電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/李寧遠(yuǎn)）提及芯片制造，首先想到的自然是光刻機(jī)和光刻技術(shù)。而眾所周知，EUV光刻機(jī)產(chǎn)能有限而且成本高昂，業(yè)界一直都在探索不完全依賴(lài)于EUV光刻機(jī)來(lái)生產(chǎn)高端芯片的技術(shù)和工藝。納米
2024-03-09 00:15:00
2911 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/李寧遠(yuǎn)）不久前，英特爾正式發(fā)布了一款硅自旋量子芯片，命名為“Tunnel Falls”。這也是繼去年10月英特爾宣布成功以現(xiàn)有硅半導(dǎo)體技術(shù)生產(chǎn)自旋量子計(jì)算芯片之后發(fā)布的迄今為止
2023-07-23 10:56:401997 
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/李寧遠(yuǎn)）提及芯片制造技術(shù)，首先想到的自然是光刻機(jī)和光刻技術(shù)。眾所周知在芯片行業(yè)，光刻是芯片制造過(guò)程中最重要、最繁瑣、最具挑戰(zhàn)也最昂貴的一項(xiàng)工藝步驟。在光刻機(jī)的支持下，摩爾定律
2023-07-16 01:50:153008 
光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展，每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次從接觸接近式光刻機(jī)發(fā)展到浸沒(méi)步進(jìn)式投影光刻機(jī)和極紫外式光刻機(jī)。
2024-03-21 11:31:4142 
據(jù)了解，這一成果填補(bǔ)了我國(guó)量子隨機(jī)數(shù)發(fā)生器芯片在毫米級(jí)領(lǐng)域的空白，成為首個(gè)攻克量子隨機(jī)數(shù)發(fā)生器商用規(guī)模化制約因素的重要里程碑。
2024-03-20 15:04:04226 制造集成電路的大多數(shù)工藝區(qū)域要求100級(jí)（空氣中每立方米內(nèi)直徑大于等于0.5μm的塵埃粒子總數(shù)不超過(guò)約3500）潔凈室，在光刻區(qū)域，潔凈室要求10級(jí)或更高。
2024-03-20 12:36:0056 
量子技術(shù)作為未來(lái)產(chǎn)業(yè)如何上“新”，硅臻芯片給出了自己的答案。硅臻芯片抓住光量子集成芯片方向，始終錨定關(guān)鍵量子器件芯片化目標(biāo)，用實(shí)用量子芯片為量子科技新賽道的產(chǎn)業(yè)化道路提供抓手。
2024-03-19 16:01:55373 
光刻是集成電路（IC或芯片）生產(chǎn)中的重要工藝之一。簡(jiǎn)單地說(shuō)，就是利用光掩模和光刻膠在基板上復(fù)制電路圖案的過(guò)程。
2024-03-18 10:28:15117 
3 月 13 日消息，光刻機(jī)制造商 ASML 宣布其首臺(tái)新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 已完成安裝，新機(jī)型將帶來(lái)更高的生產(chǎn)效率。 ▲ ASML 在 X 平臺(tái)上的相關(guān)動(dòng)態(tài)
2024-03-14 08:42:345 
首先感謝發(fā)燒友提供的試讀機(jī)會(huì)。 略讀一周，感觸頗深。首先量子計(jì)算機(jī)作為一種前沿技術(shù)，正逐步展現(xiàn)出其巨大的潛力，預(yù)示著未來(lái)社會(huì)和技術(shù)領(lǐng)域的深刻變革。下面，我將從幾個(gè)方面探討量子計(jì)算機(jī)如何重構(gòu)我們
2024-03-13 19:28:09
如何生產(chǎn)制造。。。。。。
近來(lái)通過(guò)閱讀《量子計(jì)算機(jī)—重構(gòu)未來(lái)》一書(shū)，結(jié)合網(wǎng)絡(luò)資料，了解了一點(diǎn)點(diǎn)量子疊加知識(shí)，分享給大家。
先提一下電子計(jì)算機(jī)，電子計(jì)算機(jī)使用二進(jìn)制表示信息數(shù)據(jù)，二進(jìn)制的信息單位是比特（bit
2024-03-13 17:19:18
來(lái)的，看了本書(shū)第一部分內(nèi)容，有了點(diǎn)認(rèn)識(shí)，但是感覺(jué)還是迷糊，還是沒(méi)有弄清楚什么是量子計(jì)算機(jī)，尤其是其原理。以下是個(gè)人讀完之后的一些理解。 書(shū)中1.4章節(jié)，以解決交通擁堵問(wèn)題為例進(jìn)行了距離，對(duì)比了傳統(tǒng)方法和量子
