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TSMC持續(xù)開發(fā)先進(jìn)工藝技術(shù)節(jié)點(diǎn) 中國IC設(shè)計(jì)發(fā)展可期

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2011-09-07 11:23:501556

中國采用28納米技術(shù)開發(fā)芯片

中國頂尖設(shè)計(jì)公司已經(jīng)采用28納米尖端技術(shù)開發(fā)芯片,而本地9.2%無晶圓廠半導(dǎo)體公司亦采用先進(jìn)的45納米或以下的工藝技術(shù)進(jìn)行設(shè)計(jì)及大規(guī)模量產(chǎn)
2011-09-13 09:00:403212

3D封裝與硅通孔(TSV)工藝技術(shù)

對3D封裝技術(shù)結(jié)構(gòu)特點(diǎn)、主流多層基板技術(shù)分類及其常見鍵合技術(shù)發(fā)展作了論述,對過去幾年國際上硅通孔( TSV)技術(shù)發(fā)展動態(tài)給與了重點(diǎn)的關(guān)注。尤其就硅通孔關(guān)鍵工藝技術(shù)如硅片減薄
2011-12-07 11:00:52149

MEMS加工工藝技術(shù)詳解

本文重點(diǎn)描述運(yùn)用MEMS微機(jī)械加工工藝技術(shù)設(shè)計(jì)、加工、生產(chǎn)胎壓傳感器IC芯片,希望對大家學(xué)習(xí)MEMS有所幫助
2012-12-11 14:17:267238

聯(lián)華電子與SuVolta宣布聯(lián)合開發(fā)28納米低功耗工藝技術(shù)

日前,聯(lián)華電子與SuVolta公司宣布聯(lián)合開發(fā)28納米工藝技術(shù),該工藝將SuVolta的SuVolta的Deeply Depleted Channel晶體管技術(shù)集成到聯(lián)華電子的28納米High-K/Metal Gate高效能移動工藝。
2013-07-25 10:10:521049

Mentor Graphics獲得TSMC 10nm FinFET工藝技術(shù)認(rèn)證

? Analog FastSPICE? 電路驗(yàn)證平臺已完成了電路級和器件級認(rèn)證,Olympus-SoC? 數(shù)字設(shè)計(jì)平臺正在進(jìn)行提升,以幫助設(shè)計(jì)工程師利用 TSMC 10nm FinFET 技術(shù)更有效地驗(yàn)證和優(yōu)化其設(shè)計(jì)。10nm V1.0 工藝的認(rèn)證預(yù)計(jì)在 2015 年第 4 季度完成。
2015-09-21 15:37:101300

TSMC認(rèn)證Synopsys IC Compiler II適合10-nm FinFET生產(chǎn)

TSMC已經(jīng)按照Synopsys的IC Compiler? II布局及 布線解決方案,完成了在其最先進(jìn)的10-納米(nm)級FinFET v1.0技術(shù)節(jié)點(diǎn)上運(yùn)行Synopsys數(shù)字、驗(yàn)收及自定義實(shí)施工具的認(rèn)證。
2016-03-23 09:12:011731

半導(dǎo)體工藝技術(shù)

半導(dǎo)體的制造流程以及各工位的詳細(xì)工藝技術(shù)。
2016-05-26 11:46:340

PCB測試工藝技術(shù)

PCB測試工藝技術(shù),很詳細(xì)的
2016-12-16 21:54:480

撓性電路板化學(xué)鎳鈀金工藝技術(shù)研究

撓性電路板化學(xué)鎳鈀金工藝技術(shù)研究
2017-01-22 20:56:130

震撼!Xilinx宣布與TSMC開展7nm工藝合作

確保連續(xù)四代全可編程技術(shù)及多節(jié)點(diǎn)擴(kuò)展的領(lǐng)先優(yōu)勢四代先進(jìn)工藝技術(shù)和3D IC以及第四代FinFET技術(shù)合作 2015年5月28日, 中國北京 - All Programmable 技術(shù)和器件的全球領(lǐng)先
2017-02-09 03:48:04198

Cadence發(fā)布7納米工藝Virtuoso先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)擴(kuò)展平臺

2017年4月18日,中國上海 – 楷登電子(美國Cadence公司,NASDAQ: CDNS)今日正式發(fā)布針對7nm工藝的全新Virtuoso? 先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)平臺。通過與采用7nm FinFET
2017-04-18 11:09:491165

