電子發(fā)燒友App

硬聲App

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

電子發(fā)燒友網(wǎng)>今日頭條>如何成功地清除來自晶片表面的顆粒污染

如何成功地清除來自晶片表面的顆粒污染

收藏

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴

評(píng)論

查看更多

相關(guān)推薦

探討三種超構(gòu)器件表面的加工方法

超構(gòu)表面是近年來出現(xiàn)一種新型的光學(xué)器件,也被稱為超構(gòu)器件。
2024-03-19 15:23:3283

STM32G070CBT6測(cè)試EXTI,中斷標(biāo)志不能清除怎么解決?

最近用STM32G070CBT6設(shè)計(jì)產(chǎn)品,需要用到fallingexti,但是發(fā)現(xiàn)中斷pending寄存器無法清除,偶爾清除成功立即又置位了,實(shí)際上置位的時(shí)候檢查gpio pin是高,所以說系統(tǒng)運(yùn)行時(shí)候一直在無效的進(jìn)中斷,請(qǐng)問有什么辦法解決
2024-03-13 06:13:08

基于超構(gòu)表面的拉普拉斯光學(xué)微分處理器可用于光學(xué)成像

近日,北京理工大學(xué)黃玲玲教授團(tuán)隊(duì)實(shí)現(xiàn)基于超構(gòu)表面的拉普拉斯光學(xué)微分處理器,可以激發(fā)對(duì)入射角度具有選擇性的環(huán)形偶極共振
2024-03-04 09:24:07381

晶圓表面金屬污染:半導(dǎo)體工藝中的隱形威脅

晶圓表面的潔凈度對(duì)于后續(xù)半導(dǎo)體工藝以及產(chǎn)品合格率會(huì)造成一定程度的影響,最常見的主要污染包括金屬、有機(jī)物及顆粒狀粒子的殘留,而污染分析的結(jié)果可用以反應(yīng)某一工藝步驟、特定機(jī)臺(tái)或是整體工藝中所遭遇的污染程度與種類。
2024-02-23 17:34:23320

COMSOL Multiphysics在超材料與超表面仿真中的應(yīng)用

作為一款強(qiáng)大的多物理場(chǎng)仿真軟件,為超材料和超表面的研究提供了強(qiáng)大的仿真工具。本文將重點(diǎn)介紹COMSOL Multiphysics在周期性超表面透射反射分析中的應(yīng)用,以期為相關(guān)領(lǐng)域的研究提供
2024-02-20 09:20:23

使用ICP-MS/MS進(jìn)行光伏硅片表面Ti納米顆粒表征的實(shí)驗(yàn)過程

較高,極易吸附雜質(zhì)粒子,從而導(dǎo)致硅片表面污染且性能變差,比如顆粒雜質(zhì)會(huì)導(dǎo)致硅片的介電強(qiáng)度降低,金屬離子會(huì)增大光伏電池P-N結(jié)的反向漏電流和降低少子的壽命等。當(dāng)前越來越多的新材料被廣泛
2024-01-11 11:29:04348

水質(zhì)顆粒計(jì)數(shù)器

產(chǎn)品簡(jiǎn)介:OPC-2300液體顆粒計(jì)數(shù)器是普洛帝采用顆粒計(jì)數(shù)器提供者英國(guó)普洛帝分析測(cè)試集團(tuán)公司的核心技術(shù),嚴(yán)格按照英國(guó)普洛帝第八代雙激光窄光顆粒檢測(cè)技術(shù),研制的一款在線液體顆粒計(jì)數(shù)器檢測(cè)設(shè)備,集結(jié)
2024-01-08 11:53:40

labview怎么清除串口緩存的數(shù)據(jù)

LabVIEW 是一款功能強(qiáng)大的圖形化編程軟件,常用于控制、監(jiān)測(cè)和數(shù)據(jù)采集等應(yīng)用。當(dāng)我們使用串口進(jìn)行數(shù)據(jù)通信時(shí),有時(shí)會(huì)遇到串口緩存的數(shù)據(jù)無法及時(shí)清除清除不徹底的情況。解決這個(gè)問題的方法有多種,下面
2024-01-08 11:30:09670

在線水中顆粒計(jì)數(shù)器

產(chǎn)品簡(jiǎn)介:OPC-2300液體顆粒計(jì)數(shù)器是普洛帝采用顆粒計(jì)數(shù)器提供者英國(guó)普洛帝分析測(cè)試集團(tuán)公司的核心技術(shù),嚴(yán)格按照英國(guó)普洛帝第八代雙激光窄光顆粒檢測(cè)技術(shù),研制的一款在線液體顆粒計(jì)數(shù)器檢測(cè)設(shè)備,集結(jié)
2024-01-08 11:13:11

基于毫米級(jí)Au紅外輻射抑制頻率選擇表面的設(shè)計(jì)

基于頻率選擇表面(FSS)的紅外輻射調(diào)控被認(rèn)為是解決熱污染、實(shí)現(xiàn)雙碳目標(biāo)的有效途徑。
2023-12-29 16:21:15166

SK海力士研發(fā)可重復(fù)使用CMP拋光墊技術(shù),降低成本并加強(qiáng)ESG管理

CMP技術(shù)指的是在化學(xué)和機(jī)械的協(xié)同作用下,使得待拋光原料表面達(dá)到指定平面度的過程?;瘜W(xué)藥水與原料接觸后,生成易于拋光的軟化層,隨后利用拋光墊以及研磨顆粒進(jìn)行物理機(jī)械拋光,以清除軟化層。
2023-12-28 15:13:06409

