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伯東企業(yè)（上海）有限公司

上海伯東是德國Pfeiffer 全系列真空產品,美國 KRI 離子源,美國HVA 真空閥門,美國 inTEST熱流儀代理商

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美國 KRi 考夫曼離子源,真空鍍膜離子源

型號： KDC 75

--- 產品參數(shù) ---

  • 產地 美國
  • 類型 考夫曼離子源

--- 產品詳情 ---

因產品配置不同, 價格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實際成交合同為準

KRI 考夫曼離子源 KDC 75
上海伯東代理美國原裝進口 KRI 考夫曼離子源 KDC 75: 緊湊柵極離子源, 離子束直徑 14 cm ,可安裝在 8“CF法蘭. 適用于中小型腔內, 考夫曼離子源 KDC 75 包含2個陰極燈絲, 其中一個作為備用, KDC 75 提供緊密聚焦的電子束特別適合濺射鍍膜. 標準配置下離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 250 mA.
 

KRI 考夫曼離子源 KDC 75 技術參數(shù)
通過加熱燈絲產生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 離子源增強設計輸出低電流高能量寬束型離子束, 通過同時的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 實現(xiàn)輔助鍍膜 IBAD.

* 可選: 一個陰極燈絲; 可調角度的支架

KRI 考夫曼離子源 KDC 75 應用領域
濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
離子濺射沉積和多層結構 IBSD
離子蝕刻 IBE

KRi KDC 考夫曼離子源典型案例:
設備: e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)
離子源型號: KDC 75
應用: IBAD 輔助鍍膜, 在玻璃上鍍上高反射率膜 (光柵的鍍膜)
離子源對工藝過程的優(yōu)化: 無需加熱襯底, 對溫度敏感材料進行低溫處理, 簡化反應沉積

IBAD輔助鍍膜



若您需要進一步的了解 KRi 考夫曼離子源, 請聯(lián)絡上海伯東葉女士分機107

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