下一代工藝技術(shù)促成了iot大發(fā)展

已經(jīng)浮出水面。人們都認(rèn)為市場上最新的半導(dǎo)體技術(shù)也是您下一設(shè)計(jì)最好的工藝技術(shù),這種想法促進(jìn)了 IoT 的雪崩式發(fā)展。 最近在硅谷舉行的 TSMC 輔助支持系統(tǒng)論壇上清楚的闡述了這種發(fā)展。隨著 20、16 和 10 nm 工藝發(fā)展,最大的代工線負(fù)責(zé)人宣稱,在老工藝
2017-09-14 19:52:445

淺析TSMC和FinFET工藝技術(shù)的Mentor解決方案

Technology (12FFC) 和最新版本 7nm FinFET Plus 工藝的認(rèn)證。Nitro-SoCTM 布局和布線系統(tǒng)也通過了認(rèn)證,可以支持 TSMC 的 12FFC 工藝技術(shù)。
2017-10-11 11:13:422372

蜂窩趨勢引領(lǐng)半導(dǎo)體工藝技術(shù)發(fā)展方向

業(yè)界對哪種 半導(dǎo)體 工藝最適合某一給定應(yīng)用存在著廣泛的爭論。雖然某種特殊工藝技術(shù)能更好地服務(wù)一些應(yīng)用,但其它工藝技術(shù)也有很大的應(yīng)用空間。像 CMOS 、B iC MOS、砷化鎵(GaAs)、磷化
2017-11-25 02:35:02456

工藝技術(shù)發(fā)展推動蜂窩網(wǎng)絡(luò)技術(shù)

業(yè)界對哪種半導(dǎo)體工藝最適合某一給定應(yīng)用存在著廣泛的爭論。雖然某種特殊工藝技術(shù)能更好地服務(wù)一些應(yīng)用,但其它工藝技術(shù)也有很大的應(yīng)用空間。像CMOS、BiCMOS、砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP
2019-03-15 11:06:13447

5G射頻技術(shù)創(chuàng)新,半導(dǎo)體工藝技術(shù)發(fā)展扮演重要角色

在未來數(shù)年內(nèi),仍有數(shù)不清的機(jī)遇推動5G射頻技術(shù)創(chuàng)新,而半導(dǎo)體工藝技術(shù)發(fā)展無疑將扮演重要角色。從整個行業(yè)來看,從工藝和材料開發(fā)到設(shè)計(jì)技巧和建模,再到高頻測試和制造,仍有很多工作需要完成。在實(shí)現(xiàn)5G目標(biāo)的道路上所有學(xué)科都將參與其中,而半導(dǎo)體工程材料技術(shù)是重中之重。
2018-05-28 14:43:00899

Platform 中的多項(xiàng)工具已通過TSMC最新版5nm FinFET 和 7nm FinFET Plus 工藝的認(rèn)證

。Mentor 的工具和 TSMC 的新工藝將協(xié)助雙方共同客戶更快地為高增長市場提供芯片創(chuàng)新。 TSMC 設(shè)計(jì)基礎(chǔ)架構(gòu)營銷部資深總監(jiān) Suk Lee 表示:“Mentor 通過提供更多功能和解決方案來支持我們最先進(jìn)工藝,持續(xù)TSMC 生態(tài)系統(tǒng)帶來了了更高的價值。
2018-05-17 15:19:003391

Synopsys設(shè)計(jì)平臺獲得TSMC工藝認(rèn)證_7-nm FinFET Plus工藝技術(shù)

Synopsys設(shè)計(jì)平臺用于高性能、高密度芯片設(shè)計(jì) 重點(diǎn): Synopsys設(shè)計(jì)平臺獲得TSMC工藝認(rèn)證,支持高性能7-nm FinFET Plus工藝技術(shù),已成功用于客戶的多個設(shè)計(jì)項(xiàng)目。 針對
2018-05-17 06:59:004461

Synopsys 設(shè)計(jì)平臺獲得TSMC最新版且最先進(jìn)的5nm工藝

Synopsys Synopsys近日宣布, Synopsys 設(shè)計(jì)平臺獲得TSMC最新版且最先進(jìn)的5nm工藝技術(shù)認(rèn)證,可用于客戶先期設(shè)計(jì)。通過與TSMC的早期密切協(xié)作,IC CompilerII
2018-06-01 09:35:003784

新思科技推出基于TSMC 7nm FinFET工藝技術(shù)的汽車級IP

基于7nm工藝技術(shù)的控制器和PHY IP具有豐富的產(chǎn)品組合,包括LPDDR4X、MIPI CSI-2、D-PHY、PCI Express 4.0以及安全I(xiàn)P。 IP解決方案支持TSMC 7nm工藝技術(shù)所需的先進(jìn)汽車設(shè)計(jì)規(guī)則,滿足可靠性和15年汽車運(yùn)行要求。
2018-10-18 14:57:216541

