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電子發(fā)燒友網(wǎng)>制造/封裝>極紫外光刻隨機效應(yīng)的表現(xiàn)及產(chǎn)生原因

極紫外光刻隨機效應(yīng)的表現(xiàn)及產(chǎn)生原因

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2020-11-17 17:20:141640

紫外光在缺陷檢測中的應(yīng)用

員廣泛應(yīng)用,但是市場對于塑料、油漆、印刷油墨和染料等產(chǎn)品的檢測需求日益增加,而這些產(chǎn)品檢測更適合采用紫外(UV)照明。過去,這些產(chǎn)品的檢測受到了紫外光源成本過高的限制。然而,隨著低成本紫外LED照明的出現(xiàn),這些應(yīng)用正變得越來越便宜。 紫外
2020-11-19 14:34:192887

三星電子正在尋求與極紫外光刻機供應(yīng)商ASML合作

近日,據(jù)外媒報道,在芯片制程工藝方面一直落后于臺積電的三星電子,目前正在尋求加強與極紫外光刻機供應(yīng)商ASML的合作,以加速5nm和3nm制程的研發(fā)。
2020-11-24 14:54:522073

臺積電能夠獲大量芯片代工訂單,離不開阿斯麥的光刻

12月2日消息,據(jù)國外媒體報道,全球第一大芯片代工商臺積電,能夠獲得大量的芯片代工訂單,除了領(lǐng)先的制程工藝,還得益于阿斯麥所供應(yīng)的大量先進的光刻機,在第二代7nm和5nm所需要的極紫外光刻機方面,尤其如此,他們獲得的極紫外光刻機的數(shù)量,遠多于三星。
2020-12-02 10:21:09835

韓國公司正在迅速縮小其在極紫外光刻技術(shù)上與外國公司的差距

特別是,韓國公司正在迅速縮小其在極紫外光刻技術(shù)上與外國公司的差距。2019年,韓國本土提出的專利申請數(shù)量為40件,超過了國外企業(yè)的10件。這是韓國提交的專利申請首次超過國外。2020年,韓國提交的申請數(shù)量也是國外的兩倍多。
2020-12-11 13:40:541386

關(guān)于紫外線探測器在紫外光刻機中的應(yīng)用

光刻機(Mask Aligner) 又名:掩模對準(zhǔn)曝光機,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機是掩膜對準(zhǔn)光刻,所以叫 Mask Alignment System。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干
2020-12-29 09:14:542095

ASML研發(fā)更先進光刻機 高數(shù)值孔徑極紫外光刻設(shè)計基本完成

對于阿斯麥(ASML)來說,他們正在研發(fā)更先進的光刻機,這也是推動芯片工藝?yán)^續(xù)前行的重要動力。 ASML是全球目前唯一能制造極紫外光刻機的廠商,其在推出TWINSCAN NXE:3400B和NXE
2020-12-29 11:06:572287

ASML新一代極紫外光刻機設(shè)計基本完成

12月29日消息,據(jù)國外媒體報道,ASML正在研發(fā)更先進、效率更高的高數(shù)值孔徑極紫外光刻機:NXE:5000系列,設(shè)計已經(jīng)基本完成,預(yù)計在2022年開始商用。
2020-12-30 10:29:302159

為何EUV光刻機會這么耗電呢

呢?OFweek君根據(jù)公開資料整理出了一些原因,供讀者參考。 與DUV(深紫外光光刻機相比,EUV光刻機的吞吐量相對較低,每小時可曝光處理的晶圓數(shù)量約在120片-175片之間,技術(shù)改進后,速度可以提升至275片每小時。但相對而言,EUV生產(chǎn)效率還是更高,
2021-02-14 14:05:003915

報道稱臺積電今年預(yù)計可獲得18臺極紫外光刻

據(jù)國外媒體報道,臺積電和三星電子的芯片制程工藝,均已提升到了 5nm,更先進的工藝研發(fā)也在推進,并在謀劃量產(chǎn)事宜。 在制程工藝提升到 5nm 之后,也就意味著臺積電、三星等廠商,對極紫外光刻機的需求
2021-01-25 17:10:181352