2024-03-11 12:50:10
據(jù)荷蘭《電訊報(bào)》3月6日?qǐng)?bào)道，因荷蘭政府的反移民政策傾向，光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）正計(jì)劃搬離荷蘭。
2024-03-08 14:02:15179 在曝光過(guò)程中，掩模版與涂覆有光刻膠的硅片直接接觸。接觸式光刻機(jī)的縮放比為1:1，分辨率可達(dá)到4-5微米。由于掩模和光刻膠膜層反復(fù)接觸和分離，隨著曝光次數(shù)的增加，會(huì)引起掩模版和光刻膠膜層損壞、芯片良率下降等不良后果。
2024-03-08 10:42:3788 
近日，光刻機(jī)巨頭ASML傳出可能因荷蘭政府的反移民政策傾向而考慮遷離本國(guó)的消息，這令業(yè)界嘩然。據(jù)悉，荷蘭政府為阻止這一可能發(fā)生的變故，已專(zhuān)門(mén)成立了由首相馬克·呂特親自?huà)鞄浀摹柏惗喾矣?jì)劃”特別工作組。
2024-03-07 15:36:51209 量子計(jì)算的瓶頸在于數(shù)據(jù)的裝載，而不是數(shù)據(jù)的計(jì)算。也就是說(shuō)，裝載數(shù)據(jù)遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)了數(shù)據(jù)計(jì)算的時(shí)間消耗。
作者提到了目前量子芯片的兩個(gè)前進(jìn)方向：1. 改善量子比特自身的品質(zhì) 2.準(zhǔn)備大量的量子比特來(lái)彌補(bǔ)比特
2024-03-06 23:17:41
英特爾最近因決定從荷蘭 ASML 購(gòu)買(mǎi)世界上第一臺(tái)高數(shù)值孔徑(High-NA)光刻機(jī)而成為新聞焦點(diǎn)。到目前為止，英特爾是全球唯一一家訂購(gòu)此類(lèi)光刻機(jī)的晶圓廠，據(jù)報(bào)道它們的售價(jià)約為3.8億美元
2024-03-06 14:49:01162 
利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過(guò)具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見(jiàn)光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線(xiàn)路圖的作用。
2024-03-06 14:28:5062 
欣喜收到《量子計(jì)算機(jī)——重構(gòu)未來(lái)》一書(shū)，感謝電子發(fā)燒友論壇提供了一個(gè)讓我了解量子計(jì)算機(jī)的機(jī)會(huì)！
自己對(duì)電子計(jì)算機(jī)有點(diǎn)了解，但對(duì)量子計(jì)算機(jī)真是一無(wú)所知，只是聽(tīng)說(shuō)過(guò)量子糾纏、超快的運(yùn)算速度等等，越發(fā)
2024-03-05 17:37:23
ASML在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中扮演著舉足輕重的角色，其光刻機(jī)技術(shù)和市場(chǎng)地位對(duì)于全球半導(dǎo)體制造廠商來(lái)說(shuō)都具有重要意義。
2024-03-05 11:26:00123 本帖最后由 oxlm_1 于 2024-3-4 23:24 編輯
非常感謝能有這次機(jī)會(huì)參與《量子計(jì)算機(jī)重構(gòu)未來(lái)》這本書(shū)的試讀活動(dòng)。當(dāng)看到這本書(shū)的測(cè)評(píng)時(shí)，首先好奇的是，量子計(jì)算機(jī)能做什么，為此
2024-03-04 23:09:44
光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料，可以通過(guò)光刻機(jī)上的模板或掩模來(lái)進(jìn)行曝光。
2024-03-04 17:19:18399 抓住科技前沿，就是找到人類(lèi)未來(lái)不遠(yuǎn)了。學(xué)習(xí)了解量子技術(shù)，為人類(lèi)創(chuàng)造價(jià)值。
2024-02-02 13:54:29
Takeishi向英國(guó)《金融時(shí)報(bào)》表示，公司計(jì)劃于2024年開(kāi)始出貨其納米壓印光刻機(jī)FPA-1200NZ2C，并補(bǔ)充說(shuō)芯片可以輕松以低成本制造。2023年11月，該公司表示該設(shè)備的價(jià)格將比ASML的EUV機(jī)器便宜一位數(shù)。 佳能表示，與利用光曝光電路圖案的傳統(tǒng)光刻技術(shù)不同，納米壓印光刻不需要光源，利用