快速單頭研磨機(jī)中等硬度礦物無污染

品牌:久濱型號(hào):JB-120名稱:快速單頭研磨機(jī)一、產(chǎn)品概述:  快速單頭研磨機(jī)中等硬度礦物無污染采用耐磨度好的瑪瑙研缽研棒模擬石白手工磨粉狀態(tài),替代手工研磨,輕松省力,通過研磨時(shí)間的控制使研磨
2023-12-14 09:37:39

在濕臺(tái)工藝中使用RCA清洗技術(shù)

半導(dǎo)體制造業(yè)依賴復(fù)雜而精確的工藝來制造我們需要的電子元件。其中一個(gè)過程是晶圓清洗,這個(gè)是去除硅晶圓表面不需要的顆粒或殘留物的過程,否則可能會(huì)損害產(chǎn)品質(zhì)量或可靠性。RCA清洗技術(shù)能有效去除硅晶圓表面的有機(jī)和無機(jī)污染物,是一項(xiàng)標(biāo)準(zhǔn)的晶圓清洗工藝。
2023-12-07 13:19:14235

redis數(shù)據(jù)會(huì)自動(dòng)清除

Redis數(shù)據(jù)不會(huì)自動(dòng)清除,但它提供了一些機(jī)制來管理數(shù)據(jù)的過期和淘汰。在默認(rèn)情況下,Redis只會(huì)在內(nèi)存中存儲(chǔ)數(shù)據(jù),并且沒有自動(dòng)清除機(jī)制。 Redis數(shù)據(jù)持久化和過期: RDB持久化:Redis可以
2023-12-05 10:13:20729

什么是聚集度指數(shù)PDI粒徑分布-LNP脂質(zhì)納米顆粒的PDI的影響因素

處理和制備,并且不能應(yīng)用于非球形顆粒。六、PDI在納米材料制備中的應(yīng)用 在納米材料制備中,PDI通常被用來評(píng)價(jià)樣品的質(zhì)量和穩(wěn)定性。例如,在制備金屬納米顆粒時(shí),PDI值越小,則顆粒尺寸分布越均勻,表面
2023-11-28 13:38:39

如何避免光模塊接口受到污染?

光模塊接口受到污染可能導(dǎo)致設(shè)備震蕩告警。技術(shù)人員需嚴(yán)格按照操作規(guī)程規(guī)范操作,同時(shí)保持清潔環(huán)境,使用防塵塞和手套,定期清潔模塊。避免使用有顆粒物的物品擦拭,確保光纖口干凈無塵。
2023-11-27 14:28:03129

動(dòng)態(tài)可調(diào)諧超表面的研究進(jìn)展與應(yīng)用

表面能夠?qū)﹄姶挪ǖ钠?、振幅和相位等物理參量進(jìn)行前所未有的調(diào)控,微納加工技術(shù)的發(fā)展進(jìn)一步推動(dòng)了超表面在顯示、成像、傳感、防偽、光場(chǎng)調(diào)控等領(lǐng)域的應(yīng)用前景。
2023-11-16 09:16:25645

用于研究單個(gè)納米顆粒表面的顯微光譜

背景 András Deák博士的研究重點(diǎn)是了解分子如何相互作用并附著在納米顆粒表面背后的物理學(xué)。許多應(yīng)用依賴于以預(yù)定方式附著在納米顆粒表面的引入分子。然而,如果納米顆粒已經(jīng)有分子附著在其表面,則不
2023-11-15 10:33:52174

PCBA表面污染的分類及處理方法

組裝行業(yè)所重視,成為行業(yè)內(nèi)技術(shù)交流研討的主要內(nèi)容之一。因此,本篇文章從PCBA污染物的分類入手,分享了PCBA清潔工藝的一些相關(guān)知識(shí)。
2023-11-10 15:00:14346

詳解錫膏的回流過程

助焊劑活躍,化學(xué)清洗行動(dòng)開始,水溶性助焊劑和免洗型助焊劑都會(huì)發(fā)生同樣的清洗行動(dòng),只不過溫度稍微不同。將金屬氧化物和某些污染從即將結(jié)合的金屬和焊錫顆粒清除。好的冶金學(xué)上的錫焊點(diǎn)要求“清潔”的表面
2023-11-03 15:13:06204

通過檢測(cè)金剛石線鋸硅片表面顆粒負(fù)荷來評(píng)價(jià)清洗工藝的新方法

高效硅太陽能電池的加工在很大程度上取決于高幾何質(zhì)量和較低污染的硅晶片的可用性。在晶圓加工結(jié)束時(shí),有必要去除晶圓表面的潛在污染物,例如有機(jī)物、金屬和顆粒。當(dāng)前的工業(yè)晶圓加工過程包括兩個(gè)清潔步驟。第一個(gè)
2023-11-01 17:05:58135

8gu盤閃存顆粒壞了, 可以自己換16g或者更大的閃存顆粒嗎?

8gu盤閃存顆粒壞了 可以自己換16g或者更大的閃存顆粒
2023-11-01 06:47:37

旋轉(zhuǎn)拉力測(cè)試儀晶片推拉力測(cè)試機(jī)

測(cè)試儀晶片
力標(biāo)精密設(shè)備發(fā)布于 2023-10-31 17:50:46

厚膜晶片電阻和薄膜晶片電阻有什么區(qū)別?