臺積電今年將獲得 18 臺極紫外光刻機,三星、英特爾也有

,對極紫外光刻機的需求會不斷增加,而全球目前唯一能生產(chǎn)極紫外光刻機廠商的阿斯麥,也就大量供應(yīng)極紫外光刻機。 英文媒體在最新的報道中表示,在芯片制程工藝方面走在行業(yè)前列的臺積電,在今年預(yù)計可獲得 18 臺極紫外光刻機,三星和英特爾也將
2021-01-25 17:21:543321

臺積電向ASML下達18臺極紫外光刻機需求

如今全球芯片短缺,不僅僅已經(jīng)嚴(yán)重營銷到了科技數(shù)碼產(chǎn)業(yè),就連汽車產(chǎn)業(yè)也深受其害。為了滿足2021年的需求激增,目前有國外媒體稱臺積電一口氣向荷蘭ASML下達了18臺最先進的極紫外光刻機需求,如此之大的需求令可以說是史上的天量,三星英特爾急了。
2021-01-26 09:22:051158

臺積電今年仍要狂購極紫外光刻

對于臺積電來說,他們今年依然會狂購極紫外光刻,用最先進的工藝來確保自己處于競爭的最有力地位。
2021-01-26 11:21:511137

5nm光刻機搶破頭:臺積電下達18臺光刻機需求

如今全球芯片短缺,不僅僅已經(jīng)嚴(yán)重營銷到了科技數(shù)碼產(chǎn)業(yè),就連汽車產(chǎn)業(yè)也深受其害。 為了滿足2021年的需求激增,目前有國外媒體稱臺積電一口氣向荷蘭ASML下達了18臺最先進的極紫外光刻機需求,如此之
2021-01-27 09:56:082956

未來極紫外光刻技術(shù)將如何發(fā)展?產(chǎn)業(yè)格局如何演變?

近日,荷蘭的光刻機制造商阿斯麥(ASML)發(fā)布2020年度財報,全年凈銷售額達到140億歐元,毛利率達到48.6%。ASML同時宣布實現(xiàn)第100套極紫外光刻(EUV)系統(tǒng)的出貨,至2020年年底已有
2021-02-01 09:30:232588

SK海力士M16工廠已安裝極紫外光刻機 開始試生產(chǎn)1anm DRAM

,也購進了極紫外光刻機,用于生產(chǎn)相關(guān)的芯片。 SK海力士已購入極紫外光刻機的消息,源自外媒中提到的M16工廠。外媒在報道中表示,SK海力士M16工廠的建設(shè)已經(jīng)完成,極紫外光刻機也已經(jīng)安裝到位,將用于生產(chǎn)DRAM(動態(tài)隨機存取存儲器)。
2021-02-02 18:08:482632

SK海力士將大量購買極紫外光刻

2月25日消息,據(jù)國外媒體報道,芯片制程工藝提升至5nm的臺積電和三星,已從阿斯麥購買了大量的極紫外光刻機,并且還在大量購買。
2021-02-26 09:22:011530

關(guān)于紫外光耐氣候試驗箱的介紹

UV4000紫外光耐氣候試驗箱主要用于模擬對陽光、潮濕和溫度對材料的破壞作用;材料老化包括褪色、失光、強度降低、開裂、剝落、粉化和氧化等。紫外光耐氣候試驗箱通過模擬陽光、冷凝、模仿自然潮濕,試樣
2021-06-02 15:22:05624

UV4000紫外光耐氣候試驗箱的符合標(biāo)準(zhǔn)有哪些

UV4000紫外光耐氣候試驗箱主要用于模擬對陽光、潮濕和溫度對材料的破壞作用;材料老化包括褪色、失光、強度降低、開裂、剝落、粉化和氧化等。 紫外光耐氣候試驗箱通過模擬陽光、冷凝、模仿自然潮濕,試樣
2021-06-17 15:34:56452

光刻機的核心部件是什么

一臺高端的光刻機由上萬個零部件構(gòu)成,光刻機的主要核心部件主要分為兩個部分:分別是對準(zhǔn)系統(tǒng)和紫外光源。
2022-01-03 17:09:0016944

