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ASM啟用功新的PowerFill外延技術(shù)的電源設(shè)備

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2021-04-02 15:08:0218

EE-32:語言擴(kuò)展:內(nèi)存存儲類型、ASM和內(nèi)聯(lián)構(gòu)造

EE-32:語言擴(kuò)展:內(nèi)存存儲類型、ASM和內(nèi)聯(lián)構(gòu)造
2021-04-25 09:32:227

砷化鎵基板對外延磊晶質(zhì)量造成哪些影響

最近做芯片和外延的研究,發(fā)現(xiàn)同樣的外延工藝和芯片工藝做出來的芯片性能差別很大,大到改變試驗設(shè)計的“世界觀”?;逡r底的質(zhì)量好壞很關(guān)鍵。
2021-08-12 10:55:584302

開關(guān)電源如何選用功率電感

開關(guān)電源如何選用功率電感(通信電源技術(shù)雜志社電話)-開關(guān)電源如何選用電感,非常不錯的技術(shù)資料!功率電感 – 怎樣選擇- 8個設(shè)計小貼士 -
2021-09-27 12:07:5127

Oracle如何實現(xiàn)外部調(diào)用功能講解

Oracle如何實現(xiàn)外部調(diào)用功能講解(直流穩(wěn)壓電源技術(shù)參數(shù))-該文檔為Oracle如何實現(xiàn)外部調(diào)用功能講解文檔,是一份不錯的參考文檔,感興趣的可以看看,,,,,,,,,
2021-09-28 13:46:5310

穩(wěn)壓電源元件使用功率FET應(yīng)注意的問題

型號。今天中港揚盛技術(shù)員就跟大家聊聊使用功率FET應(yīng)該注意的問題有哪些。電路的綜合成本超過雙極型晶體管,尤其是在開關(guān)頻率提高的情況下,功率FET是不可缺少的元件。功率FET用于開關(guān)電源時,若使用雙極型晶體...
2021-11-07 17:06:0013

ESPIDF開發(fā)ESP32學(xué)習(xí)筆記【電源管理與低功耗模式】

組件可以通過創(chuàng)建和獲取電源管理鎖來控制功耗編譯時可使用CONFIG_PM_ENABLE選項啟用電源管理功能電源管理配置(摘自官網(wǎng))啟用電源管理功能將會增加中斷延遲。額外延遲與多個因素有關(guān),例如CPU頻率、單/雙核模式、是否需要進(jìn)行頻率切換等(CPU 頻率為 240 MHz 且未啟用頻率調(diào)節(jié)時,最小額外延
2022-01-05 14:38:443

基于ASM Box的控制器模型調(diào)制應(yīng)用

完成接線并數(shù)據(jù)閃存之后,便可在特定軟件環(huán)境中對溫度信號進(jìn)行調(diào)。通過環(huán)境界面中的標(biāo)定變量 “ASM_Temp_facTGain_C” 和 “ASM_Temp_tOfst_C” 增大或減小ECU讀到的溫度值,達(dá)到終端客戶要求。
2022-07-14 16:07:45792

ASM磁盤組掉線導(dǎo)致Oracle與ASM實例無法掛載的數(shù)據(jù)恢復(fù)案例

重組ASM存儲空間,從底層解析ASM磁盤,導(dǎo)出數(shù)據(jù)庫文件。從底層解析這些數(shù)據(jù)庫文件,按用戶將數(shù)據(jù)導(dǎo)入到新的數(shù)據(jù)庫中。
2022-09-26 11:15:231928

外延工藝(Epitaxy)

固相外延,是指固體源在襯底上生長一層單晶層,如離子注入后的熱退火實際上就是一種固相外延過程。離于注入加工時,硅片的硅原子受到高能注入離子的轟擊
2022-11-09 09:33:5210250

廣州企業(yè)發(fā)布6英寸900V硅基氮化鎵外延

外延片專為新能源汽車電驅(qū)系統(tǒng)開發(fā),以適用目前更高效的800V電壓架構(gòu)。并且該外延片基于國產(chǎn)設(shè)備開發(fā),完全自主可控。
2022-11-18 10:08:54900

