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標(biāo)簽 > 光刻工藝

光刻工藝

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光刻工藝技術(shù)

光刻工藝的基本步驟

傳統(tǒng)的光刻工藝是相對(duì)目前已經(jīng)或尚未應(yīng)用于集成電路產(chǎn)業(yè)的先進(jìn)光刻工藝而言的,普遍認(rèn)為 193nm 波長(zhǎng)的 ArF 深紫外光刻工藝是分水嶺(見下表)。這是因...

2022-10-18 標(biāo)簽:芯片集成電路光刻工藝 1.6萬(wàn) 0

GAA器件集成工藝與關(guān)鍵挑戰(zhàn)

GAA器件集成工藝與關(guān)鍵挑戰(zhàn)

GAA,一般指全環(huán)繞柵極晶體管(Gate-All-Around FET)。GAA被廣泛認(rèn)為是鰭式結(jié)構(gòu)(FinFET)的下一代接任者。下面簡(jiǎn)單介紹一下GA...

2023-08-22 標(biāo)簽:工藝晶體管FET 8731 0

光學(xué)鄰近效應(yīng)修正技術(shù)的基本知識(shí)

光學(xué)鄰近效應(yīng)修正技術(shù)的基本知識(shí)

在上一節(jié)計(jì)算光學(xué)小講堂中,我們學(xué)習(xí)了光源掩模協(xié)同優(yōu)化(source mask co-optimization, SMO)的相關(guān)知識(shí)。這一節(jié)我們將主要探索...

2023-09-01 標(biāo)簽:OPC光學(xué)系統(tǒng)光刻機(jī) 5055 0

淺談半導(dǎo)體制造中的光刻工藝

淺談半導(dǎo)體制造中的光刻工藝

在之前的文章里,我們介紹了晶圓制造、氧化過程和集成電路的部分發(fā)展史?,F(xiàn)在,讓我們繼續(xù)了解光刻工藝,通過該過程將電子電路圖形轉(zhuǎn)移到晶圓上。光刻過程與使用膠...

2023-06-28 標(biāo)簽:芯片半導(dǎo)體晶圓 4783 0

厚膜材料新技術(shù)趨勢(shì)研究——光刻型厚膜漿料

厚膜材料新技術(shù)趨勢(shì)研究——光刻型厚膜漿料

單針對(duì)厚膜電路技術(shù),其核心材料厚膜漿料就在電子產(chǎn)品制造過程中,應(yīng)用的行業(yè)領(lǐng)域十分廣泛,包括消費(fèi)電子、汽車、物聯(lián)網(wǎng)、電信、生物醫(yī)學(xué)、太空和軍事等。電子產(chǎn)品...

2022-03-29 標(biāo)簽:電感器光刻工藝厚膜材料 4779 0

半導(dǎo)體制造工藝最強(qiáng)科普

半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中,制造工工程被稱為工藝(Process),理由是什么?雖然沒有明確的答案,但與其說加工尺寸微?。壳笆莕m制程),不如說制造過程無(wú)法用肉眼看到所致。

2023-02-21 標(biāo)簽:半導(dǎo)體晶圓制造工藝 4237 0

什么是光刻工藝?光刻的基本原理

什么是光刻工藝?光刻的基本原理

光刻是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)流程中最復(fù)雜、最關(guān)鍵的工藝步驟,耗時(shí)長(zhǎng)、成本高。半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)的難點(diǎn)和關(guān)鍵點(diǎn)在于將電路圖從掩模上轉(zhuǎn)移至硅片上,這一過程通過光刻來實(shí)現(xiàn)...

2023-08-23 標(biāo)簽:集成電路半導(dǎo)體光刻工藝 3605 0

半導(dǎo)體制造之光刻工藝講解

半導(dǎo)體制造之光刻工藝講解

光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化,從而使光罩上得圖...

2023-12-04 標(biāo)簽:半導(dǎo)體光刻機(jī)半導(dǎo)體制造 3338 0

光刻技術(shù)概述及其分類

光刻技術(shù)概述及其分類

光刻是一種圖像復(fù)制技術(shù),是集成電路工藝中至關(guān)重要的一項(xiàng)工藝。簡(jiǎn)單地說,光刻類似照相復(fù)制方法,即將掩膜版上的圖形精確地復(fù)制到涂在硅片表面的光刻膠或其他掩蔽...