紫外光通信技術(shù):紫外光通信的基本原理

紫外光通信是以大氣分子和子溶膠粒子的散射和吸收為基礎(chǔ)的。紫外光通信基于兩個相互關(guān)聯(lián)的物理現(xiàn)象:一是大氣層中的臭氧對波長在200nm到280nm之間的紫外光有強烈的吸收作用,這個區(qū)域被叫做日盲區(qū)
2022-03-18 10:11:034253

90nm光刻機能生產(chǎn)什么的芯片

光刻機是制作芯片的關(guān)鍵設(shè)備,利用光刻機發(fā)出的紫外光源通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的硅片曝光,使光刻膠性質(zhì)變化、達到圖形刻印在硅片上形成電子線路圖。我國目前還是采用什深紫外光的193nm制程工藝,如上海微電子裝備公司(CMEE)制程90nm工藝的光刻機,那么90nm光刻機能生產(chǎn)什么芯片呢?
2022-06-30 09:46:2131257

三星斥資買新一代光刻機 中芯光刻機最新消息

三星電子和ASML就引進今年生產(chǎn)的EUV光刻機和明年推出高數(shù)值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機達成采購協(xié)議。
2022-07-05 15:26:155634

duv光刻機和euv光刻機區(qū)別是什么

目前,光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線,EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù),EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127

紫外光表面清洗技術(shù)與UV光清洗機

低壓紫外汞燈發(fā)射的雙波段短波紫外光照射到試件表面后,與有機污染物發(fā)生光敏氧化作用,不僅能去除污染物而且能改善表面的性能,從而提高物體表面的浸潤性和粘合強度,或者使材料表面得到穩(wěn)定的表面性能。根據(jù)
2022-08-18 16:16:301080

看一下EUV光刻的整個過程

EUV 光刻是以波長為 10-14nm 的極紫外光作為光源的芯片光刻技術(shù),簡單來說,就是以極紫外光作“刀”,對芯片上的晶圓進行雕刻,讓芯片上的電路變成人們想要的圖案。
2022-10-10 11:15:024367

UV紫外光導(dǎo)電銀漿固化不徹底的主要原因有哪些

UV紫外光導(dǎo)電銀漿固化不徹底的主要原因有哪些 SHAREX在導(dǎo)電銀漿領(lǐng)域已經(jīng)有十多年的開發(fā)經(jīng)驗,特別是最近開發(fā)的AS5100系列UV紫外光固化導(dǎo)電銀漿獲得客戶的廣泛認可,由于光固化銀漿是個新生的品類
2022-10-15 15:05:501206

?焦點芯聞丨ASML 阿斯麥 CEO 透露高數(shù)值孔徑極紫外光刻機 2024 年開始出貨

熱點新聞 1、 ASML 阿斯麥 CEO 透露高數(shù)值孔徑極紫外光刻機 2024?年開始出貨 據(jù)國外媒體報道,光刻機制造商阿斯麥的 CEO 兼總裁彼得?維尼克 (Peter Wennink),在本周
2022-11-18 19:00:033971

基于選擇性紫外光刻的光纖微圖案化

科學(xué)家利用選擇性紫外光刻實現(xiàn)復(fù)合纖維材料的光纖微圖案化
2022-12-22 14:58:13194

紫外光刻機(桌面型掩膜對準(zhǔn))

MODEL:XT-01-UVlitho-手動版一、產(chǎn)品簡介光刻技術(shù)是現(xiàn)代半導(dǎo)體、微電子、信息產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ),是集成電路最重要的加工工藝。光刻膠在紫外光的照射下發(fā)生化學(xué)變化,通過曝光、顯影、刻蝕等工藝過程
2022-12-20 09:24:261211

霍爾效應(yīng)產(chǎn)生誤差的原因

霍爾效應(yīng)實驗是一個受系統(tǒng)誤差影響較大的實驗,特別是在霍爾效應(yīng)產(chǎn)生的同時,伴隨產(chǎn)生的其他效應(yīng)引起的附加電場對實驗影響較大。霍爾效應(yīng)產(chǎn)生誤差的原因主要有以下幾點:
2023-07-03 17:17:042566