2024-02-01 15:42:05270 
了解量子計(jì)算機(jī)對(duì)于工業(yè)生產(chǎn)和產(chǎn)品研發(fā)的使用
2024-02-01 15:30:35
自己從事語(yǔ)音識(shí)別產(chǎn)品設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)，而量子技術(shù)和量子計(jì)算機(jī)必將在自然語(yǔ)言處理方面實(shí)現(xiàn)重大突破，想通過(guò)此書(shū)學(xué)習(xí)量子計(jì)算技術(shù)，儲(chǔ)備知識(shí)，謝謝！
2024-02-01 12:51:50
量子計(jì)算，神奇神秘，多多學(xué)習(xí)，與時(shí)俱進(jìn)！
2024-02-01 09:05:53
光刻機(jī)是微電子制造的關(guān)鍵設(shè)備，廣泛應(yīng)用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領(lǐng)域。在集成電路制造中，光刻機(jī)被用于制造芯片上的電路圖案。
2024-01-29 09:37:24359 
、工作方式和其實(shí)際應(yīng)用進(jìn)行說(shuō)明。第 3 章主要介紹在汽車(chē)行業(yè)及其他制造業(yè)中，量子計(jì)算機(jī)未來(lái)將引起怎樣的變化，并根據(jù)實(shí)證實(shí)驗(yàn)的事例進(jìn)行說(shuō)明。第 4 章給出了細(xì)分領(lǐng)域的多家企業(yè)人士采訪(fǎng)實(shí)錄，從他們所處領(lǐng)域的角度
2024-01-26 14:00:46
來(lái)源：AIot工業(yè)檢測(cè)，謝謝 編輯：感知芯視界 Link 隨著芯片需求的不斷增長(zhǎng)，芯片制造商正加大采購(gòu)晶圓廠設(shè)備的力度，以提高產(chǎn)能。作為EUV光刻機(jī)制造商，ASML受益于這一趨勢(shì)，其2023
2024-01-26 09:20:12409 據(jù)外媒消息，OpenAI公司擔(dān)憂(yōu)人工智能芯片短缺，計(jì)劃在未來(lái)成立一家芯片制造公司，目前，其首席執(zhí)行官薩姆·奧特曼正在說(shuō)服潛在投資者加入這一計(jì)劃。
2024-01-22 16:26:46603 掩模在芯片制造中起到“底片”的作用，是一類(lèi)不可或缺的晶圓制造材料，在芯片封裝（構(gòu)筑芯片的外殼和與外部的連接)、平板顯示(TFT-LCD液晶屏和OLED屏〉、印刷電路板、微機(jī)電器件等用到光刻技術(shù)的領(lǐng)域也都能見(jiàn)到各種掩模的身影。
2024-01-18 10:25:22145 
關(guān)于光刻機(jī)，大家還記得美國(guó)荷蘭日本的三方協(xié)議嗎？來(lái)回憶一下。 隨著芯片在各個(gè)領(lǐng)域的重要性不斷提升，人們對(duì)芯片制造的關(guān)注也日益增加。 但半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈非常復(fù)雜，不僅僅涉及到底層的架構(gòu)設(shè)計(jì)，還需要通過(guò)
2024-01-17 17:56:59292 什么是光電量子計(jì)算芯片？ 光電量子計(jì)算芯片，也被稱(chēng)為光子量子計(jì)算芯片，是一種新型的計(jì)算芯片，利用光子來(lái)存儲(chǔ)和處理信息。它的核心原理是基于光子的量子疊加性和量子糾纏性質(zhì)，通過(guò)精確控制光子攜帶的信息
2024-01-09 14:42:01241 在10-11月份中國(guó)進(jìn)口ASML的光刻機(jī)激增10多倍后，美國(guó)官員聯(lián)系了荷蘭政府。荷蘭外交發(fā)言人表示，出口許可證是根據(jù)荷蘭國(guó)家安全逐案評(píng)估的。
2024-01-03 15:22:24553 如果我們假設(shè)光刻機(jī)成本為 3.5 億至 4 億美元，并且 2024 年 10 個(gè)光刻機(jī)的HIGH NA 銷(xiāo)售額將在 35億至40億美元之間。
2023-12-28 11:31:39406 ，常見(jiàn)的量子計(jì)算芯片中，無(wú)論是超導(dǎo)、離子阱，還是光子芯片，都是肉眼可見(jiàn)的。而原子級(jí)量子集成電路，則需要通過(guò)掃描隧道顯微鏡等工具才能一探究竟。
2023-12-21 09:58:00300 
