū)動源,結(jié)合柔性鉸鏈機構(gòu)實現(xiàn)X軸、Z軸、XY
2023-08-02 16:14:422434 隨著制程工藝的進步,DRAM內(nèi)存芯片也面臨著CPU/GPU一樣的微縮難題,解決辦法就是上EUV光刻機,但是設(shè)備實在太貴,現(xiàn)在還要榨干DUV工藝最后一滴,DDR5內(nèi)存有望實現(xiàn)單條1TB。
2023-07-31 17:37:07875 產(chǎn)品概述運動粘度儀,符合GB/T265-1988《石油產(chǎn)品運動粘度測定法和動力粘度計算法》,適用于測定液體石油產(chǎn)品(牛頓液體)的運動粘度,該方法是指在某一恒定溫度下,測定一定體積的液體在
2023-07-31 10:53:29
? ? ? ? ? ? 納米發(fā)電機,是基于規(guī)則的氧化鋅納米線,在納米范圍內(nèi)將機械能轉(zhuǎn)化成電能,是世界上最小的發(fā)電機。目前納米發(fā)電機可以分為三類: 第一類是壓電納米發(fā)電機; 第二類是摩擦納米發(fā)電機
2023-07-27 16:22:18199 ATA-P系列壓電疊堆功率放大器ATA-P系列是一款理想的可放大交直流信號的單通道功率放大器。最大輸出功率可達1300Wp,可以驅(qū)動壓電陶瓷片、疊堆型壓電陶瓷、開環(huán)封裝壓電陶瓷以及納米定位工作臺等壓電
2023-07-27 11:30:501 CHOTEST中圖儀器PO系列數(shù)控機床在機測量系統(tǒng)也就是機床測頭,可以用于精密測量和檢測應(yīng)用。比如,在汽車零部件加工中,可以使用測頭對發(fā)動機曲軸箱等關(guān)鍵部位進行精密測量和檢測,以確保其質(zhì)量和可靠性
2023-07-26 13:29:40
(通常為13.5納米),相比傳統(tǒng)的光刻技術(shù),EUV技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)更小的芯片尺寸和更高的集成度。 EUV光刻機的工作原理是通過將極端紫外光投影到硅片上,在光敏材料上形成圖案,從而實現(xiàn)芯片的精密圖案化。與傳統(tǒng)的光刻技術(shù)相比,EUV技術(shù)的短波長可以顯著提高曝光的分辨率
2023-07-24 18:19:471095 摘要 :隨著微電子產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展,我國迫切需要研制極大規(guī)模集成電路的加工設(shè)備-光刻機。曝光波長為193nm的投影式光刻機因其技術(shù)成熟、曝光線寬可延伸至32nm節(jié)點的優(yōu)勢已成為目前光刻領(lǐng)域的主流設(shè)備
2023-07-17 11:02:38592 特別版的光刻機。 荷蘭政府的限制先進半導(dǎo)體設(shè)備出口新規(guī)將于9月1日生效。這一事件引發(fā)了市場猜測ASML可能會發(fā)布其TWINSCAN NXT:1980系列DUV光刻工具的調(diào)整版,以減輕對中國芯片制造商的影響,并滿足荷蘭禁止向中國客戶出口28納米以下工藝制造的要求。 目前全球絕大
2023-07-07 12:32:371112 GK-1000光刻掩膜版測溫儀,光刻機曝光光學(xué)系統(tǒng)測溫儀光刻機是一種用于微納米加工的設(shè)備,主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS(微機電系統(tǒng))等微細結(jié)構(gòu)。光刻機是一種光學(xué)投影技術(shù),通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
半導(dǎo)體企業(yè)可以繼續(xù)使用荷蘭的設(shè)備生產(chǎn) 28 納米及更成熟工藝的芯片。 消息稱該特別版 DUV 光刻機基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系統(tǒng)改造,而 1980Di 是 10?年前推出
2023-07-06 16:45:01924 搞光刻機必須要有搞核彈的精神,但只有這種精神是不夠的!光刻機畢竟不是核彈,光刻機從試驗機改良成量產(chǎn)機,需要與產(chǎn)線相結(jié)合試驗生產(chǎn),這些步驟是不可能秘密進行的。
2023-06-27 15:50:0810752 如今,光刻技術(shù)已成為一項容錯率極低的大產(chǎn)業(yè)。全球領(lǐng)先的荷蘭公司 ASML 也是歐洲市值最大的科技公司。它的光刻工具依賴于世界上最平坦的鏡子、最強大的商用激光器之一以及比太陽表面爆炸還高的熱度,在硅上刻出微小的形狀,尺寸僅為幾納米。
2023-06-26 16:59:16569 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/周凱揚)在上游的半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)中,除了光刻機等設(shè)備外,光刻膠、掩膜版等材料也是決定晶圓質(zhì)量與良率的關(guān)鍵因素。就拿掩膜版來說,這個承載設(shè)計圖形的材料,經(jīng)過曝光后將圖形信息轉(zhuǎn)移到