虹科案例 | 用于低成本改造光刻設(shè)備的UV紫外光

,半導(dǎo)體制造領(lǐng)域使用 傳統(tǒng)大功率汞燈技術(shù) 用于光刻設(shè)備的紫外光源。這種光源雖然輸出功率高,但輸出光譜范圍寬,制造和生產(chǎn)過程中會產(chǎn)生對環(huán)境有害的物質(zhì),并且工作壽命短,更換周期頻繁。 UVLED 具有獨特的技術(shù)優(yōu)勢和成本優(yōu)勢,能夠輸
2023-07-05 10:11:241026

紫外光刻復(fù)雜照明光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計

。照明系統(tǒng)是光刻機的重要組成部分,其主要作用是提供高均勻性照明、控制曝光劑量和實現(xiàn)離軸照明,以提高光刻分辨率和增大焦深。論文以深紫外光刻照明系統(tǒng)光學(xué)設(shè)計為研究方向,對照明系統(tǒng)關(guān)鍵單元進行了光學(xué)設(shè)計與仿真研究。
2023-07-17 11:02:38592

紫外光固化系統(tǒng)在制造和生產(chǎn)中的優(yōu)勢有哪些

在uvitron,我們直接了解紫外光固化設(shè)備如何成為許多行業(yè)的關(guān)鍵技術(shù),紫外光固化系統(tǒng)的好處很多,該技術(shù)對許多工業(yè)過程的效率、質(zhì)量和可持續(xù)性產(chǎn)生了重大影響。
2023-07-21 11:42:17286

考慮光刻中厚掩模效應(yīng)的邊界層模型

短波長透明光學(xué)元件的缺乏限制了深紫外光刻中的可用波長,而晶片上所需的最小特征繼續(xù)向更深的亞波長尺度收縮。這對用入射場代替掩模開口上的場的基爾霍夫邊界條件造成了嚴(yán)重的限制,因為這種近似無法考慮光刻圖像
2023-08-25 17:21:43279

紫外μLED作為日盲紫外光通信光源的研究現(xiàn)狀和綜合分析

實現(xiàn)深紫外光通信的一個關(guān)鍵器件是深紫外光源。早期深紫外光源利用高壓汞燈實現(xiàn),但汞燈的調(diào)制帶寬非常小,這嚴(yán)重影響了深紫光通信的傳輸速率。
2023-09-05 11:13:00484

紫外 (EUVL) 光刻設(shè)備技術(shù)應(yīng)用分析

歐洲極紫外光刻(EUVL)技術(shù)利用波長為13.5納米的光子來制造集成電路。產(chǎn)生這種光的主要來源是使用強大激光器產(chǎn)生的熱錫等離子體。激光參數(shù)被調(diào)整以產(chǎn)生大多數(shù)在13.5納米附近發(fā)射的錫離子(例如Sn10+-Sn15+)。
2023-09-25 11:10:50264

紫外光子滅活技術(shù)

廈門大學(xué)康俊勇教授、尹君副教授課題組根據(jù)致病菌中遺傳物質(zhì)、蛋白質(zhì)的紫外光吸收特性,開發(fā)了一種由275-nm氮化物L(fēng)ED組成的大功率(3.2 W)且輻照均勻的平面光源,能夠在1秒內(nèi)完成對新冠病毒
2023-10-17 15:22:23878

基于單LED的無線紫外光通信系統(tǒng)設(shè)計與實現(xiàn)

電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《基于單LED的無線紫外光通信系統(tǒng)設(shè)計與實現(xiàn).pdf》資料免費下載
2023-10-26 14:32:211

與常規(guī)通信方式相比,紫外光通信有哪些優(yōu)勢?

紫外光通信系統(tǒng)是一種新型的通信手段,與常規(guī)的通信系統(tǒng)相比,有很多優(yōu)勢。
2023-11-28 09:38:20538

簡儀科技紫外光子成像技術(shù)應(yīng)用

在面對紫外光子成像技術(shù)時,面臨著諸多挑戰(zhàn)。光子密度大、需要高頻觸發(fā)采集,以及實時計算光子位置進行譜圖繪制,這些都對采集設(shè)備的性能提出了極高的要求。
2024-03-20 09:56:0777

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