2023-08-07 標(biāo)簽:芯片半導(dǎo)體光刻技術(shù) 2824 0

一文了解DPC陶瓷基板工藝流程

一文了解DPC陶瓷基板工藝流程

直接鍍銅陶瓷基板(Direct Plating Copper, DPC)是在陶瓷薄膜工藝加工基礎(chǔ)上發(fā)展起來的陶瓷電路加工工藝。以氮化鋁/氧化鋁陶瓷作為線...

2023-05-31 標(biāo)簽:陶瓷基板光刻工藝 2712 0

虹科技術(shù)|半導(dǎo)體制造工藝中的UV-LED光源

虹科技術(shù)|半導(dǎo)體制造工藝中的UV-LED光源

半導(dǎo)體行業(yè)借助紫外光譜范圍(i 線:365 nm、h線:405 nm和g線:436 nm)中的高功率輻射在各種光刻、曝光和顯影工藝中創(chuàng)建復(fù)雜的微觀結(jié)構(gòu)

2023-04-24 標(biāo)簽:半導(dǎo)體LED光源光刻工藝 1890 0

半導(dǎo)體制造工藝之光刻工藝詳解

半導(dǎo)體制造工藝之光刻工藝詳解

半導(dǎo)體制造工藝之光刻工藝詳解

2023-08-24 標(biāo)簽:半導(dǎo)體制造工藝光刻工藝 1881 0

晶圓級(jí)封裝的五項(xiàng)基本工藝

晶圓級(jí)封裝的五項(xiàng)基本工藝

在本文中,我們將重點(diǎn)介紹半導(dǎo)體封裝的另一種主要方法——晶圓級(jí)封裝(WLP)。本文將探討晶圓級(jí)封裝的五項(xiàng)基本工藝,包括:光刻(Photolithograp...

2024-01-24 標(biāo)簽:半導(dǎo)體封裝芯片封裝晶圓級(jí)封裝 1671 0

光刻技術(shù)簡(jiǎn)述

光刻技術(shù)簡(jiǎn)述

光刻技術(shù)是將掩模中的幾何形狀的圖案轉(zhuǎn)移到覆蓋在半導(dǎo)體晶片表面的薄層輻射敏感材料(稱為抗蝕劑)上的過程

2023-04-25 標(biāo)簽:半導(dǎo)體光刻光刻工藝 1614 0

常見的晶圓顯影方式

常見的晶圓顯影方式

晶圓顯影過程是光刻工序中必不可少的步驟,顯影過程已經(jīng)經(jīng)歷了幾十年的創(chuàng)新和進(jìn)步。那么常見的顯影方式有幾種?顯影液的種類有哪些?顯影的機(jī)理是什么?顯影主要的...

2023-09-11 標(biāo)簽:芯片晶圓光刻膠 1435 0

淺談半導(dǎo)體制造中的刻蝕工藝

淺談半導(dǎo)體制造中的刻蝕工藝

在上一篇文章,我們介紹了光刻工藝,即利用光罩(掩膜)把設(shè)計(jì)好的電路圖形繪制在涂覆了光刻膠的晶圓表面上。下一步,將在晶圓上進(jìn)行刻蝕工藝,以去除不必要的材料...

2023-06-28 標(biāo)簽:半導(dǎo)體等離子體晶圓 1295 0

功率半導(dǎo)體分立器件你了解多少呢?

功率半導(dǎo)體分立器件的應(yīng)用十分廣泛,幾乎覆蓋了所有的電子制造業(yè),傳統(tǒng)應(yīng)用領(lǐng)域包括消費(fèi)電子、網(wǎng)絡(luò)通信、工業(yè)電機(jī)等。近年來,新能源汽車及充電系統(tǒng)、軌道交通、智...

2023-05-26 標(biāo)簽:分立器件SiC功率半導(dǎo)體 872 0

關(guān)于電子束光刻工藝技術(shù)解讀

束流消除器:兩個(gè)平行板電極之間的直流偏置(~42 v)是否垂直于電子路徑,使電子偏離軸,從而“轉(zhuǎn)動(dòng)”關(guān)閉/阻塞/被下面的孔所覆蓋。

2022-11-21 標(biāo)簽:電子束光刻工藝 851 0

CVD與PVD的工藝特征及其建模方法

CVD與PVD的工藝特征及其建模方法

中國(guó)科學(xué)院大學(xué)集成電路學(xué)院是國(guó)家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院。為了提高學(xué)生對(duì)先進(jìn)光刻技術(shù)的理解,本學(xué)期集成電路學(xué)院開設(shè)了《集成電路先進(jìn)光刻技術(shù)與版圖設(shè)...