電阻器是電子電路中常見的被動(dòng)元件,用于限制電流、調(diào)整電壓和執(zhí)行其他電阻性功能。在電阻器的制造中,有兩種常見的類型:厚膜晶片電阻和薄膜晶片電阻。這兩種類型的電阻器在結(jié)構(gòu)、性能和應(yīng)用方面都有一些顯著的區(qū)別。本文將介紹厚膜晶片電阻和薄膜晶片電阻的區(qū)別,以幫助讀者更好地理解它們的特性和用途。
2023-10-23 09:00:17840

基于表面等離子光譜梳和金納米顆粒標(biāo)記的快速超靈敏核酸檢測(cè)

眾所周知,傾斜光纖光柵可以激發(fā)眾多的包層模式,并且對(duì)光纖表面周圍環(huán)境敏感。當(dāng)光纖包層模式與表面等離子共振相位匹配時(shí),傾斜光纖光柵可以在金表面激發(fā)倏逝表面等離子體共振波。
2023-10-20 15:48:08330

基于透射型超表面的寬帶線圓極化轉(zhuǎn)換器設(shè)計(jì)

提出了一種工作在 S 波段和 C 波段的寬頻透射型線-圓極化波轉(zhuǎn)換器, 其由五層超表面級(jí)聯(lián)而成。
2023-10-18 10:05:59491

來自中國(guó)科學(xué)院聲學(xué)研究所!《聲表面波SAW傳感器技術(shù)》

表面波(SAW)技術(shù)是一門新興的聲學(xué)與電子學(xué)結(jié)合的邊緣學(xué)科,聲表面波傳感器以高靈敏度和易于集成化等特性,在傳感器林領(lǐng)域應(yīng)用頗多。 本資料來自中國(guó)科學(xué)院聲學(xué)研究所,概述了聲表面波的技術(shù)特性,聲表面
2023-10-12 16:56:42306

FPC表面電鍍知識(shí)

FPC電鍍的前處理 柔性印制板FPC經(jīng)過涂覆蓋層工藝后露出的銅導(dǎo)體表面可能會(huì)有膠黏劑或油墨污染,也還會(huì)有因高溫工藝產(chǎn)生的氧化、變色,要想獲得附著力良好的緊密鍍層必須把導(dǎo)體表面的污染和氧化層去除,使導(dǎo)體表面清潔。
2023-10-12 15:18:24342

輸液瓶玻璃顆粒耐水性測(cè)試設(shè)備

輸液瓶玻璃顆粒耐水性測(cè)試設(shè)備 在國(guó)家藥包材標(biāo)準(zhǔn)中,《YBB00252003-2015 玻璃顆粒在121℃耐水性測(cè)定法和分級(jí)》、《YBB00362004-2015 玻璃
2023-09-28 13:34:40

不同大小的錫膏顆粒對(duì)焊接效果有什么影響

隨著表面貼裝技術(shù)的不斷發(fā)展,越來越多的人開始接觸這個(gè)行業(yè)。當(dāng)我們購(gòu)買錫膏時(shí),焊錫廠家一般都會(huì)問要幾號(hào)粉的錫膏。這是因?yàn)殄a膏顆粒的大小對(duì)焊接有很大的影響,不同顆粒的大小有不同的焊接效果。今天
2023-09-20 16:46:04774

英諾激光:皮秒激光制備鎂合金超疏水表面的工藝及機(jī)理研究

超疏水是一種特殊的潤(rùn)濕性狀態(tài)[3],潤(rùn)濕是指當(dāng)液體與固體表面接觸時(shí),液體取代原氣-固接觸面,而形成新的固-液界面。固體表面的潤(rùn)濕性由靜態(tài)接觸角的大小來表征,如圖1.1所示,當(dāng)液滴穩(wěn)定地停留在固體表面時(shí),在液滴邊緣的切線處與固體表面所形成的夾角被稱為接觸角。
2023-09-19 15:49:51543

銳族 2000w手持式光纖激光除銹機(jī) 激光清洗機(jī)去除金屬表面銹蝕

激光除銹機(jī) 激光清洗銹蝕的原理 激光清洗銹蝕的原理是利用高頻高能激光脈沖照射工件表面,使表面的銹層或涂層發(fā)生瞬間蒸發(fā)或剝離,從而高速有效地清除金屬表面附著物或表面涂層。 
2023-09-15 09:56:53

晶片主要切割方式的原因、區(qū)別和應(yīng)用

晶片切割方式對(duì)晶振的性能和應(yīng)用領(lǐng)域產(chǎn)生重要影響。不同的切割方式適用于不同的需求和環(huán)境條件,提供了多樣性的選擇。本文將深入探討主要的晶片切割方式,包括原因、區(qū)別以及主要的應(yīng)用領(lǐng)域。
2023-09-14 12:08:371069

適用于基于晶圓鍵合的3D集成應(yīng)用的高效單晶圓清洗

不同的微電子工藝需要非常干凈的表面以防止顆粒污染。其中,晶圓直接鍵合對(duì)顆粒清潔度的要求非常嚴(yán)格。直接晶圓鍵合包括通過簡(jiǎn)單地將兩種材料的光滑且干凈的表面接觸來將兩種材料連接在一起(圖1)。在室溫和壓力下,兩種材料表面的分子/原子之間形成的范德華力會(huì)產(chǎn)生粘附力。
2023-09-08 10:30:18188

光學(xué)表面的散射測(cè)量方法發(fā)展的趨勢(shì)