Synopsys推出支持TSMC 7nm工藝技術(shù)

、D-PHY、PCI Express 4.0以及安全I(xiàn)P在TSMC 7nm工藝技術(shù)實(shí)現(xiàn)了先進(jìn)的汽車設(shè)計(jì)規(guī)則,以滿足ADAS和自動駕駛芯片的可靠性及運(yùn)行要求。推出此項(xiàng)支持TSMC 7nm工藝技術(shù)的汽車
2018-11-13 16:20:231517

新思科技數(shù)字與定制設(shè)計(jì)平臺通過TSMC 5nm EUV工藝技術(shù)認(rèn)證

關(guān)鍵詞:5nm , Compiler , PrimeTime 新思科技(Synopsys)宣布其數(shù)字和定制設(shè)計(jì)平臺通過了TSMC先進(jìn)的5nm EUV工藝技術(shù)認(rèn)證。該認(rèn)證是多年廣泛合作的結(jié)果,旨在
2018-10-27 22:16:01255

中國配套支撐環(huán)境能否滿足IC設(shè)計(jì)的發(fā)展需求

MPS是一家1997年創(chuàng)立于美國硅谷的模擬IC設(shè)計(jì)公司。當(dāng)時,半導(dǎo)體業(yè)界還沒有專門用于電源管理的工藝技術(shù),為此,MPS公司的創(chuàng)始人邢正人開發(fā)了這種工藝技術(shù),它使電源管理芯片的速度更高、面積更小。
2019-01-16 14:58:58682

邏輯IC工藝技術(shù)的進(jìn)步的體現(xiàn)

IC產(chǎn)業(yè)的進(jìn)步取決于IC制造商繼續(xù)提供更多性能和功能的能力。隨著主流CMOS工藝在理論,實(shí)踐和經(jīng)濟(jì)方面的限制
2019-02-25 09:24:512768

三星宣布已完成5納米FinFET工藝技術(shù)開發(fā)

4月16日,三星官網(wǎng)發(fā)布新聞稿,宣布已經(jīng)完成5納米FinFET工藝技術(shù)開發(fā),現(xiàn)已準(zhǔn)備好向客戶提供樣品。
2019-04-16 17:27:233008

曝光成像與顯影工藝技術(shù)的原理及特點(diǎn)

PCB板上的線路圖形就是PCB線路板廠家采用曝光成像與顯影蝕刻工藝技術(shù)來完成的,無論是PCB多層線路板還是柔性線路板在制作線路圖形時都要用到曝光成像與顯影工藝技術(shù)。下面來詳細(xì)介紹這兩種工藝的加工特點(diǎn)及加工原理。
2019-04-28 15:10:5231336

SONNET中的工藝技術(shù)層介紹

在14版本中,SONNET新引入了一種名為工藝技術(shù)層的屬性定義層,以實(shí)現(xiàn)EDA框架和設(shè)計(jì)流程的平滑過渡。該工藝技術(shù)層實(shí)際上是用戶創(chuàng)建的EM工程中 的多個屬性對象的集合體,其中包括了很多基本屬性設(shè)置,比如層的命名、物理位置、金屬屬性、網(wǎng)格控制選項(xiàng)等等。
2019-10-08 15:17:412021

中芯國際的先進(jìn)制程工藝再獲突破

作為中國大陸技術(shù)先進(jìn)、規(guī)模最大的晶圓代工企業(yè),中芯國際的制程工藝發(fā)展一直備受關(guān)注。歷經(jīng)20年,其制程工藝從0.18微米技術(shù)節(jié)點(diǎn)發(fā)展至如今的N+1工藝。
2020-10-20 16:50:105947

SiFive成功采用臺積電N5工藝技術(shù)首個SoC

最大的RISC-V架構(gòu)廠商SiFive近日宣布,其OpenFive部門已成功采用臺積電(TSMC)的N5工藝技術(shù)流片公司首個SoC,采用2.5D封裝HBM3存儲單元,帶寬7.2Gbps。在半導(dǎo)體行業(yè)中,流片意味著芯片設(shè)計(jì)大功告成,一般會在一年內(nèi)投入商用。
2021-05-01 09:33:002960

多絞屏蔽線處理及焊接工藝技術(shù)綜述

多絞屏蔽線處理及焊接工藝技術(shù)綜述
2021-07-12 09:45:593

楷登電子數(shù)字和模擬流程獲TSMC N3和N4工藝技術(shù)認(rèn)證

)宣布,其數(shù)字和定制/模擬流程已獲得 TSMC N3 和 N4 工藝技術(shù)認(rèn)證,支持最新的設(shè)計(jì)規(guī)則手冊(DRM)。通過持續(xù)合作,Cadence 和 TSMC 發(fā)布了 TSMC N3 和 N
2021-10-26 15:10:581928