2023-05-16 標(biāo)簽:集成電路CVD光刻工藝 824 0

光刻工藝中的測(cè)量標(biāo)記

光刻工藝中的測(cè)量標(biāo)記

中國(guó)科學(xué)院大學(xué)集成電路學(xué)院是國(guó)家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院。為了提高學(xué)生對(duì)先進(jìn)光刻技術(shù)的理解,本學(xué)期集成電路學(xué)院開設(shè)了《集成電路先進(jìn)光刻技術(shù)與版圖設(shè)...

2023-07-07 標(biāo)簽:集成電路微電子測(cè)量 652 0

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  • IOT
    IOT
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    IoT是Internet of Things的縮寫,字面翻譯是“物體組成的因特網(wǎng)”,準(zhǔn)確的翻譯應(yīng)該為“物聯(lián)網(wǎng)”。物聯(lián)網(wǎng)(Internet of Things)又稱傳感網(wǎng),簡(jiǎn)要講就是互聯(lián)網(wǎng)從人向物的延伸。
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    海思
    +關(guān)注
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    STM32F103C8T6是一款集成電路,芯體尺寸為32位,程序存儲(chǔ)器容量是64KB,需要電壓2V~3.6V,工作溫度為-40°C ~ 85°C。
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    數(shù)字隔離
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    數(shù)字隔離技術(shù)常用于工業(yè)網(wǎng)絡(luò)環(huán)境的現(xiàn)場(chǎng)總線、軍用電子系統(tǒng)和航空航天電子設(shè)備中,尤其是一些應(yīng)用環(huán)境比較惡劣的場(chǎng)合。數(shù)字隔離電路主要用于數(shù)字信號(hào)和開關(guān)量信號(hào)的傳輸。另一個(gè)重要原因是保護(hù)器件(或人)免受高電壓的危害。本文詳細(xì)介紹了數(shù)字隔離器工作原理及特點(diǎn),選型及應(yīng)用,各類數(shù)字隔離器件性能比較等內(nèi)容。
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    STC12C5A60S2
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    循跡小車
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  • 光立方
    光立方
    +關(guān)注
    光立方是由四千多棵光藝高科技“發(fā)光樹”組成的,在2009年10月1日天安門廣場(chǎng)舉行的國(guó)慶聯(lián)歡晚會(huì)上面世。這是新中國(guó)成立六十周年國(guó)慶晚會(huì)最具創(chuàng)意的三大法寶之首。
  • K60
    K60
    +關(guān)注
  • LM2596
    LM2596
    +關(guān)注
    LM2596是降壓型電源管理單片集成電路的開關(guān)電壓調(diào)節(jié)器,能夠輸出3A的驅(qū)動(dòng)電流,同時(shí)具有很好的線性和負(fù)載調(diào)節(jié)特性。固定輸出版本有3.3V、5V、12V,可調(diào)版本可以輸出小于37V的各種電壓。
  • 光模塊
    光模塊
    +關(guān)注
    光模塊(optical module)由光電子器件、功能電路和光接口等組成,光電子器件包括發(fā)射和接收兩部分。簡(jiǎn)單的說,光模塊的作用就是光電轉(zhuǎn)換,發(fā)送端把電信號(hào)轉(zhuǎn)換成光信號(hào),通過光纖傳送后,接收端再把光信號(hào)轉(zhuǎn)換成電信號(hào)。
  • STM32單片機(jī)
    STM32單片機(jī)
    +關(guān)注
    STM32系列基于專為要求高性能、低成本、低功耗的嵌入式應(yīng)用專門設(shè)計(jì)的ARM Cortex-M3內(nèi)核
  • 步進(jìn)驅(qū)動(dòng)器
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    COMSOL
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    COMSOL集團(tuán)是全球多物理場(chǎng)建模解決方案的提倡者與領(lǐng)導(dǎo)者。憑借創(chuàng)新的團(tuán)隊(duì)、協(xié)作的文化、前沿的技術(shù)、出色的產(chǎn)品,這家高科技工程軟件公司正飛速發(fā)展,并有望成為行業(yè)領(lǐng)袖。其旗艦產(chǎn)品COMSOL Multiphysics 使工程師和科學(xué)家們可以通過模擬,賦予設(shè)計(jì)理念以生命。
  • 加速度傳感器
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    聯(lián)網(wǎng)技術(shù)
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    服務(wù)機(jī)器人
    +關(guān)注
    服務(wù)機(jī)器人是機(jī)器人家族中的一個(gè)年輕成員,到目前為止尚沒有一個(gè)嚴(yán)格的定義。不同國(guó)家對(duì)服務(wù)機(jī)器人的認(rèn)識(shí)不同。
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    四軸飛行器
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    SDK
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