? ? ? ? 摘要:光學(xué)表面的光散射測(cè)量方法為目前測(cè)量光學(xué)元件表面散射特性的一種主要技術(shù),主要包括角分辨測(cè)量法和總積分測(cè)量法。本文對(duì)上述兩種測(cè)量方法的基本原理和實(shí)驗(yàn)裝置進(jìn)行了系統(tǒng)的闡述,并對(duì)兩種
2023-09-08 09:31:43828

一種使用超表面的微光學(xué)平臺(tái)的介紹和應(yīng)用

歷史上,超表面研究一直專注于對(duì)光的特性進(jìn)行充分的操縱,從而產(chǎn)生了各種各樣的光學(xué)設(shè)備,如金屬感應(yīng)器、金屬全息圖和光束衍射設(shè)備。然而,最近的研究已經(jīng)將他們的重點(diǎn)轉(zhuǎn)移到將超表面與其他光學(xué)組件集成上。
2023-09-01 10:01:45398

光學(xué)3D表面輪廓儀可以測(cè)金屬嗎?

光學(xué)3D表面輪廓儀是基于白光干涉技術(shù),結(jié)合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等快速、準(zhǔn)確測(cè)量物體表面的形狀和輪廓的檢測(cè)儀器。它利用光學(xué)投射原理,通過光學(xué)傳感器對(duì)物體表面進(jìn)行掃描,并根據(jù)反射光的信息來
2023-08-21 13:41:46

請(qǐng)問一下銳捷交換機(jī)如何清除密碼呢?

如圖所示,當(dāng)設(shè)備在用戶模式下進(jìn)入全局模式需要輸入密碼,可以通過進(jìn)入boot模式下清除密碼 方案一
2023-08-18 16:15:113077

缸體超聲波清洗棒可除油和污漬

缸體超聲波清洗棒采用超聲波清洗,具有清洗速度快、清洗效果好、對(duì)工件無損傷、降低勞動(dòng)強(qiáng)度、節(jié)約成本等優(yōu)點(diǎn)。缸體超聲波清洗棒對(duì)附著在汽車發(fā)動(dòng)機(jī)缸體表面的機(jī)油、灰塵和顆粒雜質(zhì)通過超聲波處理從金屬表面分離
2023-08-18 11:48:07445

非線性光學(xué)超構(gòu)表面的基礎(chǔ)知識(shí)與應(yīng)用概述

光學(xué)超構(gòu)表面是一種由亞波長(zhǎng)尺度的超構(gòu)單元在面內(nèi)排布而構(gòu)成的準(zhǔn)二維人工結(jié)構(gòu)材料。
2023-08-14 14:34:261523

華為交換機(jī)如何批量清除接口配置信息

華為交換機(jī)如何批量清除接口配置信息
2023-08-14 10:43:211733

各種應(yīng)用最終表面處理選擇的指南

影響傳輸線導(dǎo)體損耗的因素有很多,包括銅箔的表面粗糙度、集膚效應(yīng)和導(dǎo)體的磁導(dǎo)率。集膚效應(yīng)與表面處理密切相關(guān)。當(dāng)信號(hào)頻率增加時(shí),傳輸線中流動(dòng)的電流集中在銅箔的表面,而不是中心,這被稱為集膚效應(yīng)。流在傳輸線表面的電流的集膚深度(Skin depth, δ) - 振幅可以使用下面的方程式得出。
2023-08-09 11:42:29399

切割工藝參數(shù)對(duì)6英寸N型碳化硅晶片的影響

采用砂漿多線切割工藝加工6英寸(1英寸=25.4 mm)N型碳化硅晶體,研究了此工藝中鋼線張力、 線速度、進(jìn)給速度等切割參數(shù)對(duì)晶片切割表面的影響。通過優(yōu)化切割工藝參數(shù),最終得到高平坦度、低翹曲度、 低線痕深度的6英寸N型碳化硅晶片。
2023-08-09 11:25:311051

研究人員制造出直徑近30厘米的光學(xué)超表面

首次成功地使用電子束光刻技術(shù)生產(chǎn)出直徑近30厘米的超表面,這是一項(xiàng)世界紀(jì)錄??茖W(xué)家們現(xiàn)在已經(jīng)在《微/納米圖案、材料和計(jì)量學(xué)雜志》上發(fā)表了他們的方法。 研究人員首次成功地實(shí)現(xiàn)了直徑為30厘米的超表面,與一歐元硬幣對(duì)比。 弗勞恩霍夫應(yīng)用光
2023-08-07 07:17:18405

模內(nèi)電子:智能表面的未來?

未來,表面——無論是廚房電器、汽車內(nèi)飾、醫(yī)療設(shè)備,甚至家具,都將變得越來越智能。嵌入式照明、觸摸敏感度、加熱,甚至觸覺反饋,將使無生命且經(jīng)常被忽略的表面成為無縫集成用戶控件的顯著設(shè)計(jì)特征。如今,人們正在探索制造這些智能表面的最佳方法。
2023-07-12 18:16:07438

聊聊芯片超凈間的顆粒

在芯片制造領(lǐng)域,顆粒的存在可能對(duì)生產(chǎn)過程產(chǎn)生巨大影響。
2023-07-08 09:28:09567

新材料檢測(cè)必備實(shí)驗(yàn)室資源:表面檢測(cè)

新材料表面檢測(cè),多會(huì)面臨表面缺陷檢測(cè)、表面瑕疵檢測(cè)、表面污染物成分分析、表面粗糙度測(cè)試、表面失效分析等需求,以下為常備實(shí)驗(yàn)室資源這是Amanda王莉的第57篇文章,點(diǎn)這里關(guān)注我,記得標(biāo)星01表面檢測(cè)
2023-07-07 10:02:45567

如何降低污染粒子在每一道離子注入過程中的增加量?