西門子獲先進(jìn)模擬IC代工工藝技術(shù)認(rèn)證_環(huán)旭電子投資氮化鎵系統(tǒng)有限公司

Siemens Digital Industries Software宣布,其用于模擬、數(shù)字和混合信號集成電路 (IC) 設(shè)計(jì)的電源完整性分析的全新 mPower? 解決方案現(xiàn)已通過 Tower Semiconductor 的 SBC13 和 SBC18 工藝技術(shù)的認(rèn)證。
2022-03-16 14:56:571762

全面解讀電子封裝工藝技術(shù)

全面解讀電子封裝工藝技術(shù)
2022-10-10 11:00:51876

Cadence定制設(shè)計(jì)遷移流程加快臺積電N3E和N2工藝技術(shù)的采用速度

,包括最新的 N3E 和 N2 工藝技術(shù)。這一新的生成式設(shè)計(jì)遷移流程由 Cadence 和臺積電共同開發(fā),旨在實(shí)現(xiàn)定制和模擬 IC 設(shè)計(jì)在臺積電工藝技術(shù)之間的自動遷移。與人工遷移相比,已使用該流程的客戶成功地將遷移時間縮短了 2.5 倍。
2023-05-06 15:02:15801

Cadence數(shù)字和定制/模擬設(shè)計(jì)流程獲得TSMC最新N3E和N2工藝技術(shù)認(rèn)證

楷登電子(美國 Cadence 公司,NASDAQ:CDNS)近日宣布,Cadence 數(shù)字和定制/模擬設(shè)計(jì)流程已通過 TSMC N3E 和 N2 先進(jìn)工藝的設(shè)計(jì)規(guī)則手冊(DRM)認(rèn)證。兩家公司還發(fā)
2023-05-09 10:09:23708

三大頂流半導(dǎo)體廠商高端工藝逐鹿,你更看好誰

在代工行業(yè),采用先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)更能帶來明顯的成本競爭優(yōu)勢。2020年,臺積電(TSMC)是業(yè)界唯一同時使用7nm和5nm工藝節(jié)點(diǎn)用于IC制造的企業(yè),此舉也使得TSMC每片晶圓的總收入大幅增加,達(dá)到1634美元。這一數(shù)字比GlobalFoundries高66%,是UMC和中芯國際的兩倍多。
2023-05-20 14:58:50629

1天工藝技術(shù)培訓(xùn)、1天技術(shù)產(chǎn)業(yè)報(bào)告分享,凝聚先進(jìn)封測奮進(jìn)力量!

來源:ACT半導(dǎo)體芯科技 隨著我國集成電路國產(chǎn)化進(jìn)程的加深、下游應(yīng)用領(lǐng)域的蓬勃發(fā)展以及國內(nèi)先進(jìn)封測龍頭企業(yè)工藝技術(shù)的不斷進(jìn)步,先進(jìn)封測行業(yè)市場空間將進(jìn)一步擴(kuò)大。而能否實(shí)現(xiàn)全產(chǎn)業(yè)鏈的協(xié)同發(fā)展,是先進(jìn)
2023-07-17 20:04:55320

2006電子元器件搪錫工藝技術(shù)要求

2006電子元器件搪錫工藝技術(shù)要求
2023-08-23 16:48:033

Cadence 定制/模擬設(shè)計(jì)遷移流程加速 TSMC 先進(jìn)制程技術(shù)的采用

流程,能兼容所有的 TSMC(臺積電)先進(jìn)節(jié)點(diǎn),包括最新的 N3E 和 N2 工藝技術(shù)。 這款生成式設(shè)計(jì)遷移流程由 Cadence 和 TSMC 共同開發(fā),旨在實(shí)現(xiàn)定制和模擬 IC 設(shè)計(jì)在 TSMC
2023-09-27 10:10:04301

電子產(chǎn)品裝聯(lián)工藝技術(shù)詳解

電子產(chǎn)品裝聯(lián)工藝技術(shù)詳解
2023-10-27 15:28:22373

MEMS封裝中的封帽工藝技術(shù)

密性等。本文介紹了五種用于MEMS封裝的封帽工藝技術(shù),即平行縫焊、釬焊、激光焊接、超聲焊接和膠粘封帽??偨Y(jié)了不同封帽工藝的特點(diǎn)以及不同MEMS器件對封帽工藝的選擇。本文還介紹了幾種常用的吸附劑類型,針對吸附劑易于飽和問題,給出了封帽工藝解決方案,探
2024-02-25 08:39:28171

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