現(xiàn)時(shí)，ASML是全球唯一的EUV光刻機(jī)制造商，這臺(tái)設(shè)備主要應(yīng)用于生產(chǎn)7nm及以下制程芯片。目前，ASML年產(chǎn)此類(lèi)設(shè)備數(shù)量有限，供不應(yīng)求。李在镕本次來(lái)訪(fǎng)韓國(guó)主要是與ASML商討優(yōu)先供應(yīng)事宜。
2023-12-18 14:31:12205 歡迎了解 光刻機(jī)（Lithography Machine）是一種半導(dǎo)體工業(yè)中常用的設(shè)備，用于將掩模版上的芯片電路圖轉(zhuǎn)移到硅片上，是IC制造的核心環(huán)節(jié)，光刻機(jī)的基本工作原理是利用光學(xué)原理將圖案投射
2023-12-18 08:42:12278 
讓量子計(jì)算機(jī)走出實(shí)驗(yàn)室真正為人類(lèi)社會(huì)服務(wù)量子芯片載板是量子芯片封裝中不可或缺的一部分，量子芯片的載板就好比城市的‘地基’，它能夠?yàn)榘雽?dǎo)體量子芯片提供基礎(chǔ)支撐和信號(hào)連接，其上集成的電路和器件可有效提升
2023-12-08 15:51:30211 
IBM展示了一款新的量子運(yùn)算芯片Heron和量子運(yùn)算系統(tǒng)Quantum System Two，該公司希望這款芯片和機(jī)器能在10年后成為更大系統(tǒng)的基石。據(jù)悉，量子運(yùn)算系統(tǒng)Quantum System Two將搭載3個(gè)Heron量子運(yùn)算芯片。
2023-12-05 10:27:30194 光刻工藝就是把芯片制作所需要的線(xiàn)路與功能做出來(lái)。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過(guò)具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見(jiàn)光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線(xiàn)路圖的作用
2023-12-04 09:17:241334 
介紹了光量子芯片在未來(lái)實(shí)現(xiàn)可實(shí)用化大規(guī)模光量子計(jì)算與信息處理應(yīng)用方面展示出巨大潛力，并對(duì)硅基集成光量子芯片技術(shù)進(jìn)行介紹。
2023-11-30 10:33:07673 
超導(dǎo)量子芯片是超導(dǎo)量子計(jì)算機(jī)的核心，超導(dǎo)量子芯片技術(shù)也是超級(jí)核心技術(shù)，我國(guó)首枚超導(dǎo)量子芯片日前已經(jīng)正式交付。推動(dòng)了全球量子計(jì)算產(chǎn)業(yè)鏈的共同繁榮。 這家企業(yè)是國(guó)內(nèi)量子計(jì)算行業(yè)內(nèi)最快完成國(guó)際化市場(chǎng)布局
2023-11-29 18:49:33922 雕刻電路圖案的核心制造設(shè)備是光刻機(jī)，它的精度決定了制程的精度。光刻機(jī)的運(yùn)作原理是先把設(shè)計(jì)好的芯片圖案印在掩膜上，用激光穿過(guò)掩膜和光學(xué)鏡片，將芯片圖案曝光在帶有光刻膠涂層的硅片上，涂層被激光照到之處則溶解，沒(méi)有被照到之處保持不變，掩膜上的圖案就被雕刻到芯片光刻膠涂層上。
2023-11-24 12:27:061280 
超大規(guī)模集成電路芯片的設(shè)計(jì)方式，它能使芯片設(shè)計(jì)的效率得到數(shù)百倍提升。在量子計(jì)算時(shí)代，中國(guó)必須要有自己的Q-EDA軟件，作為撬動(dòng)量子芯片大規(guī)模生產(chǎn)制造的關(guān)鍵‘杠桿’
2023-11-23 08:22:18218 EUV曝光是先進(jìn)制程芯片制造中最重要的部分，占據(jù)總時(shí)間、總成本的一半以上。由于這種光刻機(jī)極為復(fù)雜，因此ASML每年只能制造約60臺(tái)，而全球5家芯片制造商都依賴(lài)ASML的EUV光刻機(jī)，包括英特爾、美光、三星、SK海力士、臺(tái)積電。目前，AMSL約有70%的EUV光刻機(jī)被臺(tái)積電購(gòu)買(mǎi)。
2023-11-22 16:46:56383 據(jù)了解，量子芯片是利用量子力學(xué)原理實(shí)現(xiàn)信息的存儲(chǔ)、處理和計(jì)算，其最核心的是量子比特。相比傳統(tǒng)的比特只能存儲(chǔ)0或1兩種狀態(tài)，量子比特可以同時(shí)處于0和1這兩種狀態(tài)的疊加態(tài)，這使得量子芯片能夠?qū)崿F(xiàn)并行計(jì)算和高效的信息處理。
2023-11-20 14:42:34478 