對(duì)于許多仍在使用旋轉(zhuǎn)輪的離子注入設(shè)備,大顆粒粒子可能掉落在晶圓表面,這如同一個(gè)高速導(dǎo)彈與建筑物的墻壁碰撞。
2023-06-30 10:11:24605

顆粒計(jì)數(shù)器在油液檢測(cè)中的作用

在許多工業(yè)和運(yùn)輸行業(yè)中,油液是非常重要的潤(rùn)滑劑,并且非常關(guān)鍵的是確保其質(zhì)量。在不斷運(yùn)轉(zhuǎn)的機(jī)器中,油液必然受到泥沙、水分和其他污染物的污染。因此,油液的質(zhì)量檢測(cè)對(duì)于保持設(shè)備的正常運(yùn)轉(zhuǎn)至關(guān)重要。顆粒
2023-06-26 09:16:09158

SMT貼片加工過程中誤印的錫膏如何清除

  一站式PCBA智造廠家今天為大家講講SMT加工誤印的錫膏如何清除?SMT加工清除誤印錫膏的方法。SMT加工如何清除誤印錫膏?在SMT加工工藝中,常會(huì)出現(xiàn)誤印的錫膏,出現(xiàn)這種情況的時(shí)候,有同仁會(huì)使
2023-06-26 09:05:13265

油液顆粒計(jì)數(shù)器檢測(cè)報(bào)告中的微分和積分分別對(duì)應(yīng)哪個(gè)標(biāo)準(zhǔn)

綜上所述,油液顆粒計(jì)數(shù)器檢測(cè)報(bào)告中的微分和積分分別對(duì)應(yīng)了NAS1638和ISO4406標(biāo)準(zhǔn)的不同方面,微分對(duì)應(yīng)了污染等級(jí),而積分對(duì)應(yīng)了顆粒濃度等級(jí)。
2023-06-25 16:10:13307

半導(dǎo)體八大工藝之刻蝕工藝-干法刻蝕

離子束蝕刻 (Ion beam etch) 是一種物理干法蝕刻工藝。由此,氬離子以約1至3keV的離子束輻射到表面上。由于離子的能量,它們會(huì)撞擊表面的材料。晶圓垂直或傾斜入離子束,蝕刻過程是絕對(duì)
2023-06-20 09:48:563989

請(qǐng)問一下8寸 原子層沉積設(shè)備ALD,單晶片。國(guó)內(nèi)設(shè)備大約在什么價(jià)位?。?/a>

為什么要對(duì)擦拭材料中液體顆粒進(jìn)行管控

濕態(tài)發(fā)塵量、擦拭材料、防靜電無塵布、潔凈室擦拭布、清潔擦拭布清洗劑、半導(dǎo)體、超純水、電子產(chǎn)品、平板玻璃、擦拭布、硅晶片等產(chǎn)品的在線或離線顆粒監(jiān)測(cè)和分析,目前是英國(guó)
2023-06-09 11:12:57227

清劑產(chǎn)生液體顆粒污染主要原因及管控辦法

、硅晶片等產(chǎn)品的在線或離線顆粒監(jiān)測(cè) 和分析,目前是英國(guó)普洛帝分析測(cè)試集團(tuán)向水質(zhì)領(lǐng)域及微納米檢測(cè)領(lǐng) 域的重要產(chǎn)品。
2023-06-09 11:12:17252

擦拭布液體顆粒計(jì)數(shù)器

棉簽濕態(tài)發(fā)塵量、擦拭材料、防靜電無塵布、潔凈室擦拭布、清潔擦拭布、清洗劑、半導(dǎo)體、超純水、電子產(chǎn)品、平板玻璃、硅晶片等產(chǎn)品的在線或離線顆粒監(jiān)測(cè)和分析,目前是英國(guó)普洛
2023-06-08 15:56:10

清洗劑液體顆粒計(jì)數(shù)器

、硅晶片等產(chǎn)品的在線或離線顆粒監(jiān)測(cè)和分析,目前是英國(guó)普洛帝分析測(cè)試集團(tuán)向水質(zhì)領(lǐng)域及微納米檢測(cè)領(lǐng)域的重要產(chǎn)品。產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):應(yīng)用:創(chuàng)新性油水雙系型、多用途、多模塊條件;
2023-06-08 15:50:31

康寧Tropel.晶片表面形態(tài)測(cè)量系統(tǒng)-(BOW/WARP)-MIC

System(美國(guó)康寧 晶片表面形態(tài)測(cè)量系統(tǒng)) 行業(yè)簡(jiǎn)稱:平面度測(cè)量?jī)x 2產(chǎn)品特性 Tropel?FlatMaster? 測(cè)量設(shè)備40年來持續(xù)為半導(dǎo)體晶圓制造
2023-06-07 17:32:291535

抓出半導(dǎo)體工藝中的魔鬼-晶圓表面金屬污染

晶圓表面的潔凈度對(duì)于后續(xù)半導(dǎo)體工藝以及產(chǎn)品合格率會(huì)造成一定程度的影響,最常見的主要污染包括金屬、有機(jī)物及顆粒狀粒子的殘留,而污染分析的結(jié)果可用以反應(yīng)某一工藝步驟、特定機(jī)臺(tái)或是整體工藝中所遭遇的污染
2023-06-06 10:29:151093