氮化鎵外延片工藝介紹 氮化鎵外延片的應(yīng)用

氮化鎵外延片生長工藝較為復(fù)雜,多采用兩步生長法,需經(jīng)過高溫烘烤、緩沖層生長、重結(jié)晶、退火處理等流程。兩步生長法通過控制溫度,以防止氮化鎵外延片因晶格失配或應(yīng)力而產(chǎn)生翹曲,為目前全球氮化鎵外延片主流制備方法。
2023-02-05 14:50:004345

硅基氮化鎵外延片是什么 硅基氮化鎵外延片工藝

氮化鎵外延片指采用外延方法,使單晶襯底上生長一層或多層氮化鎵薄膜而制成的產(chǎn)品。近年來,在國家政策支持下,我國氮化鎵外延片行業(yè)規(guī)模不斷擴(kuò)大。
2023-02-06 17:14:353012

化學(xué)氣相沉積法碳化硅外延設(shè)備技術(shù)進(jìn)展

碳化硅(SiC)是制作高溫、高頻、大功率電子器件的理想電子材料,近20 年來隨著外延設(shè)備和工藝技術(shù)水平不斷 提升,外延膜生長速率和品質(zhì)逐步提高,碳化硅在新能源汽車、光伏產(chǎn)業(yè)、高壓輸配線和智能電站
2023-02-16 10:50:096935

GaN HEMT外延材料表征技術(shù)研究進(jìn)展

晶體管 ( HEMT) 的性能,不同材料特征的表征需要不同的測量工具和 技術(shù),進(jìn)而呈現(xiàn)器件性能的優(yōu)劣。綜述了 GaN HEMT 外延材料的表征技術(shù),詳細(xì)介紹了幾種表 征技術(shù)的應(yīng)用場景和近年來國內(nèi)外的相關(guān)
2023-02-20 11:47:22876

氮化鎵外延片工藝流程介紹 外延片與晶圓的區(qū)別

氮化鎵外延片工藝是一種用于制備氮化鎵外延片的工藝,主要包括表面清洗、氮化處理、清洗處理、干燥處理和檢測處理等步驟。
2023-02-20 15:50:3210569

Oracle數(shù)據(jù)庫ASM磁盤組掉線的數(shù)據(jù)恢復(fù)案例

數(shù)據(jù)庫故障: Oracle數(shù)據(jù)庫的ASM磁盤組掉線,ASM實例不能掛載。管理員嘗試修復(fù)數(shù)據(jù)庫但是沒有成功。 數(shù)據(jù)庫數(shù)據(jù)恢復(fù)方案: 數(shù)據(jù)庫數(shù)據(jù)恢復(fù)工程師通過分析組成ASM磁盤組的磁盤
2023-03-03 13:42:50571

半導(dǎo)體工藝之氣相外延介紹

在半導(dǎo)體科學(xué)技術(shù)的發(fā)展中,氣相外延發(fā)揮了重要作用,該技術(shù)已廣泛用于Si半導(dǎo)體器件和集成電路的工業(yè)化生產(chǎn)。
2023-05-19 09:06:462467

SiC外延工藝基本介紹

外延層是在晶圓的基礎(chǔ)上,經(jīng)過外延工藝生長出特定單晶薄膜,襯底晶圓和外延薄膜合稱外延片。其中在導(dǎo)電型碳化硅襯底上生長碳化硅外延層制得碳化硅同質(zhì)外延片,可進(jìn)一步制成肖特基二極管、MOSFET、 IGBT 等功率器件,其中應(yīng)用最多的是4H-SiC 型襯底。
2023-05-31 09:27:092827

如何計算啟用4個內(nèi)核的T4241的功率?