光刻是芯片制造的重要環(huán)節(jié)。以光源波長(zhǎng)劃分，光刻機(jī)分為UV（紫外線(xiàn)）、DUV（深紫外線(xiàn)）、EUV（極紫外線(xiàn)），理論上7納米及以下的先進(jìn)芯片制程工藝只能通過(guò)EUV實(shí)現(xiàn)。
2023-11-12 11:33:14627 
顛覆性技術(shù)!半導(dǎo)體行業(yè)再放大招! 近日，日本佳能官方發(fā)布 納米壓印(NIL)半導(dǎo)體制造設(shè)備 未來(lái)，或?qū)⑻娲鶤SML光刻機(jī) 成為更低成本的芯片制造設(shè)備! 要知道，半導(dǎo)體是目前全球經(jīng)濟(jì)的核心，在中國(guó)
2023-11-08 15:57:14199 
光刻是半導(dǎo)體加工中最重要的工藝之一，決定著芯片的性能。光刻占芯片制造時(shí)間的40%-50%，占其總成本的30%。光刻膠是光刻環(huán)節(jié)關(guān)鍵耗材，其質(zhì)量和性能與電子器件良品率、器件性能可靠性直接相關(guān)。
2023-10-26 15:10:24359 
摘要 玻璃基集成光量子芯片已經(jīng)應(yīng)用于量子計(jì)算、量子模擬、量子通信、量子精密測(cè)量等光量子信息處理領(lǐng)域，顯示出強(qiáng)大的功能。文章從量子計(jì)算和量子模擬兩個(gè)方面介紹利用飛秒激光三維高精度直寫(xiě)技術(shù)在玻璃
2023-10-25 10:04:02507 
大家好，我是硬件花園，一名樂(lè)于分享的硬件工程師。關(guān)注我，了解更多精彩內(nèi)容！ 近日，華中科技大學(xué)劉世元教授團(tuán)隊(duì)成功打破國(guó)外壟斷，成功研發(fā)中國(guó)首款完全自主可控的OPC芯片光刻軟件。 沒(méi)有它，即使有光刻機(jī)
2023-10-20 08:44:011482 
當(dāng)制程節(jié)點(diǎn)演進(jìn)到5nm時(shí)，DUV和多重曝光技術(shù)的組合也難以滿(mǎn)足量產(chǎn)需求了，EUV光刻機(jī)就成為前道工序的必需品了，沒(méi)有它，很難制造出符合應(yīng)用需求的5nm芯片，即使不用EUV能制造出一些5nm芯片，其整個(gè)生產(chǎn)線(xiàn)的良率也非常低，無(wú)法形成大規(guī)模的商業(yè)化生產(chǎn)。
2023-10-13 14:45:03834 
從技術(shù)發(fā)展的角度看，芯片線(xiàn)寬越來(lái)越小，各種光學(xué)效應(yīng)、系統(tǒng)誤差和工藝條件偏差等變得越來(lái)越精細(xì)。計(jì)算光刻可以通過(guò)算法建模、仿真計(jì)算、數(shù)據(jù)分析和結(jié)果優(yōu)化等手段解決半導(dǎo)體制造過(guò)程中的納米級(jí)掩模修復(fù)、芯片設(shè)計(jì)、制造缺陷檢測(cè)與矯正
2023-10-10 16:42:24486 ，采用光量子集成器件替代體塊光學(xué)元件，有望大大縮小量子光路的體積、重量，在有限的尺寸內(nèi)完成所需的功能，最終實(shí)現(xiàn)集光子態(tài)產(chǎn)生、調(diào)控、存儲(chǔ)、探測(cè)于一體的全功能集成光量子芯片。
2023-09-27 10:44:56830 
在芯片制造過(guò)程中，光刻機(jī)用于在硅片上形成光刻膠圖形，作為制造電路的模板。光刻機(jī)使用紫外光或其他光源照射硅片上的光刻膠，并通過(guò)投影光學(xué)系統(tǒng)將圖形投射到硅片上，以形成所需的微小結(jié)構(gòu)和圖案。
2023-09-12 14:34:372324 華為庫(kù)存5G芯片用光？高通將進(jìn)一步提價(jià)？ 近年來(lái)，5G元年已經(jīng)到了，各大手機(jī)廠商也基本上推出了自己的5G手機(jī)產(chǎn)品。而在這些5G手機(jī)中，有很多都是使用了高通的芯片。然而現(xiàn)在互聯(lián)網(wǎng)上流傳著一些關(guān)于
2023-09-01 15:11:43467 光刻蝕（Photolithography）是一種在微電子和光電子制造中常用的加工技術(shù)，用于制造微細(xì)結(jié)構(gòu)和芯片元件。它的基本原理是利用光的化學(xué)和物理作用，通過(guò)光罩的設(shè)計(jì)和控制，將光影投射到光敏材料上，形成所需的圖案。
2023-08-24 15:57:422267 光刻機(jī)有半導(dǎo)體工業(yè)“皇冠上的明珠“之稱(chēng)，是高速生產(chǎn)芯片所需要的最關(guān)鍵和最復(fù)雜的設(shè)備之一（一臺(tái)光刻機(jī)有10萬(wàn)個(gè)組件）。目前全世界的高端光刻機(jī)被荷蘭公司ASML壟斷（中低端產(chǎn)品美國(guó)、日本和中國(guó)均能生產(chǎn)），而絕大部分的組件供應(yīng)商又被美國(guó)控制。