2023-06-22 01:27:001984 因此光刻機對芯片制造非常重要,它是影響芯片制造質(zhì)量和效率的重要因素??v觀全球光刻機市場,荷蘭ASML公司一家獨大,占據(jù)全球80%的光刻機市場份額,高端EUV光刻機的市占比更是達到100%。
2023-06-20 11:42:271258 文章大綱 光刻是芯片制造最核心環(huán)節(jié),大陸自給率亟待提升 ·光刻機是芯片制造的核心設(shè)備,市場規(guī)模全球第二 ·一超兩強壟斷市場,大陸卡脖子現(xiàn)象凸顯 光刻機:多個先進系統(tǒng)的組合,核心零部件被海外廠商壟斷
2023-06-19 10:04:008367 光刻機可分為前道光刻機和后道光刻機。光刻機既可以用在前道工藝,也可以用在后道工藝,前道光刻機用于芯片的制造,曝光工藝極其復(fù)雜,后道光刻機主要用于封裝測試,實現(xiàn)高性能的先進封裝,技術(shù)難度相對較小。
2023-06-15 11:14:533429 1、無需安裝PCI驅(qū)動,一根網(wǎng)線解決問題;
2、無論軸數(shù)多少,所有產(chǎn)品調(diào)用一套API函數(shù)庫;
3、無需PCI的轉(zhuǎn)接線和接線板,接線方便,排查問題更容易;
4、無需依賴工控機,可以降低PC的配置要求
2023-06-13 09:44:20
光刻機可分為前道光刻機和后道光刻機。光刻機既可以用在前道工藝,也可以用在后道工藝,前道光刻機用于芯片的制造,曝光工藝極其復(fù)雜,后道光刻機主要用于封裝測試,實現(xiàn)高性能的先進封裝,技術(shù)難度相對較小。
2023-06-09 10:49:205857 極紫外光刻的制約因素
耗電量高極紫外線波長更短,但易被吸收,可利用率極低,需要光源提供足夠大的功率。如ASML 3400B光刻機,250W的功率,每天耗電達到三萬度。
生產(chǎn)效率仍不
2023-06-08 15:56:42283 上海伯東客戶某光刻機生產(chǎn)商, 生產(chǎn)的電子束光刻機 Electron Beam Lithography System 最大能容納 300mmφ 的晶圓片和 6英寸的掩模版, 適合納米壓印, 光子器件
2023-06-02 15:49:40492 由于美國的干涉,asml的極紫外線光刻機無法出口到中國,甚至深度紫外線光刻機也受到了限制。很明顯,美國不會放松對 EUV光刻機的出口限制。
2023-06-01 10:43:441552 安泰儀器租賃服務(wù) 納米發(fā)電機,是基于規(guī)則的氧化鋅納米線,在納米范圍內(nèi)將機械能轉(zhuǎn)化成電能,是世界上最小的發(fā)電機。目前納米發(fā)電機可以分為三類: 第一類是壓電納米發(fā)電機;? 第二類是摩擦納米發(fā)電機
2023-05-26 08:43:24271 芯明天壓電鏡架是一種利用壓電效應(yīng)來控制鏡片位置的光學(xué)機械。壓電效應(yīng)是指在某些晶體中,如壓電陶瓷,當(dāng)施加電場時,壓電陶瓷會發(fā)生形變,通過機械結(jié)構(gòu)將這種形變轉(zhuǎn)換為直線毫米級行程,該運動對鏡架進行角度偏轉(zhuǎn)
2023-05-25 10:27:45350 之前的小講堂有介紹過,光刻過程就好比用照相機拍照,將掩模版上的芯片設(shè)計版圖曝光到晶圓上,從而制造出微小的電路結(jié)構(gòu)。ASML光刻機的鏡片組使用極其精密的加工手段制造,使得最終像差被控制在納米級別,才能穩(wěn)定地通過曝光印刷微電路。
2023-05-25 10:13:28497 需要明確什么是EUV光刻機。它是一種采用極紫外線光源進行曝光的設(shè)備。與傳統(tǒng)的ArF光刻機相比,EUV光刻機可以將曝光分辨率提高到7納米以下的超高級別,從而實現(xiàn)更高清晰度和更高性能的芯片制造。
2023-05-22 12:48:373985 的偏置量,使同樣的機床能加工出更高精度的零件。 中圖儀器PO40機床在機測量系統(tǒng)是一款具有 3 維 5 向探測功能的紅外觸發(fā)機床測頭,具有體積小、精度高、
2023-05-17 14:41:23
的應(yīng)用。 空間擾動模擬是一種模擬空間中物體運動時受到的擾動影響的方法,是一種模擬技術(shù),用于預(yù)測和評估空間光學(xué)有效載荷在運行過程中所受到的力擾動。擾動力一般為空間微振動,是指在空間環(huán)境下,由于各種因素(如太陽輻射
2023-05-17 13:58:39338 在集成電路制造領(lǐng)域,如果說光刻機是推動制程技術(shù)進步的“引擎”,光刻膠就是這部“引擎”的“燃料”。
2023-05-13 11:28:381122 壓電納米定位臺在精密定位領(lǐng)域中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用,可集成于各類高精密裝備,為其提供納米級運動控制,且應(yīng)用非常廣泛,例如顯微掃描、光路調(diào)整、納米操控技術(shù)、激光干涉、納米光刻、生物科技、光通信、納米