如何計算啟用4個內(nèi)核的T4241的功率? 要計算T4241啟用4個內(nèi)核的功率,需要知道以下信息: 1. T4241的額定電源電壓和電流 2. T4241啟用一個內(nèi)核的功耗 3. T4241啟用四個
2023-06-01 15:12:47278

TPS3431-Q1是一款帶啟用功能的汽車標(biāo)準(zhǔn)的可編程看門狗定時器

TPS3431-Q1是標(biāo)準(zhǔn)的汽車帶啟用功能的可編程看門狗定時器用于汽車應(yīng)用??撮T狗超時具有15%的精度,高精度計時(-40°C至+125°C),25oC時通常為2.5%。這個看門狗超時可以通過外部
2023-07-19 11:27:40408

SiC外延片測試需要哪些分析

對于摻雜的SiC外延片,紅外光譜測量膜厚為通用的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。碳化硅襯底與外延層因摻雜濃度的不同導(dǎo)致兩者具有不同的折射率,因此試樣的反射光譜會出現(xiàn)反映外延層厚度信息的連續(xù)干涉條紋。
2023-08-05 10:31:47914

數(shù)據(jù)庫數(shù)據(jù)恢復(fù)-Oracle ASM故障數(shù)據(jù)恢復(fù)案例

數(shù)據(jù)庫數(shù)據(jù)恢復(fù)環(huán)境: Oracle數(shù)據(jù)庫ASM磁盤組有4塊成員盤。 數(shù)據(jù)庫故障&分析: Oracle數(shù)據(jù)庫ASM磁盤組掉線 ,ASM實例無法掛載,用戶聯(lián)系我們要求恢復(fù)oracle數(shù)據(jù)庫。
2023-08-11 15:27:24851

SiC外延片制備技術(shù)解析

碳化硅功率器件與傳統(tǒng)硅功率器件制作工藝不同,不能直接制作在碳化硅單晶材料上,必須在導(dǎo)通型單晶襯底上額外生長高質(zhì)量的外延材料,并在外延層上制造各類器件。
2023-08-15 14:43:341001

荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASM上調(diào)2025年營收目標(biāo)

asm預(yù)計兩年內(nèi)銷售額將從28億至34億歐元增加到30億至36億歐元。asm還重申了2023至2025年的總利潤率為46%至50%,營業(yè)利潤率為26至31%的目標(biāo)。他還表示,將2026年至2027年設(shè)定了同樣的目標(biāo),此后營業(yè)利潤率將呈現(xiàn)上升趨勢。
2023-09-27 09:45:53449

什么是外延工藝?什么是單晶與多晶?哪些地方會涉及到外延工藝?

外延工藝的介紹,單晶和多晶以及外延生長的方法介紹。
2023-11-30 18:18:16878

分子束外延(MBE)工藝及設(shè)備原理介紹

分子束外延(Molecular beam epitaxy,MBE)是一種在超高真空狀態(tài)下,進(jìn)行材料外延技術(shù),下圖為分子束外延的核心組成,包括受熱的襯底和釋放到襯底上的多種元素的分子束。
2024-01-15 18:12:10963

碳化硅外延設(shè)備企業(yè)納設(shè)智能開啟上市輔導(dǎo)

證監(jiān)會近日公告顯示,深圳市納設(shè)智能裝備股份有限公司(簡稱“納設(shè)智能”)已正式開啟首次公開發(fā)行股票并上市的輔導(dǎo)備案程序。該公司專注于第三代半導(dǎo)體碳化硅(SiC)外延設(shè)備以及石墨烯等先進(jìn)材料的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和應(yīng)用推廣,是國產(chǎn)碳化硅外延設(shè)備的領(lǐng)軍企業(yè)。
2024-02-26 17:28:02487

普興電子擬建六寸低密缺陷碳化硅外延片產(chǎn)線

預(yù)計該項目投資總額3.5億元人民幣,將引進(jìn)碳化硅外延設(shè)備及輔助設(shè)備共計116套。其中包括一條具備24萬片年產(chǎn)量的6英寸低密度缺陷碳化硅外延材料產(chǎn)線。
2024-02-29 16:24:01217

晶盛機電6英寸碳化硅外延設(shè)備熱銷,訂單量迅猛增長

聚焦碳化硅襯底片和碳化硅外延設(shè)備兩大業(yè)務(wù)。公司已掌握行業(yè)領(lǐng)先的8英寸碳化硅襯底技術(shù)和工藝,量產(chǎn)晶片的核心位錯達(dá)到行業(yè)領(lǐng)先水平。
2024-03-22 09:39:2965

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