針對(duì)去離子水在晶片表面處理的應(yīng)用的研究

隨著半導(dǎo)體科技的發(fā)展,在固態(tài)微電子器件制造中,人們對(duì)清潔基底表面越來越重視。濕法清洗一般使用無機(jī)酸、堿和氧化劑,以達(dá)到去除光阻劑、顆粒、輕有機(jī)物、金屬污染物以及硅片表面上的天然氧化物的目的。然而,隨著硅電路和器件結(jié)構(gòu)規(guī)模的不斷減小,英思特仍在專注于探索有效可靠的清潔方法以實(shí)現(xiàn)更好的清潔晶圓表面
2023-06-05 17:18:50437

晶片濕法刻蝕方法

硅的堿性刻蝕液:氫氧化鉀、氫氧化氨或四甲基羥胺(TMAH)溶液,晶片加工中,會(huì)用到強(qiáng)堿作表面腐蝕或減薄,器件生產(chǎn)中,則傾向于弱堿,如SC1清洗晶片或多晶硅表面顆粒,一部分機(jī)理是SC1中的NH4OH
2023-06-05 15:10:011597

是否有人同時(shí)使用所有三個(gè)mcus的Rx->Tx 和 Tx->Rx成功地將3個(gè)esp連接到同一個(gè)uart (uart0)?

我想知道是否有人同時(shí)使用所有三個(gè) mcus 的 Rx->Tx 和 Tx->Rx 成功地將 3 個(gè) esp 連接到同一個(gè) uart (uart0)?我有兩個(gè)設(shè)置串行通信(一
2023-06-02 08:39:29

顆粒計(jì)數(shù)器在油液檢測(cè)中的作用

油液的質(zhì)量檢測(cè)對(duì)于保持設(shè)備的正常運(yùn)轉(zhuǎn)至關(guān)重要。顆粒計(jì)數(shù)器可以用于汽車維修、石油和天然氣行業(yè)以及黃金開采等領(lǐng)域的油液檢測(cè),從而檢測(cè)并減少油液中的污染物質(zhì)量,確保設(shè)備運(yùn)行的穩(wěn)定性和可靠性。
2023-06-01 10:02:46205

碳化硅晶片的超精密拋光工藝

使用化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)方法對(duì)碳化硅晶片進(jìn)行了超精密拋光試驗(yàn),探究了滴液速率、拋光頭轉(zhuǎn) 速、拋光壓力、拋光時(shí)長(zhǎng)及晶片吸附方式等工藝參數(shù)對(duì)晶片表面粗糙度的影響,并對(duì)工藝參數(shù)進(jìn)行了優(yōu)化,最終 得到了表面粗糙度低于0.1 nm的原子級(jí)光滑碳化硅晶片
2023-05-31 10:30:062215

有沒有人使用Arduino IDE成功地將新代碼閃爍到NodeMCU板上?

我買了一堆 NodeMCU 板,原來是 AiThinker 的,標(biāo)有 ESP8266MOD。 有沒有人使用 Arduino IDE 成功地將新代碼閃爍到這個(gè)板上?
2023-05-31 07:36:01

雙波段波導(dǎo)光柵耦合器介紹

光柵耦合器(GCs)由于其在芯片表面的任意定位、晶片級(jí)測(cè)試、大對(duì)準(zhǔn)和制造公差等優(yōu)點(diǎn),可以用于PIC中光纖耦合的I/O接口
2023-05-30 17:14:281344

在線監(jiān)測(cè)油液污染度等級(jí)的必要性

在各種行業(yè)的設(shè)備和系統(tǒng)中,油液固體顆粒都是一種非常常見的危害因素,它們可能導(dǎo)致機(jī)器和系統(tǒng)的故障或甚至損壞。油液污染對(duì)設(shè)備的危害。油液污染會(huì)導(dǎo)致潤(rùn)滑效果降低。機(jī)械設(shè)備的關(guān)鍵部位必須依靠油膜來防止直接
2023-05-30 11:19:41175

表面清潔度在新能源行業(yè)的應(yīng)用介紹

在新能源行業(yè)中應(yīng)用起來。表面清潔度檢測(cè)儀是一種常用于檢測(cè)各種材料表面污染及清洗效果的儀器。它可以測(cè)量并分析物體表面的粒徑、形狀、顏色和表面勢(shì)能等數(shù)據(jù),從而確定其表面的
2023-05-30 10:54:17336

工地?fù)P塵檢測(cè)儀 CCEP CPA帶證書的揚(yáng)塵監(jiān)測(cè)設(shè)備 粉塵顆粒物監(jiān)測(cè)儀

揚(yáng)塵是由于地面上的塵土在風(fēng)力、人為帶動(dòng)及其他帶動(dòng)飛揚(yáng)而進(jìn)入大氣的開放性污染源,是環(huán)境空氣中總懸浮顆粒物的重要組成部分。揚(yáng)塵監(jiān)測(cè)是為了防治大氣污染對(duì)揚(yáng)塵進(jìn)行實(shí)時(shí)在線監(jiān)控的措施。
2023-05-26 17:53:06675

led晶片推拉力機(jī)半導(dǎo)體推拉力測(cè)試儀

led晶片
力標(biāo)精密設(shè)備發(fā)布于 2023-05-24 17:40:04

在CODE V中設(shè)計(jì)自由曲面的前5種工具

當(dāng)今的光學(xué)設(shè)計(jì)師通常負(fù)責(zé)尋找糾正更多像差和使用更少表面的方法,并且在更緊湊的幾何形狀中這樣做,這些幾何形狀必須適合從小型醫(yī)療設(shè)備到更可穿戴的增強(qiáng)現(xiàn)實(shí) (AR) 系統(tǒng)的任何設(shè)備。當(dāng)存在大量折疊表面
2023-05-24 15:44:03886