2023-08-21 16:09:33472 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/周凱揚(yáng)）離商用上真正可行的量子計(jì)算機(jī)成熟至少也還需要幾年的時(shí)間，但已經(jīng)開(kāi)始有人質(zhì)疑，目前的EDA工具是否可以滿(mǎn)足量子芯片的設(shè)計(jì)需求？這是因?yàn)?b class="flag-6" style="color: red">量子計(jì)算的設(shè)計(jì)，有時(shí)會(huì)對(duì)傳統(tǒng)的半導(dǎo)體
2023-08-14 09:32:411348 芯片制造的國(guó)產(chǎn)化任重道遠(yuǎn)，比如在EDA工具的國(guó)產(chǎn)化、光刻機(jī)等，國(guó)產(chǎn)化都還有很長(zhǎng)的路要走。有統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示，目前階段我國(guó)在清洗、熱處理、去膠設(shè)備的國(guó)產(chǎn)化率分別達(dá)到34％、40％、90％，在涂膠顯影、刻蝕
2023-08-09 11:50:204182 EUV（Extreme Ultraviolet）光刻機(jī)是一種高級(jí)光刻設(shè)備，用于半導(dǎo)體制造業(yè)中的微電子芯片生產(chǎn)。EUV光刻機(jī)是目前最先進(jìn)的光刻技術(shù)之一，它采用極端紫外光作為曝光光源，具有更短的波長(zhǎng)
2023-07-24 18:19:471095 光刻膠（光敏膠）進(jìn)行光刻，將圖形信息轉(zhuǎn)移到基片上，從而實(shí)現(xiàn)微細(xì)結(jié)構(gòu)的制造。光刻機(jī)的工作原理是利用光學(xué)系統(tǒng)將光線(xiàn)聚焦到光刻膠上，通過(guò)掩膜版（也稱(chēng)為光刻掩膜）上的圖形
2023-07-07 11:46:07
有沒(méi)有跑linux,無(wú)需外部網(wǎng)絡(luò)芯片直接接RJ45的主控芯片？
你看看那些帶45接口的開(kāi)發(fā)板。去新唐官網(wǎng)
2023-06-21 06:36:45
因此光刻機(jī)對(duì)芯片制造非常重要，它是影響芯片制造質(zhì)量和效率的重要因素?？v觀全球光刻機(jī)市場(chǎng)，荷蘭ASML公司一家獨(dú)大，占據(jù)全球80%的光刻機(jī)市場(chǎng)份額，高端EUV光刻機(jī)的市占比更是達(dá)到100%。
2023-06-20 11:42:271258 文章大綱 光刻是芯片制造最核心環(huán)節(jié)，大陸自給率亟待提升 ·光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備，市場(chǎng)規(guī)模全球第二 ·一超兩強(qiáng)壟斷市場(chǎng)，大陸卡脖子現(xiàn)象凸顯 光刻機(jī)：多個(gè)先進(jìn)系統(tǒng)的組合，核心零部件被海外廠商壟斷
2023-06-19 10:04:008367 
研發(fā)的最先進(jìn)的硅自旋量子比特芯片，利用了英特爾數(shù)十年來(lái)積累的晶體管設(shè)計(jì)和制造能力。 在英特爾的晶圓廠里，Tunnel Falls是在300毫米的硅晶圓上生產(chǎn)的，利用了英特爾領(lǐng)先的晶體管工業(yè)化制造能力，如極紫外光刻技術(shù)（EUV），以及柵極和接觸層加工技術(shù)。在硅自旋量子比特中，信息（0/1）被編碼
2023-06-17 10:15:03417 
Tunnel Falls量子芯片是在英特爾的晶圓廠進(jìn)行制造的，使用的是300毫米的硅晶圓。
2023-06-16 15:30:141146 光刻機(jī)可分為前道光刻機(jī)和后道光刻機(jī)。光刻機(jī)既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機(jī)用于芯片的制造，曝光工藝極其復(fù)雜，后道光刻機(jī)主要用于封裝測(cè)試，實(shí)現(xiàn)高性能的先進(jìn)封裝，技術(shù)難度相對(duì)較小。
2023-06-15 11:14:533429 
光刻機(jī)是芯片制造中最復(fù)雜、最昂貴的設(shè)備。芯片制造可以包括多個(gè)工藝，如初步氧化、涂光刻膠、曝光、顯影、刻蝕、離子注入。這個(gè)過(guò)程需要用到的設(shè)備種類(lèi)繁多，包括氧化爐、涂膠顯影機(jī)、光刻機(jī)、薄膜沉積設(shè)備、刻蝕