2023-05-11 08:56:02347 2023年中國光刻機現(xiàn)狀是什么樣的呢?自從2018年以來,我國開始被美國各種手段制裁,光刻機被卡脖子,美國不讓荷蘭賣先進的光刻機給我們,這也讓這些年來無數(shù)國人關(guān)注光刻機的研發(fā)進度。
2023-05-10 16:24:1521221 研究團隊利用傳統(tǒng)的機械剝離法在藍寶石襯底上制備了二維金屬納米片,利用光學(xué)顯微鏡將飛秒脈沖激光垂直輻射在納米片上:當(dāng)脈沖激光照射時,二維納米片開始運動,并在均勻光照區(qū)域內(nèi)持續(xù)運動,通過激光的移動來改變輻照區(qū)域
2023-04-28 10:35:17483 極高的運動定位精度和穩(wěn)定性,在數(shù)據(jù)存儲中具有著非常廣泛的應(yīng)用。在數(shù)據(jù)存儲的領(lǐng)域,通常需要壓電納米定位臺來實現(xiàn)納米甚至亞納米級別的運動控制精度。 壓電納米定位臺用于讀寫頭的高精度調(diào)節(jié) 壓電納米定位臺可以在光盤數(shù)據(jù)存儲
2023-04-26 16:23:02431 光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來。利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化,從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-04-25 11:05:322260 中國在芯片制造領(lǐng)域一直在追趕先進的技術(shù),雖然在一些關(guān)鍵技術(shù)方面還存在一定差距,但近年來中國在光刻機領(lǐng)域取得了一些進展,下面將詳細介紹中國目前最先進的光刻機是多少納米。
2023-04-24 15:10:0159466 151n光刻膠曝光顯影后開口底部都會有一撮殘留,找不到原因。各位幫分析下
2023-04-20 13:13:52
什么是激光器? 激光器是一種能夠發(fā)射激光的裝置,它的工作原理是通過把一個束流物質(zhì)(如氣體、固體或液體)激發(fā)到一個激發(fā)能級,然后利用光反饋作用,在這個物質(zhì)中形成一束高度一致的、集中的、單色的激光光束。激光器的應(yīng)用范圍很廣,包括科學(xué)研究、醫(yī)學(xué)、工業(yè)、軍事和娛樂等領(lǐng)域。 激光器的基本結(jié)構(gòu) 激光器的種類 激光器根據(jù)不同的物理原理、應(yīng)用領(lǐng)域和波長范圍可以分為多種類型,主要包括以下幾類: 1.氣體激光器:使用氣體作為工作介質(zhì)
2023-04-12 15:01:08577 你好,我想問您一下,7805穩(wěn)壓電路中的濾波電阻在proteus中怎么找到?謝謝
2023-04-12 11:22:28
本次介紹一款XYZ三維運動、電容傳感器閉環(huán)的壓電納米定位臺及相應(yīng)控制器,該電容運動臺的型號為P12.XYZ100C,控制器型號為E00.D11AL。 P12.XYZ100C壓電納米定位
2023-04-08 08:53:381024 光刻機是半導(dǎo)體工業(yè)中非常重要的設(shè)備,用于在半導(dǎo)體芯片制造過程中將芯片圖形化。由于光刻機的精度和性能要求非常高,其制造難度也相對較大,目前市場上僅有少數(shù)幾家公司能夠生產(chǎn)出頂級光刻機。那么,中國能否造出頂級光刻機呢?
2023-04-07 13:35:244597 光刻機是芯片智造的核心設(shè)備之一,也是當(dāng)下尤為復(fù)雜的精密儀器之一。正因為此,荷蘭光刻機智造商阿斯麥通研制的EUV光刻機才會“千金難求”。 很多人都對光刻機有所耳聞,但其實不同光刻機的用途并不
2023-04-06 08:56:49679 為什么一個物體放在紙上,可以快速抽出將紙抽出? 紙片與物體之間在發(fā)生抽取的瞬間,產(chǎn)生的摩擦力使物體的加速度大于零,但作用時間短,不足以使得物體產(chǎn)生足夠可見的位移,因此物體的位移運動也就終止了
2023-03-27 17:25:52
為2nm及更先進芯片的生產(chǎn)提供更強大的助力。 計算光刻是芯片設(shè)計和制造領(lǐng)域中最大的計算工作負載,每年消耗數(shù)百億CPU小時。而NVIDIA cuLitho計算光刻庫利用GPU技術(shù)實現(xiàn)計算光刻,可以極大的降低功耗、節(jié)省時間。 目前臺積電、光刻機制造商阿斯麥,以及EDA巨頭新思科技都已經(jīng)導(dǎo)入
2023-03-23 18:55:377489 為什么在直流穩(wěn)壓電源中,不選可控硅降壓電路,而選擇降壓變壓器呢?
2023-03-23 09:48:42
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