PTFE表面等離子改性的原理 引入活性基團(tuán) 提高粘附性

PTFE表面等離子改性是一種有效的技術(shù)手段,可以改變PTFE表面的性質(zhì),增加其在各個(gè)領(lǐng)域的應(yīng)用。通過引入親水基團(tuán)、改善表面形貌、形成致密的氟化物膜等方式,可以提高PTFE表面的粘附性、潤(rùn)濕性、抗腐蝕性、耐磨性、生物相容性和電性能。
2023-05-19 10:45:39628

帆宣集團(tuán) 華友化工分公司代理美國(guó)康寧晶片表面形態(tài)測(cè)量系統(tǒng)

來源:華友化工國(guó)際貿(mào)易(上海) 隨著傳統(tǒng)工業(yè)技術(shù)改造、工廠自動(dòng)化以及企業(yè)信息化發(fā)展提速,產(chǎn)業(yè)鏈升級(jí)與自動(dòng)化提升也迫在眉睫。面對(duì)落后的產(chǎn)能和工藝,華友化工國(guó)際貿(mào)易(上海)有限公司針對(duì)美國(guó)康寧晶片表面
2023-05-17 10:23:16772

晶片的酸基蝕刻:傳質(zhì)和動(dòng)力學(xué)效應(yīng)

拋光硅晶片是通過各種機(jī)械和化學(xué)工藝制備的。首先,硅單晶錠被切成圓盤(晶片),然后是一個(gè)稱為拍打的扁平過程,包括使用磨料清洗晶片。通過蝕刻消除了以往成形過程中引起的機(jī)械損傷,蝕刻之后是各種單元操作,如拋光和清洗之前,它已經(jīng)準(zhǔn)備好為設(shè)備制造。
2023-05-16 10:03:00584

物聯(lián)網(wǎng)將如何協(xié)助治理城市空氣污染

但是現(xiàn)在,通過廣泛部署借助低功耗無線局域網(wǎng) (LPWAN) 以無線方式連接到物聯(lián)網(wǎng) (IoT) 的商用空氣質(zhì)量傳感器,有望生成細(xì)粒度數(shù)據(jù)以幫助城市規(guī)劃人員對(duì)大氣污染的累積(和清除)做出更積極的反應(yīng)
2023-05-16 09:08:05495

基于晶圓鍵合的高效單晶圓清洗

就微粒污染而言,不同的微電子工藝需要非常干凈的表面。其中,直接晶片粘接在顆粒清潔度方面有非常積極的要求。直接晶圓鍵合是將兩種材料結(jié)合在一起,只需將它們光滑干凈的表面接觸即可(圖1)。在常溫常壓下,兩種材料表面的分子/原子之間形成的范德華力會(huì)產(chǎn)生附著力
2023-05-09 14:52:19842

鋁箔等離子表面處理設(shè)備原理 增加鋁箔表面的粘附力

通過金徠等離子體處理,可以提高金屬表面的活性,改善金屬表面的結(jié)合力、增強(qiáng)涂層附著力等性質(zhì),使得金屬制品的質(zhì)量和性能得到明顯的改善和提升。此外,等離子體處理還可以改善金屬表面的光潔度,使得金屬表面更加平整光滑。
2023-05-05 10:51:23526

碳化硅晶片的磨拋工藝詳解

薄膜的質(zhì)量以及器件的性能,所以碳化硅襯底材料的加工要求晶片表面超光滑,無缺陷,無損傷,表面粗糙度在納米以下。??
2023-05-05 07:15:001154

超聲波和超電子粒子的去除

顆粒污染是許多行業(yè)產(chǎn)量損失的主要原因,精密的光學(xué)表面需要盡可能地不含污染顆粒。
2023-05-03 19:03:24301

電解液中晶圓的兆聲波清洗

在當(dāng)今的器件中,最小結(jié)構(gòu)的尺寸接近于需要從晶片表面移除的粒子的尺寸。在不破壞脆弱設(shè)備的情況下,在工藝步驟之間去除納米顆粒的清洗過程的重要性正在不斷增長(zhǎng)。兆波清洗可用于單晶片或批量晶片處理。
2023-05-02 16:32:11865

如何使用lua腳本為MQ7、MQ135氣體傳感器和顆粒物傳感器編碼?

如何使用 lua 腳本為 MQ7、MQ135 氣體傳感器和顆粒物傳感器編碼。
2023-04-27 07:23:12

某電廠汽輪機(jī)油顆粒度異常分析及處理

對(duì)機(jī)組運(yùn)行汽輪機(jī)潤(rùn)滑油顆粒污染度(即顆粒度)異常升高的現(xiàn)象進(jìn)行了調(diào)查分析,通過各種油液分析手段,采取逐步排除法,將引起顆粒度異常的原因范圍縮小到了“外部污染”。使問題的解決有了明確的方向。
2023-04-25 13:58:26566

光刻技術(shù)簡(jiǎn)述

光刻技術(shù)是將掩模中的幾何形狀的圖案轉(zhuǎn)移到覆蓋在半導(dǎo)體晶片表面的薄層輻射敏感材料(稱為抗蝕劑)上的過程
2023-04-25 09:55:131057