2023-06-12 10:13:334452 
光刻機(jī)可分為前道光刻機(jī)和后道光刻機(jī)。光刻機(jī)既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機(jī)用于芯片的制造，曝光工藝極其復(fù)雜，后道光刻機(jī)主要用于封裝測(cè)試，實(shí)現(xiàn)高性能的先進(jìn)封裝，技術(shù)難度相對(duì)較小。
2023-06-09 10:49:205857 
夠高同樣以3400B來(lái)說(shuō)，該EUV光刻機(jī)的生產(chǎn)效率是每小時(shí)125片晶圓，還不到DUV光刻機(jī)生產(chǎn)效率的一半。
隨機(jī)效應(yīng)嚴(yán)重DUV時(shí)代就存在，但對(duì)芯片制造影響不大，因此被芯片代工廠忽略。但在EUV時(shí)代，該問(wèn)題開(kāi)始嚴(yán)重影響芯片的良率，隨芯片工藝尺寸越來(lái)越小，隨機(jī)效應(yīng)越發(fā)明顯
2023-06-08 15:56:42283 
。因此，如果芯片廠商想要生產(chǎn)10nm以下的芯片，必須得有ASML供應(yīng)的EUV光刻機(jī)及相應(yīng)的支持服務(wù)。目前最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)能制造小于7nm制程的芯片，每臺(tái)能賣(mài)到
2023-06-08 14:55:0020068 
芯片前道制造可以劃分為七個(gè)環(huán)節(jié)，即沉積、涂膠、光刻、去膠、烘烤、刻蝕、離子注入。
2023-06-08 10:57:093765 
晶圓制造和芯片制造是半導(dǎo)體行業(yè)中兩個(gè)非常重要的環(huán)節(jié)，它們雖然緊密相連，但是卻有一些不同之處。下面我們來(lái)詳細(xì)介紹晶圓制造和芯片制造的區(qū)別。
2023-06-03 09:30:4411589 BOE（京東方）開(kāi)發(fā)的量子點(diǎn)直接光刻（DP-QLED）工藝，僅需要涂膜、曝光、顯影三步即實(shí)現(xiàn)了一種量子點(diǎn)的圖案化；相對(duì)于其它光刻圖案化工藝，步驟減少，無(wú)需引入附加結(jié)構(gòu)，可有效提升效率、成本可大幅降低。
2023-06-01 17:44:041286 由于美國(guó)的干涉，asml的極紫外線(xiàn)光刻機(jī)無(wú)法出口到中國(guó)，甚至深度紫外線(xiàn)光刻機(jī)也受到了限制。很明顯，美國(guó)不會(huì)放松對(duì) EUV光刻機(jī)的出口限制。
2023-06-01 10:43:441552 量子芯片是將量子電路小型化、集成化的工程化實(shí)現(xiàn)，是量子計(jì)算與量子通信等任務(wù)實(shí)現(xiàn)實(shí)用化與商業(yè)化的必然路徑。根據(jù)量子電路所依賴(lài)物理平臺(tái)的不同，量子芯片的技術(shù)路線(xiàn)可以分為超導(dǎo)量子芯片、半導(dǎo)體量子點(diǎn)量子芯片、光量子芯片等。
2023-05-30 15:46:101119 
之前的小講堂有介紹過(guò)，光刻過(guò)程就好比用照相機(jī)拍照，將掩模版上的芯片設(shè)計(jì)版圖曝光到晶圓上，從而制造出微小的電路結(jié)構(gòu)。ASML光刻機(jī)的鏡片組使用極其精密的加工手段制造，使得最終像差被控制在納米級(jí)別，才能穩(wěn)定地通過(guò)曝光印刷微電路。
2023-05-25 10:13:28497 
需要明確什么是EUV光刻機(jī)。它是一種采用極紫外線(xiàn)光源進(jìn)行曝光的設(shè)備。與傳統(tǒng)的ArF光刻機(jī)相比，EUV光刻機(jī)可以將曝光分辨率提高到7納米以下的超高級(jí)別，從而實(shí)現(xiàn)更高清晰度和更高性能的芯片制造。
2023-05-22 12:48:373985 不僅是國(guó)內(nèi)的網(wǎng)友這么認(rèn)為，唯光刻機(jī)論在海外也很有市場(chǎng)，似乎大部分網(wǎng)友都是這樣想的，已經(jīng)到了神化ASML的地步了，只要提到芯片制造就會(huì)強(qiáng)調(diào)光刻機(jī)會(huì)卡脖子，而有了光刻機(jī)，臺(tái)積電這樣的公司就能隨便復(fù)制一樣。
2023-05-15 11:10:271112 
在集成電路制造領(lǐng)域，如果說(shuō)光刻機(jī)是推動(dòng)制程技術(shù)進(jìn)步的“引擎”，光刻膠就是這部“引擎”的“燃料”。
2023-05-13 11:28:381121 
在整個(gè)芯片制造過(guò)程中，幾乎每一道工序的實(shí)施都離不開(kāi)光刻技術(shù)。光刻技術(shù)也是制造芯片最關(guān)鍵的技術(shù)，占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:031033 光刻就是把芯片制作所需要的線(xiàn)路與功能區(qū)做出來(lái)。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過(guò)具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見(jiàn)光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線(xiàn)路圖的作用
2023-04-25 11:05:322260 
光刻是在晶圓上創(chuàng)建圖案的過(guò)程，是芯片制造過(guò)程的起始階段，包括兩個(gè)階段——光掩膜制造和圖案投影。
2023-04-25 09:22:16696 
內(nèi)容來(lái)源：光明日?qǐng)?bào)光明日?qǐng)?bào)記者常河4月14日是第三個(gè)世界量子日。記者從安徽省量子計(jì)算工程研究中心獲悉，中國(guó)量子科技企業(yè)正發(fā)力打造中國(guó)量子芯片設(shè)計(jì)與生產(chǎn)制造鏈，成功開(kāi)發(fā)出國(guó)產(chǎn)自主量子芯片設(shè)計(jì)軟件及國(guó)產(chǎn)量子
2023-04-20 10:21:37542 行業(yè)調(diào)研數(shù)據(jù)顯示，芯片行業(yè)的產(chǎn)值和營(yíng)收一直在不斷提高，同時(shí)其地位受到大眾的關(guān)注。光刻機(jī)在芯片領(lǐng)域當(dāng)然獨(dú)占鰲頭，但一顆芯片的成功不只取決于光刻部分，測(cè)試對(duì)芯片的質(zhì)量更有不容忽視的意義。不論是更小尺寸
2023-04-14 09:48:15686 
近幾年，中國(guó)芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈得到了飛速發(fā)展。除了在光刻機(jī)這一高端設(shè)備受到限制之外，我國(guó)在芯片制造其他方面基本上都達(dá)到了14納米工藝。芯片的制造過(guò)程相當(dāng)繁瑣，一枚芯片的制造起碼要經(jīng)歷上千道的工序，其中
2023-04-12 18:00:032366 
光刻機(jī)是半導(dǎo)體工業(yè)中非常重要的設(shè)備，用于在半導(dǎo)體芯片制造過(guò)程中將芯片圖形化。由于光刻機(jī)的精度和性能要求非常高，其制造難度也相對(duì)較大，目前市場(chǎng)上僅有少數(shù)幾家公司能夠生產(chǎn)出頂級(jí)光刻機(jī)。那么，中國(guó)能否造出頂級(jí)光刻機(jī)呢？
2023-04-07 13:35:244597 一樣。像上文提及的EUV光刻機(jī)則是用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)，此外還有封裝芯片的光刻機(jī)以及用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。 近幾年，我國(guó)本土企業(yè)在光刻機(jī)的研制方面正一步一個(gè)腳印地穩(wěn)步前進(jìn)，拿上海微電子裝備股份有限公司來(lái)說(shuō)，近幾年，其先
2023-04-06 08:56:49679 
制造量子計(jì)算機(jī)的硬件系統(tǒng)，由于目前尚處于早期研發(fā)階段，技術(shù)難度相對(duì)高很多。首先，需要制造量子計(jì)算機(jī)的核心計(jì)算單元——量子處理器（英文簡(jiǎn)稱(chēng)QPU，也稱(chēng)量子芯片）。
2023-03-31 10:50:16946 為2nm及更先進(jìn)芯片的生產(chǎn)提供更強(qiáng)大的助力。 計(jì)算光刻是芯片設(shè)計(jì)和制造領(lǐng)域中最大的計(jì)算工作負(fù)載，每年消耗數(shù)百億CPU小時(shí)。而NVIDIA cuLitho計(jì)算光刻庫(kù)利用GPU技術(shù)實(shí)現(xiàn)計(jì)算光刻，可以極大的降低功耗、節(jié)省時(shí)間。 目前臺(tái)積電、光刻機(jī)制造商阿斯麥，以及EDA巨頭新思科技都已經(jīng)導(dǎo)入
2023-03-23 18:55:377488 
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