PCB表面成型的介紹和比較

在下面的圖3中找到。   化學(xué)鎳步驟是一種自動(dòng)催化過程,包括在鈀催化的銅表面上沉積鎳。必須補(bǔ)充含有鎳離子的還原劑,以提供產(chǎn)生均勻涂層所需的適當(dāng)濃度,溫度和酸度。在浸金步驟中,金通過分子交換粘附在鍍鎳
2023-04-24 16:07:02

顆粒人造石墨負(fù)極的制備及性能研究

這一問題,從表面形貌、粒度分布、首次庫(kù)倫效率和充放電比容量、循環(huán)測(cè)試幾個(gè)方面,對(duì)單顆粒人造石墨的顆粒大小對(duì)儲(chǔ)能特性的影響進(jìn)行研究,所得研究成果具有一定的理論和實(shí)踐價(jià)值。
2023-04-23 14:31:001506

討論污染物對(duì)PCB點(diǎn)焊的影響以及有關(guān)清潔的一些問題

污染物的問題正日益突出。盡管傳統(tǒng)表面貼裝技術(shù)(SMT)很好地利用了低殘留和免清洗的焊接工藝,在具有高可靠性的產(chǎn)品中,產(chǎn)品的結(jié)構(gòu)致密化和部件的小型化裝配使得越來越難以達(dá)到合適的清潔等級(jí),同時(shí)由于清潔問題導(dǎo)致
2023-04-21 16:03:02

pcb線路板表面常見的處理方法有哪幾種呢?

PCB墊表面的銅在空氣中容易氧化污染,所以必須對(duì)PCB進(jìn)行表面處理。那么pcb線路板表面常見的處理方法有哪幾種呢?
2023-04-14 14:34:15

共形可重構(gòu)超表面的遠(yuǎn)場(chǎng)波束掃描和雙波束產(chǎn)生

為多通道信息傳輸提供了新的設(shè)計(jì)思路。陣列天線共形可以很容易地集成在飛機(jī)、導(dǎo)彈、衛(wèi)星等載體平臺(tái)的表面,而不會(huì)破壞載體的形狀、結(jié)構(gòu)和空氣動(dòng)力學(xué)。報(bào)告主要研究共形可重構(gòu)超表面的遠(yuǎn)場(chǎng)波束掃描及多波束產(chǎn)生。
2023-04-10 14:15:04907

怎么做才能清除NCF0故障并成功執(zhí)行eMcem_Init()?

() 時(shí)發(fā)現(xiàn) NCF_S0 值始終為 1。我該怎么做才能清除 NCF0 故障并成功執(zhí)行 eMcem_Init()?
2023-04-04 07:31:11

半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場(chǎng):行業(yè)分析

半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場(chǎng)預(yù)計(jì)將達(dá)到129\.1億美元。到 2029 年。晶圓清洗是在不影響半導(dǎo)體表面質(zhì)量的情況下去除顆粒污染物的過程。器件表面晶圓上的污染物和顆粒雜質(zhì)對(duì)器件的性能和可靠性有重大影響。本報(bào)告?zhèn)戎赜诎雽?dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場(chǎng)的不同部分(產(chǎn)品、晶圓尺寸、技術(shù)、操作模式、應(yīng)用和區(qū)域)。
2023-04-03 09:47:511643

氮化鋁單晶的濕法化學(xué)蝕刻

清洗過程在半導(dǎo)體制造過程中,在技術(shù)上和經(jīng)濟(jì)上都起著重要的作用。超薄晶片表面必須實(shí)現(xiàn)無顆粒、無金屬雜質(zhì)、無有機(jī)、無水分、無天然氧化物、無表面微粗糙度、無充電、無氫。硅片表面的主要容器可分為顆粒、金屬雜質(zhì)和有機(jī)物三類。
2023-03-31 10:56:19314

濕清洗過程中硅晶片表面顆粒去除

在整個(gè)晶圓加工過程中,仔細(xì)維護(hù)清潔的晶圓表面對(duì)于在半導(dǎo)體器件制造中獲得高產(chǎn)量至關(guān)重要。因此,濕式化學(xué)清洗以去除晶片表面的污染物是任何LSI制造序列中應(yīng)用最重復(fù)的處理步驟。
2023-03-30 10:00:091940

微型碳納米管晶體管生物傳感器,用于快速、超靈敏、無標(biāo)記食品檢測(cè)

溝道表面的氧化釔薄膜由電子束蒸發(fā)鍍膜儀所蒸鍍的金屬釔加熱氧化形成,隨后在溝道表面蒸鍍金納米薄膜,金納米薄膜會(huì)自團(tuán)聚形成金顆粒,自此完成浮柵型碳納米管場(chǎng)效應(yīng)晶體管(FG-CNT-FET)的制備以及表面的金納米顆粒修飾。
2023-03-23 11:04:101455

怎樣才能獲得集成功能來安裝來自市場(chǎng)的插件才能工作?

我怎樣才能獲得集成功能來安裝來自市場(chǎng)的插件才能工作?我使用的是 IDE 11.6.1,但嘗試使用 11.6.0 得到相同的結(jié)果 我去這里:找到我要的插件,點(diǎn)擊“安裝” 我正在嘗試使用市場(chǎng)上的 IDE 安裝插件并收到此錯(cuò)誤: 我單擊“確定”并得到以下信息: 我點(diǎn)擊確認(rèn)并得到這個(gè):
2023-03-23 06:54:11

已全部加載完成